JP5678177B2 - Substrate support device and drying device - Google Patents
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Description
本発明は、基板支持装置、及び乾燥装置に関する。 The present invention relates to a substrate support device and a drying device.
液晶パネルは、液晶層を挟んで互いに向かい合う一対のガラス基板を備えている。これらのガラス基板上には、配線パターン、電極パターン等のパターンが形成されている。このようなガラス基板上のパターンは、一般的に、フォトリソグラフィ技術を利用して形成されている。 The liquid crystal panel includes a pair of glass substrates facing each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. On these glass substrates, patterns such as a wiring pattern and an electrode pattern are formed. Such a pattern on a glass substrate is generally formed using a photolithography technique.
フォトリソグラフィ技術は、パターン形成対象物上にパターン状のマスクを形成し、このマスクを介してエッチングを行うことによって、前記パターン形成対象物上にパターンを形成する技術である。そのため、フォトリソグラフィ技術を利用してガラス基板上にパターンを形成する場合、先ず、ガラス基板上にパターン状のマスクが形成される。 The photolithography technique is a technique for forming a pattern on the pattern formation object by forming a patterned mask on the pattern formation object and performing etching through the mask. Therefore, when a pattern is formed on a glass substrate using photolithography technology, first, a patterned mask is formed on the glass substrate.
ところで、このマスクは、フォトレジスト材料からなる層が、パターン状に加工されたものからなる。フォトレジスト材料は、感光性を有する物質を所定の溶剤に溶解させたもの等からなり、当初は流動性を備えている。そのため、パターン状の前記マスクを形成する度に、流動性を備えた状態のフォトレジスト材料が、ガラス基板上に塗布されている。 By the way, this mask is formed by processing a layer made of a photoresist material into a pattern. The photoresist material is made of a material having photosensitivity dissolved in a predetermined solvent, and initially has fluidity. Therefore, every time the patterned mask is formed, a photoresist material having fluidity is applied on the glass substrate.
ガラス基板上に塗布されたフォトレジスト材料は、その後、特許文献1に示されるように、乾燥室内で乾燥される。このような乾燥は、特許文献1に示されるように、減圧された乾燥室内で行われる。なお、乾燥室内において、前記ガラス基板は、その裏面側から複数本の支持ピンを備えた支持装置によって支えられている。 The photoresist material applied on the glass substrate is then dried in a drying chamber as disclosed in
なお、特許文献1に示されるように、前記ガラス基板が支持ピンによって支えられている部分と、その他の部分とでは、温度差が発生することが知られている。このような温度差が発生すると、フォトレジスト材料の乾燥速度に差がついてしまい、フォトレジスト材料からなる塗膜(層)に、乾燥ムラが発生する。そこで、特許文献1では、乾燥室内で、ガラス基板上のフォトレジスト材料を乾燥している最中に、前記ガラス基板を支える支持ピンの位置を、適宜、変更している。 As shown in
(発明が解決しようとする課題)
フォトレジスト材料が塗布されたガラス基板を、乾燥室内で乾燥させる際に、前記ガラス基板を複数本の支持ピンによって支えるパターン(支持パターン)は、前記ガラス基板の種類に応じて異なっている。そのため、乾燥対象とされる前記ガラス基板として、複数種のものがある場合、その種類毎に、それぞれ別途、前記ガラス基板を支持する装置を用意する必要があり、問題となっている。(Problems to be solved by the invention)
When a glass substrate coated with a photoresist material is dried in a drying chamber, a pattern (support pattern) that supports the glass substrate by a plurality of support pins varies depending on the type of the glass substrate. Therefore, when there are a plurality of types of glass substrates to be dried, it is necessary to prepare a device for supporting the glass substrate separately for each type, which is a problem.
本発明の目的は、複数本の支持ピンからなり基板を支えるための支持パターンを、複数種形成可能な技術を提供することである。 An object of the present invention is to provide a technique capable of forming a plurality of types of support patterns for supporting a substrate made of a plurality of support pins.
(課題を解決するための手段)
本発明に係る基板支持装置は、互いに平行に配されると共に各々の両端が軸支され、各々が回転可能であると共に静止可能な複数の軸ユニットと、各軸ユニットの各周方向に複数突出して設けられるピンであって、各軸方向に1本又は2本以上並んでピン列を構成してなり、各軸ユニットにおいて当該ピンの軸方向が同一となる前記ピン列がそれぞれ各軸ユニット毎に選択されることによって、基板を支えるための支持パターンが複数種形成され、前記支持パターンを成す各々の先端で前記基板を支える複数の支持ピンと、前記支持パターンのうちの何れか1つを形成するために、各軸ユニットの回転角度を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。(Means for solving the problem)
The substrate support device according to the present invention is arranged in parallel to each other and is pivotally supported at both ends, each of which is rotatable and stationary, and a plurality of shaft units projecting in the circumferential direction of each shaft unit. 1 or 2 or more pins are arranged side by side in each axial direction, and each pin unit has the same pin direction in each axis unit. Is selected, a plurality of support patterns for supporting the substrate are formed, and a plurality of support pins for supporting the substrate at each of the tips forming the support pattern and any one of the support patterns are formed. In order to do so, a control unit that controls the rotation angle of each axis unit is provided.
前記基板支持装置において、前記基板が、複数の第1領域と各第1領域を区切る第2領域とからなる領域パターンを含む表裏一対の板面と、表側の前記板面を覆う塗膜とを有し、前記支持ピンは、前記支持パターンを成す際に、各々の先端が、前記基板の前記第2領域内に収まるように、各軸ユニットの各周面上に設けられてもよい。前記基板支持装置は、前記支持ピンが、前記支持パターンを成す際に、各々の先端が、前記基板の裏側における前記第2領域内に収まるように、各軸ユニットの各周面上に設けられるため、少なくとも第1領域上を覆う部分の塗膜が、各支持ピンの先端からの影響を受けにくい。 In the substrate support apparatus, the substrate includes a pair of front and back plate surfaces including a region pattern including a plurality of first regions and a second region dividing each first region, and a coating film covering the front plate surface. The support pins may be provided on the peripheral surfaces of the respective axis units so that the tips of the support pins are within the second region of the substrate when the support pattern is formed. The substrate support device is provided on each peripheral surface of each axis unit so that, when the support pins form the support pattern, each tip is within the second region on the back side of the substrate. For this reason, at least a portion of the coating film covering the first region is not easily affected by the tip of each support pin.
前記基板支持装置において、前記基板が、前記領域パターンが互いに異なる複数種のものからなり、前記支持ピンは、前記基板の種類毎に対応した支持パターンをそれぞれ形成することが好ましい。 In the substrate support apparatus, it is preferable that the substrate is composed of a plurality of types having different region patterns, and the support pins respectively form support patterns corresponding to the types of the substrates.
前記基板支持装置において、前記軸ユニットが、それぞれ独立して回転角度を制御できる駆動源を有してもよい。前記基板支持装置において、前記軸ユニットが、それぞれ独立して回転角度を制御できる駆動源を有していると、各軸ユニットにおける各支持ピンによって形成できる支持パターンの種類を増加できる。 The said board | substrate support apparatus WHEREIN: The said shaft unit may have a drive source which can control a rotation angle each independently. In the substrate support apparatus, if the shaft units have drive sources capable of independently controlling the rotation angle, the types of support patterns that can be formed by the support pins in each shaft unit can be increased.
前記基板支持装置において、前記支持ピンは、各軸ユニットの各周面上に、互いに同じパターンで設けられていてもよい。各軸ユニットの各周面上に、支持ピンが互いに同じパターンで設けられていると、用意すべき軸ユニットの種類を削減できる。 In the substrate support apparatus, the support pins may be provided in the same pattern on each peripheral surface of each axis unit. If the support pins are provided in the same pattern on each peripheral surface of each shaft unit, the types of shaft units to be prepared can be reduced.
前記基板支持装置において、前記支持ピンに前記支持パターンを形成させるための支持パターン情報が予め記憶されている記憶部を備え、前記制御部は、前記支持パターン情報に基づいて、各軸ユニットの回転角度を制御してもよい。 The substrate support apparatus includes a storage unit in which support pattern information for forming the support pattern on the support pins is stored in advance, and the control unit rotates each axis unit based on the support pattern information. The angle may be controlled.
前記基板支持装置において、前記基板が表示パネル用であり、前記第1領域が表示領域からなり、前記第2領域が非表示領域からなるものであってもよい。 In the substrate support apparatus, the substrate may be for a display panel, the first area may be a display area, and the second area may be a non-display area.
前記基板支持装置において、前記塗膜がレジスト材料からなるものであってもよい。 In the substrate support apparatus, the coating film may be made of a resist material.
本発明に係る乾燥装置は、前記基板支持装置と、前記基板支持装置が収容される乾燥室と、を備える。 The drying device according to the present invention includes the substrate support device and a drying chamber in which the substrate support device is accommodated.
前記乾燥装置において、前記乾燥室は、減圧下で乾燥を行うものであってもよい。 In the drying apparatus, the drying chamber may perform drying under reduced pressure.
(発明の効果)
本発明によれば、複数本の支持ピンからなる基板を支えるための支持パターンを、複数種形成可能な技術を提供できる。(Effect of the invention)
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the technique which can form multiple types of support patterns for supporting the board | substrate which consists of a several support pin can be provided.
<実施形態1>
本発明の実施形態1を、図1ないし図9を参照しつつ説明する。図1は、本発明の実施形態1に係る基板支持装置2を備えた乾燥装置1の概略構成を模式的に表した説明図である。図1に示されるように、乾燥装置1は、主として、乾燥室3と、この乾燥室3内に収容された状態で使用される基板支持装置2とを備えている。<
乾燥装置1は、ガラス基板(基板の一例)4の表面41上に塗布されているフォトレジスト材料からなる層(以下、レジスト層)(塗膜の一例)Rを、乾燥室3内で乾燥させる装置である。ガラス基板4は、その裏面42側から、乾燥室3内で、基板支持装置2によって支えられる。ガラス基板4上のレジスト層Rは、減圧された乾燥室3内で、基板支持装置2によって支持された状態で乾燥される。 The
図2は、基板支持装置2の斜視図である。図2に示されるように、基板支持装置2は、複数本(本実施形態では、3本)の軸ユニット21(21A,21B,21C)を備えている。各軸ユニット21(21A,21B,21C)は、それぞれ円柱状の本体部23(23A,23B,23C)と、各本体部23(23A,23B,23C)の中心部を通ると共に、各本体部23の両端部から、それらの一部が突出した軸部24(24A,24B,24C)とを備えている。 FIG. 2 is a perspective view of the
各軸ユニット21は、その本体部23の両端部から突出している部分の軸部24,24が、支持部材27,27によって軸支されている。支持部材27,27は、互いに平行に配されている。各軸ユニット21(21A,21B,21C)は、それぞれ回転可能に軸支されている。そして、3本の軸ユニット21(21A,21B,21C)は、何れもこれらの支持部材27,27によって軸支された状態で、互いに平行に配されている。なお、隣り合った軸ユニット21同士の間には、所定の間隔が設けられている。この間隔は、後述する支持パターンを考慮して、適宜、設定されている。また、図1に示されるように、支持部材27は、乾燥室3の底に立設されている支柱28によって、水平を保った状態で固定されている。 In each
図2に示されるように、支持部材27に軸支されている各軸ユニット21(21A,21B,21C)の一方の端部(軸部)24(24A,24B,24C)には、それぞれプーリ25(25A,25B,25C)が取り付けられている。これらのプーリ25(25A,25B,25C)は、互いに間隔をおいて一列に並ぶように配されている。そしてその列の延長線上には、モータ6が備える出力軸61の先端部62が配されている。このモータ(駆動源の一例)6は、例えば、サーボモータからなり、制御部7によって、その駆動が制御される。そして、各プーリ25(25A,25B,25C)と、モータ6の先端部62とには、継ぎ目のない環状の(所謂、シームレス状の)伝達ベルト26が架けられている。つまり、モータ6の出力が、伝達ベルト26を介して各軸ユニット21(21A,21B,21C)に伝達されるように構成されている。なお、モータ6の駆動を制御する制御部7は、例えば、CPUを中心として構成されたマイクロコンピュータからなる。 As shown in FIG. 2, one end (shaft portion) 24 (24A, 24B, 24C) of each shaft unit 21 (21A, 21B, 21C) pivotally supported by the
図2に示されるように、各軸ユニット21の本体部23の表面上には、複数本の支持ピン22が設けられている。各支持ピン22は、本体部23の表面(周面)から外側に向かって真っ直ぐに突出するように設けられている。これらの支持ピン22は、各軸ユニット21の本体部23の周面上に、それぞれ規則的に設けられている。なお、支持ピン22は、合成樹脂製、金属製等の公知の材料から形成される。ここで、軸ユニット21Aを例に挙げて、その本体部23Aの周面上に規則的に設けられる支持ピン22について、説明する。 As shown in FIG. 2, a plurality of support pins 22 are provided on the surface of the
図2に示されるように、軸ユニット21Aの本体部23A上には、合計6本の支持ピン22が立設されている。これらの支持ピン22は、設けられる個所の違いによって3組に分けられる。1つ目の組は、1本の支持ピン22A1からなり、2つ目の組は、2本の支持ピン22A2,22A2からなり、3つ目の組は、3本の支持ピン22A3,22A3,22A3からなる。 As shown in FIG. 2, a total of six support pins 22 are erected on the
1つ目の組における1本の支持ピン22A1は、円柱状の本体部23Aの軸方向における略中央部分に突出するように設けられている。また、2つ目の組における2本の支持ピン22A2,22A2は、本体部23Aの軸方向に沿って一列に並んで突出するように設けられている。そして、これらの支持ピン22A2,22A2は、円柱状の本体部23Aを三等分するような位置に設けられている。また、3つ目の組における3本の支持ピン22A3,22A3,22A3は、本体部23Aの軸方向に沿って一列に並んで突出するように設けられている。これら3本の支持ピン22A3のうち、1本の支持ピン22A3は、円柱状の本体部23Aの軸方向における略中央部分に設けられている。そして、残りの2本の支持ピン22A3,22A3は、本体部23Aの端側に、それぞれ設けられている。 One support pin 22A1 in the first group is provided so as to protrude to a substantially central portion in the axial direction of the cylindrical
上述した1つ目の組における支持ピン22A1は、1本で1つのピン列を構成している。また、2つ目の組における支持ピン22A2は、2本で1つのピン列を構成している。また、3つ目の組における支持ピン22A3は、3本で1つのピン列を構成している。なお、本明細書における「ピン列」は、各軸ユニット21の軸方向に、1本の又は2本以上並んだ支持ピン22によって形成されるものとする。 One support pin 22A1 in the first group described above constitutes one pin row. Further, two support pins 22A2 in the second group constitute one pin row. Further, three support pins 22A3 in the third group constitute one pin row. In the present specification, the “pin array” is formed by one or two or more support pins 22 arranged in the axial direction of each
図3は、軸方向から見た軸ユニット21Aの説明図である。図3に示されるように、支持ピン22A1からなるピン列200(200A1)と、支持ピン22A2からなるピン列200(200A2)と、支持ピン22A3からなるピン列200(200A3)とが、軸ユニット21Aの周方向において互いに間隔を保って、本体部23Aの周面上にそれぞれ配されている。本実施形態において、ピン列200同士は、互いに120°の角度を保つように本体部23Aの周面上に配されている。 FIG. 3 is an explanatory diagram of the
なお、図2に示されるように、他の軸ユニット21(21B,21C)にも、軸ユニット21Aと同様の規則に従って、複数の支持ピン22(22B1,22B2,22B3,22C1,22C2,22C3)が設けられている。本実施形態においては、各軸ユニット21に設けられている支持ピン22の本数、及びそれらが設けられている個所は、何れも同じに設定されている。つまり、3本の軸ユニット21(21A,21B,21C)同士は、互いに同じ形状である。そのため、本実施形態の場合、1種類の軸ユニット21が、3本利用されている。 2, the other shaft units 21 (21B, 21C) also have a plurality of support pins 22 (22B1, 22B2, 22B3, 22C1, 22C2, 22C3) according to the same rules as the
軸ユニット21は、その本体部23Aの周面上に設けられている各支持ピン22を、ピン列毎に、直立した状態で静止できるように構成されている。そして直立した状態の各支持ピン22の先端が、基板4を支持するために、その裏面42と接触できるように構成されている。なお、軸ユニット21の端部には、軸ユニット21の回転を防止するロック機構(不図示)が設けられており、このロック機構等によって、軸ユニット21の回転が必要に応じて防止される。 The
また、図3に示されるように、軸ユニット21が回転すると、直立した状態で静止するピン列が他のものに切り替わるように構成されている。なお、図3には、反時計回りに回転する軸ユニット2が示されているが、他の実施形態においては、軸ユニット2は反対回り(つまり、時計回り)に回転するように構成されてもよい。 Also, as shown in FIG. 3, when the
モータ6が制御部7(図1参照)からの指令を受けて駆動すると、その出力軸61が回転して、その先端部62から伝達ベルト26に力が伝えられる。すると、伝達ベルト26が回転し始め、更にこの伝達ベルト26に連動して、各軸ユニット21が備えている各プーリ25もそれぞれ回転し始める。すると、各プーリ25の回転に伴って、各軸ユニット21もそれぞれ回転し始める。本実施形態の場合、各軸ユニット21は、互いに同じタイミングで、同じ角度回転するように構成されている。なお、各軸ユニット21の回転角度は、モータ6の駆動(回転)に応じて、適宜、調整される。 When the
このように、モータ6を駆動させると、各軸ユニット21をそれぞれ所定の角度だけ回転させることができる。なお、各軸ユニット21を、所定の角度だけ回転させるためにモータ6を駆動させる必要な情報(支持パターン情報)は、予め記憶部5に記憶されている。制御部7は、必要に応じて、記憶部5から前記情報を取得し、その取得された情報に基づいて、各軸ユニット21の回転角度を調整する。 Thus, when the
基板支持装置2において、各軸ユニット21における各支持ピン22の軸方向が同一となるピン列200が、それぞれ各軸ユニット21毎に選択されることによって、基板4を支えるための支持パターン(第1支持パターン)が形成される。後述するように、本実施形態の基板支持装置2は、他の基板4Xを支持するための支持パターン(第2支持パターン)も更に形成できる。つまり、基板支持装置2は、1つの装置で、2種類の基板4,4Xにそれぞれ対応した、2種類の支持パターンを形成できる。 In the
ここで、図4及び図5を参照しつつ、基板4を支えるために、基板支持装置2によって形成される第1支持パターンについて説明する。図4は、各軸ユニット21上の支持ピン22が第1支持パターンを成した状態を示す説明図であり、図5は、第1支持パターンによって支持されるガラス基板4の平面図である。図4に示されるように、軸ユニット21Aでは、ピン列200A2における2本の支持ピン22A2,22A2が直立した状態にあり、軸ユニット21Bでは、ピン列200B2における2本の支持ピン22B2,22B2が直立した状態にあり、軸ユニット21Cでは、ピン列200C2における2本の支持ピン22C2,22C2が直立した状態にある。なお、支持ピン22が直立した状態とは、支持ピン22の先端が上方を向くと共に、その軸方向が鉛直方向に沿った状態のことである。 Here, the first support pattern formed by the
図4に示される各軸ユニット21は、それぞれ2本の支持ピン22からなるピン列200が選択された状態にある。これらの直立した状態にある合計6本の支持ピン22(22A2,22A2,22B2,22B2,22C2,22C2)が、基板4を支えるための第1支持パターンを成している。 Each
図5に示されるように、基板4の表面41上には、レジスト層Rがその全面に形成されている。また、基板4の表面41上には、複数個(6個)の表示領域(第1領域の一例)43が互いに間隔を保った状態で割り当てられている。これら6個の表示領域43は、基板4の表面上に、横三列及び縦二列の状態で並べられている。各表示領域43は、何れも同じ矩形状であり、同じ大きさに設定されている。 As shown in FIG. 5, a resist layer R is formed on the
そして、各表示領域43を区切るように、非表示領域(第2領域の一例)44が、基板4の表面41上に配されている。非表示領域44は、各表示領域43をそれぞれ取り囲むような枠状の領域からなる。つまり、基板4の表面41上には、表示領域43と非表示領域44とからなる領域パターンが形成されている。なお、説明の便宜上、図5には、レジスト層Rの下側にある表示領域43及び非表示領域44からなる領域パターンが図示されている。 A non-display area (an example of a second area) 44 is arranged on the
本実施形態における基板4は、液晶パネル(表示パネルの一例)に利用される複数のガラス基板を、まとめて製造するための基板(所謂、マザーガラス基板)である。上述した各表示領域43は、各液晶パネルに備えられる表示領域に対応している。 The
図5に示されるように、基板4は、その裏面42側から、上述した第1支持パターンを成す6本の支持ピン22(22A2,22A2,22B2,22B2,22C2,22C2)によって支えられる。なお、基板4は、ロボットアーム等を利用して、第1支持パターンを成す各支持ピン22の先端上に載せられる。各支持ピン22の先端は、基板4の非表示領域44内に収まるように配されている。非表示領域44は、電極パターン等が形成されない個所であるため、非表示領域44上を覆っている部分のレジスト層Rは実質的に、不要である。そのため、この非表示領域44上のレジスト層Rに乾燥ムラが生じても、電極パターン等の形成に問題は生じない。本実施形態の場合、表示領域43内に各支持ピン22の先端が配されていないため、少なくとも表示領域43上を覆っている部分のレジスト層Rに乾燥ムラは生じない。したがって、基板4を支える際に、各支持ピン22は、非表示領域44内に収まるように配されている。 As shown in FIG. 5, the
なお、図4に示される各支持ピン22からなる第1支持パターンは、基板4に形成される前記領域パターンを考慮して、予め設定されているものである。つまり、第1支持パターンは、各支持ピン22の先端が、非表示領域44内に収まるように予め設定されている。この他に、第1支持パターンは、基板4を水平な状態で安定して支持できること等も考慮されて、予め設定されている。そして、このような第1支持パターンを成す各支持ピン22が、各軸ユニット21の周面上における所定の個所に、それぞれピン列200A2,200B2,200C2として割り当てられている。 Note that the first support pattern including the support pins 22 shown in FIG. 4 is set in advance in consideration of the region pattern formed on the
以上のように、基板支持装置2は、複数本の支持ピン22からなり、基板4を支えるための第1支持パターンを形成できるように構成されている。 As described above, the
次いで、図6及び図7を参照しつつ、他の基板4Xを支えるために、基板支持装置2によって形成される支持パターン(第2支持パターン)について説明する。図6は、各軸ユニット21上の支持ピン22が第2支持パターンを成した状態を示す説明図であり、図7は、第2支持パターンによって支持されるガラス基板4Xの平面図である。図6に示されるように、軸ユニット21Aでは、ピン列200A3における3本の支持ピン22A3,22A3,22A3が直立した状態にある。また、軸ユニット21Bでは、ピン列200B3における3本の支持ピン22B3,22B3,22B3が直立した状態にある。また、軸ユニット21Cでは、ピン列200C3における3本の支持ピン22C3,22C3,22C3が直立した状態にある。 Next, a support pattern (second support pattern) formed by the
図6に示される各軸ユニット21は、それぞれ3本の支持ピン22からなるピン列200が選択された状態にある。そして、これらの直立した状態にある合計9本の支持ピン22(22A3,22A3,22A3,22B3,22B3,22B3,22C3,22C3,22C3)が、基板4Xを支えるための第2支持パターンを成している。 Each
図7に示されるように、基板4Xの表面41X上には、レジスト層Rがその全面に形成されている。この基板4Xの大きさは、上述した基板4のものと同じである。また、基板4Xの表面41X上には、複数個(2個)の表示領域(第1領域の一例)43Xが互いに間隔を保った状態で割り当てられている。これら2個の表示領域43Xは、基板4Xの表面41X上に、横一列の状態で並べられている。各表示領域43Xは何れも同じ矩形状であり、同じ大きさに設定されている。なお、表示領域43Xの大きさは、上述した基板4における表示領域43よりも大きく設定されている。 As shown in FIG. 7, a resist layer R is formed on the
各表示領域43Xを区切るように非表示領域(第2領域の一例)44Xが、基板4Xの表面41X上に配されている。非表示領域44Xは、各表示領域43Xをそれぞれ取り囲むような枠状の領域からなる。このように、基板4Xの表面41X上には、表示領域43Xと非表示領域44Xとからなる領域パターンが形成されている。つまり、基板4Xには、上述の基板4における領域パターンとは、異なった領域パターンが形成されている。なお、説明の便宜上、図7には、レジスト層Rの下側にある表示領域43X及び非表示領域44Xからなる領域パターンが図示されている。 A non-display area (an example of a second area) 44X is arranged on the
基板4Xも、上述した基板4と同様、液晶パネル(表示パネルの一例)に利用される複数のガラス基板を、まとめて製造するための基板(所謂、マザーガラス基板)からなる。上述した各表示領域43Xは、各液晶パネルに備えられる表示領域に対応している。 Similarly to the
図7に示されるように、基板4Xは、その裏面42X側から、上述した第2支持パターンを成す9本の支持ピン22(22A3,22A3,22A3,22B3,22B3,22B3,22C3,22C3,22C3)によって支えられる。なお、基板4Xは、ロボットアーム等を利用して、第2支持パターンを成す各支持ピン22の先端上に載せられる。各支持ピン22の先端は、基板4Xの非表示領域44X内に収まるように配されている。非表示領域44Xは、上述したように、電極パターン等が形成されない個所であるため、非表示領域44X上を覆っている部分のレジスト層Rは不要である。そのため、この非表示領域44X上のレジスト層Rに乾燥ムラが生じても、電極パターン等の形成に問題は生じない。本実施形態の場合、表示領域43X内に各支持ピン22の先端が配されていないため、少なくとも表示領域43X上を覆っている部分のレジスト層Rに乾燥ムラは生じない。したがって、基板4Xを支える際に、各支持ピン22は、非表示領域44X内に収まるように配されている。 As shown in FIG. 7, the
なお、図6に示される各支持ピン22からなる第2支持パターンは、基板4Xに形成される前記領域パターンを考慮して、予め設定されているものである。つまり、第2支持パターンは、各支持ピン22の先端が非表示領域44X内に収まるように予め設定されている。この他に、第2支持パターンは、基板4Xを水平な状態で安定して支持できること等も考慮されて、予め設定されている。そして、このような第2支持パターンを成す各支持ピン22が、各軸ユニット21の周面上における所定の個所に、それぞれピン列200A3,200B3,200C3として割り当てられている。 In addition, the 2nd support pattern which consists of each
以上のように、基板支持装置2は、複数本の支持ピン22からなり、基板4Xを支えるための第2支持パターンを形成できるように構成されている。 As described above, the
本実施形態の基板支持装置2は、1つの装置で、2種類の支持パターン(第1支持パターン及び第2支持パターン)を形成することができる。そして基板支持装置2Aは、それらの支持パターンを利用して、2種類の基板4,4Xを、少なくとも各表示領域43,43X上を覆う部分のレジスト層Rにおける乾燥ムラを抑制しつつ、支持できる。したがって、基板支持装置2によれば、各基板4,4Xの種類に応じて、別個に支持装置を用意する必要がない。また、基板支持装置2は、支持パターンを変更する場合、各軸ユニット21を所定角度回転させればよい。したがって、支持パターン同士の切り替えを容易に行うことができる。なお、基板支持装置2を、基板の種類が異なる毎に、乾燥室から出し入れする必要もない。 The
<実施形態2>
次いで、本発明の実施形態2を、図10を参照しつつ説明する。図10は、実施形態2に係る基板支持装置2Aの概略構成を模式的に表した説明図である。この基板支持装置2Aは、上述した実施形態1のものと同様、図1に示される乾燥室3内に設置されて利用されるものである。また、基板支持装置2Aの基本的な構成は、概ね実施形態1のものと同様である。ただし、本実施形態の基板支持装置2Aは、各軸ユニット21の端部に、それぞれ駆動源としてのモータ63(63A,63B,63C)が取り付けられており、各軸ユニット21が独立して回転できるように構成されている点が主に異なっている。以下、この点について説明する。<
Next,
図10に示されるように、各軸ユニット21(21A,21B,21C)の各軸部24(24A,24B,24C)は、直接、モータ63(63A,63B,63C)の出力軸に接続されている。そして、各モータ63の駆動は、制御部7によって制御されている。なお、本実施形態における各軸ユニット21(21A,21B,21C)も、実施形態1と同様、図示されない支持部材によって軸支されている。 As shown in FIG. 10, each shaft portion 24 (24A, 24B, 24C) of each shaft unit 21 (21A, 21B, 21C) is directly connected to the output shaft of the motor 63 (63A, 63B, 63C). ing. The driving of each
本実施形態の場合、各軸ユニット21を回転させる角度(回転条件)は、それぞれ異なるように設定できる。例えば、軸ユニット21Aを反時計回りに120°回転させ、軸ユニット21Bを反時計回りに240°回転させ、軸ユニット21Cを回転させない(つまり、0°)ように、各モータ63(63A,63B,63C)の駆動を制御することもできる。なお、各軸ユニット21を、それぞれ同じ回転条件(回転角度)で回転させることも可能である。 In the case of the present embodiment, the angle (rotation condition) for rotating each
各軸ユニット21を、所定の角度だけ回転させるために、モータ63を駆動させる必要な情報(支持パターン情報)は、予め記憶部5に記憶されている。制御部7は、必要に応じて、記憶部5から前記情報を取得し、その取得された情報に基づいて、各軸ユニット21の回転角度を調整する。 Information (support pattern information) necessary to drive the
本実施形態の基板支持装置2Aは、各支持ピン22によって、上述した実施形態1における第1支持パターン(図4参照)、第2支持パターン(図6参照)をそれぞれ形成できる。更に、本実施形態の基板支持装置2Aは、他の基板4Yを支えるための支持パターン(第3支持パターン)も形成できる。 The
ここで、図9及び図10を参照しつつ、基板Yを支えるために、基板支持装置2Aによって形成される第3支持パターンについて説明する。図9は、基板支持装置2Aにおける各軸ユニット21上の支持ピン22が第3支持パターンを成した状態を示す説明図であり、図10は、第3支持パターンによって支持されるガラス基板4Yの平面図である。 Here, the third support pattern formed by the
図9に示されるように、軸ユニット21Aでは、ピン列200A2における2本の支持ピン22A2,22A2が直立した状態にある。また、軸ユニット21Bでは、ピン列200B3における3本の支持ピン22B3,22B3,22B3が直立した状態にある。また、軸ユニット21Cでは、ピン列200C1における1本の支持ピン22C1が直立した状態にある。 As shown in FIG. 9, in the
図9に示されるように、軸ユニット21Aでは、2本の支持ピン22からなるピン列200が選択され、軸ユニット21Bでは、3本の支持ピンからなるピン列200が選択され、軸ユニット21Cでは、1本の支持ピンからなるピン列が選択された状態にある。そして、これらの直立した状態にある合計6本の支持ピン22(22A2,22A2,22B3,22B3,22B3,22C1)が、基板4Yを支えるための第3支持パターンを成している。 As shown in FIG. 9, in the
図10に示されるように、基板4Yの表面41Y上には、レジスト層Rがその全面に形成されている。この基板4Yの大きさは、上述した基板4のものと同じである。また、基板4Yの表面41Y上には、複数個(5個)の表示領域(第1領域の一例)43Y1,43Y2が、互いに間隔を保った状態で割り当てられている。 As shown in FIG. 10, a resist layer R is formed on the
これら5個のうち3個の表示領域43Y1は、縦一列の状態で基板4Yの一方の端側(図10における左側)に並べられている。残りの2個の表示領域43Y2は、縦一列の状態で基板4Yの他方の端側(図10における右側)に並べられている。なお、表示領域43Y1と、表示領域43Y2とは、互いに大きさ、形状が異なっている。そして、表示領域43Y1は、表示領域43Y1と比べて小さく設定されている。つまり、この基板4Yには、大きさが異なる複数種(2種)の表示領域43Y1,43Y2が、同時に形成されている。 Of these five, three display areas 43Y1 are arranged on one end side (left side in FIG. 10) of the
各表示領域43Y1,43Y2を区切るように非表示領域(第2領域の一例)44Yが、基板4Yの表面41Y上に配されている。非表示領域44Yは、各表示領域43Y1,43Y2をそれぞれ取り囲むような枠状の領域からなる。このように、基板4Yの表面41Y上には、表示領域43Y1及び43Y2と、非表示領域44Yとからなる領域パターンが形成されている。なお、説明の便宜上、図10には、レジスト層Rの下側にある表示領域43Y1,43Y2及び非表示領域44Yからなる領域パターンが図示されている。 A non-display area (an example of a second area) 44Y is arranged on the
基板4Yも、上述した基板4と同様、液晶パネル(表示パネルの一例)に利用される複数のガラス基板を、まとめて製造するための基板(所謂、マザーガラス基板)からなる。この基板4Yは、特に、2種類の液晶パネルに利用されるガラス基板を、まとめて製造するためのものである。上述した各表示領域43Y1,43Y2は、各液晶パネルに備えられる表示領域に対応している。 Similarly to the
図10に示されるように、基板4Yは、その裏面42Y側から、上述した第3支持パターンを成す6本の支持ピン22(22A2,22A2,22B3,22B3,22B3,22C1)によって支えられる。なお、基板4Yは、ロボットアーム等を利用して、第3支持パターンを成す各支持ピン22の先端上に載せられる。各支持ピン22の先端は、基板4Yの非表示領域44Y内に収まるように配されている。非表示領域44Yは、上述したように、電極パターン等が形成されない個所であるため、非表示領域44Y上を覆っている部分のレジスト層Rは不要である。そのため、この非表示領域44Y上のレジスト層Rに乾燥ムラが生じても、電極パターン等の形成に問題は生じない。本実施形態の場合、表示領域43Y1及び43Y2内に各支持ピン22の先端が配されていないため、少なくとも表示領域43Y1及び43Y2X上を覆っている部分のレジスト層Rに乾燥ムラは生じない。したがって、基板4Yを支える際に、各支持ピン22は、非表示領域44Yに収まるように配されている。 As shown in FIG. 10, the
なお、図9に示される各支持ピン22からなる第3支持パターンは、基板4Yに形成される前記領域パターンを考慮して、予め設定されているものである。つまり、第3支持パターンは、各支持ピン22の先端が非表示領域44Y内に収まるように予め設定されている。この他に、第3支持パターンは、基板4Yを水平な状態で安定して支持できること等も考慮されて、予め設定されている。そして、このような支持パターン3を成す各支持ピン22が、各軸ユニット21の周面上における所定の個所に、にそれぞれピン列200A2,200B3,200C2として割り当てられている。 In addition, the 3rd support pattern which consists of each
なお、第3支持パターンで選択される軸ユニット21Aのピン列200A2は、第1支持パターンで選択されるものと同じである。また、第3支持パターンで選択される軸ユニット21Bのピン列200B3は、第2支持パターンで選択されるものと同じである。つまり、各軸ユニット21における各ピン列200は、必要に応じて、複数種の支持パターンの間で兼用されてもよい。 The pin row 200A2 of the
以上のように、基板支持装置2Aは、複数本の支持ピン22からなり、基板4Yを支えるための第3支持パターンを形成できるように構成されている。 As described above, the
本実施形態の基板支持装置2Aは、1つの装置で、3種類の支持パターン(第1支持パターン、第2支持パターン及び第3支持パターン)を形成することができる。つまり、本実施形態の基板支持装置2Aは、各軸ユニット21が各々独立して回転角度を調節できるように構成されている。そのため、各軸ユニット21(21A,21B,21C)における各ピン列200同士を組み合せて形成できる支持パターンの数が、実施形態1のものと比べて多くなる。 The
また、基板支持装置2Aは、それら3種類の支持パターンを利用して、3種類の基板4,4X,4Yを、少なくとも各表示領域43,43X、43Y1及び43Y2上を覆う部分のレジスト層Rにおける乾燥ムラを抑制しつつ、支持できる。したがって、基板支持装置2Aによれば、各基板4,4X,4Yの種類に応じて、別個に支持装置を用意する必要がない。また、基板支持装置2Aは、実施形態1のものと同様、支持パターンを変更する場合、各軸ユニット21を所定角度回転させればよい。したがって、支持パターン同士の切り替えを容易に行うことができる。なお、基板支持装置2Aを、基板の種類が異なる毎に、乾燥室から出し入れする必要もない。 In addition, the
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。<Other embodiments>
The present invention is not limited to the embodiments described with reference to the above description and drawings. For example, the following embodiments are also included in the technical scope of the present invention.
(1)上記実施形態では、軸ユニットの周面上に、3つのピン列が形成されていたが、他の実施形態においては、例えば、軸ユニットの周面上に、2つのピン列が形成されてもよいし、或いは4つ以上のピン列が形成されてもよい。軸ユニットの周面上に設けられるピン列の数は、特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜、設定される。 (1) In the above embodiment, three pin rows are formed on the peripheral surface of the shaft unit. However, in other embodiments, for example, two pin rows are formed on the peripheral surface of the shaft unit. Alternatively, four or more pin rows may be formed. The number of pin rows provided on the peripheral surface of the shaft unit is not particularly limited, and is appropriately set according to the purpose.
(2)上記実施形態では、軸ユニットの外観形状は、円柱状であったが、他の実施形態においては、例えば、四角柱状であってもよいし、他の多角柱状であってもよい。軸ユニットの外観形状は、特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜、設定される。 (2) In the above embodiment, the external shape of the shaft unit is a cylindrical shape. However, in another embodiment, for example, it may be a quadrangular prism shape or another polygonal column shape. The external shape of the shaft unit is not particularly limited, and is appropriately set according to the purpose.
(3)上記実施形態では、3本の軸ユニットが利用されていたが、他の実施形態においては、例えば、2本の軸ユニットが利用されてもよいし、4本以上の軸ユニットが利用されてもよい。利用される軸ユニットの本数は、特に制限されるものではなく、目的に応じて、適宜、設定される。 (3) In the above embodiment, three shaft units are used. However, in other embodiments, for example, two shaft units may be used, or four or more shaft units are used. May be. The number of shaft units to be used is not particularly limited, and is appropriately set according to the purpose.
(4)上記実施形態では、基板の全面にレジスト層(塗膜の一例)が形成されていたが、他の実施形態においては、レジスト層が基板の一部分にのみ形成されていてもよい。たとえば、基板の表面のうち、各表示領域にのみレジスト層が形成されていてもよいし、特定の表示領域のみにレジスト層が形成されていてもよい。 (4) In the above embodiment, a resist layer (an example of a coating film) is formed on the entire surface of the substrate. However, in other embodiments, the resist layer may be formed only on a part of the substrate. For example, a resist layer may be formed only in each display region on the surface of the substrate, or a resist layer may be formed only in a specific display region.
(5)上記実施形態では、基板上に塗布されている塗膜(レジスト層)を、減圧下で乾燥させるものであったが、他の実施形態においては、例えば、常圧下で乾燥させるものであってもよい。 (5) In the above embodiment, the coating film (resist layer) applied on the substrate is dried under reduced pressure, but in other embodiments, for example, it is dried under normal pressure. There may be.
(6)上記実施形態では、基板支持装置は、乾燥室内に設置して使用されるものであったが、他の実施形態においては、乾燥室の外部で使用されるものであってもよい。 (6) In the said embodiment, although the board | substrate support apparatus was installed and used in a drying chamber, in other embodiment, it may be used outside a drying chamber.
1…乾燥装置、2,2A…基板支持装置、21…軸ユニット、22…支持ピン、23…本体部、24…軸部、25…プーリ、26…伝達ベルト、27…支持部材、200…ピン列、3…乾燥室、4,4X,4Y…基板、5…記憶部、6,63…モータ、61…出力軸、61…出力軸の先端部、7…制御部 DESCRIPTION OF
Claims (10)
各軸ユニットの各周方向に複数突出して設けられるピンであって、各軸方向に1本又は2本以上並んでピン列を構成してなり、各軸ユニットにおいて当該ピンの軸方向が同一となる前記ピン列がそれぞれ各軸ユニット毎に選択されることによって、基板を支えるための支持パターンが複数種形成され、前記支持パターンを成す各々の先端で前記基板を支える複数の支持ピンと、
前記支持パターンのうちの何れか1つを形成するために、各軸ユニットの回転角度を制御する制御部と、を備えることを特徴とする基板支持装置。A plurality of shaft units that are arranged in parallel with each other and are pivotally supported at both ends, each of which is rotatable and stationary;
A plurality of pins provided in a projecting manner in each circumferential direction of each axis unit, wherein one or two or more pins are arranged in each axial direction to constitute a pin row, and the axial direction of the pins in each axis unit is the same A plurality of support patterns for supporting the substrate are formed by selecting each pin unit for each axis unit, and a plurality of support pins for supporting the substrate at respective tips forming the support pattern;
A substrate support apparatus, comprising: a control unit that controls a rotation angle of each axis unit to form any one of the support patterns.
前記支持ピンは、前記支持パターンを成す際に、各々の先端が、前記基板の前記第2領域内に収まるように、各軸ユニットの各周面上に設けられている請求項1に記載の基板支持装置。The substrate has a pair of front and back plate surfaces including a region pattern composed of a plurality of first regions and a second region dividing each first region, and a coating film covering the front plate surface,
The said support pin is provided on each surrounding surface of each axis | shaft unit so that each front-end | tip may be settled in the said 2nd area | region of the said board | substrate, when forming the said support pattern. Substrate support device.
前記支持ピンは、前記基板の種類毎に対応した支持パターンをそれぞれ形成する請求項2に記載の基板支持装置。The substrate is composed of a plurality of different types of the region patterns,
The substrate support device according to claim 2, wherein the support pins form a support pattern corresponding to each type of the substrate.
前記制御部は、前記支持パターン情報に基づいて、各軸ユニットの回転角度を制御する請求項1ないし5のいずれか一項に記載の基板支持装置。A storage unit that stores in advance support pattern information for forming the support pattern on the support pins;
The substrate support device according to claim 1, wherein the control unit controls a rotation angle of each axis unit based on the support pattern information.
前記基板支持装置が収容される乾燥室と、を備える乾燥装置。A substrate support apparatus according to any one of claims 1 to 8,
And a drying chamber in which the substrate support device is accommodated.
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