JP5677853B2 - スチレン系ポリマー用添加剤混合物 - Google Patents

スチレン系ポリマー用添加剤混合物 Download PDF

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Description

本発明は、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物を含むスチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための方法と;少なくとも2種の成分の混合物と;スチレン系ポリマー及び少なくとも2種の成分の混合物を含む組成物と;並びに、スチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和モノマー及びオリゴマーの量を減少させるためのその使用と、に関する。
スチレン系ポリマーのラジカル重合において、剥離方法の適応によるモノマー及びオリゴマーを完全に除去する能力は、高温及び高剪断力でのポリスチレン及びポリスチレンコポリマーの解重合のため限られている。
添加剤(例えば環状ペルオキシドやディールス−アルダー−付加物)は、既に存在するスチレンとの反応するスチレン捕捉剤としての役割を果たすことができるが、スチレンポリマーの連続解重合を回避することができない。この解重合は、分子量の減少と、ポリマーの機械的強度の低下と、低分子量の種、とりわけモノマー、ダイマー及びトリマーの連続形成とにつながる。かかるスチレン捕捉剤の量が極めて高い場合は、連続的に形成されたスチレンモノマー/オリゴマーとの反応が必要となる。更に、これらの添加剤はまた、例えばブタジエン、アクリロニトリル、エチルベンゼン等のスチレン系ポリマー中に存在し得る他の低分子量の種の含有量を減少させるのに有用ではない。
スチレン系ポリマーの解重合反応を阻害し得る又は少なくとも減少させ得る添加剤は、スチレン系ポリマーの解重合の間に形成されるC−基と反応し得る分子であり、従って劣化方法を妨げる。これらとしては、3−アリール−ベンゾフラン−2−オン、フェノールアクリレート、フェノールチオエーテルが挙げられる。剥離方法の前にかかる添加剤を添加することによって、モノマー/オリゴマーの除去が、解重合によりモノマー/オリゴマーを再度形成するリスクを冒すことなく苛酷な条件を用いて可能になる。配合/処理ステップにおけるかかる添加剤の添加により、高温及び高剪断下での解重合のため新しいモノマー/オリゴマーが形成することが回避される。これらの生成物の欠点は、モノマー/オリゴマーの減少が、多くの用途、とりわけ食品との接触の承認を必要とする用途に依然として不十分であり、且つ、フェノールアクリレートが、ポリマーの最初の色を増大させ、並びに、ポリマーの熱安定性を減少させることである。
今や驚くべきことに、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分を含む混合物が、飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させる相乗効果を示し、その効率性は、前記化合物の種類のいずれかを単独で用いた場合よりも良好であることが分かった。更に、得られたポリマーの色は、フェノール−アクリレートを単独で用いた場合よりもはるかに良好である。
従って、本発明は、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物を含むスチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための方法に関する。
好ましくは、成分a)は、式I
Figure 0005677853
[式中、
1は、水素、C1〜C20アルキル、スチリル、α−メチルスチリル又は−CH2−S−R3;或いはC2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル、フェニル又はトリルで置換されたC1〜C20アルキルであり;
2は、C1〜C20アルキル又は−CH2−S−R3であり、
3は、C1〜C20アルキル;フェニル、ヒドロキシル、シアノ、ホルミル、アセチル又は−O−CO−R5で置換されたC1〜C20アルキル;C2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル;或いはヒドロキシル、フェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシカルボニルフェニル、p−トリル、1,3−ベンズチアゾール−2−イル、−(CHR5nCOOR6又は−(CHR5nCONR78で置換されたC5〜C9シクロアルキルであり;
4は、水素又はメチルであり、
5は、水素又はC1〜C6アルキルであり、
6は、C1〜C20アルキル;酸素又は硫黄で中断されたC3〜C20アルキル;C5〜C9シクロアルキル、フェニル、ベンジル又はトリルであり、
7及びR8は、互いに独立して水素又はC1〜C6アルキルであり、及び
nは、1又は2である]の化合物である。
最高20個の炭素原子を有するアルキルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、2−エチルブチル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、1,3−ジメチルブチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,1,3,3−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、1−メチルウンデシル、ドデシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル又はオクタデシルである。
2〜C20アルケニル基は、例えば、ビニル、アリル(プロパ−2−エニル)、ブタ−3−エニル、ペンタ−4−エニル、ヘキサ−5−エニル、オクタ−7−エニル、デカ−9−エニル又はドデカ−11−エニルである。
3〜C20アルキニル基は、例えば、プロパルギル、ブタ−3−イニル、ヘキサ−5−イニル、オクタ−7−イニル、デカ−9−イニル、ドデカ−11−イニル、テトラデカ−13−イニル、ヘキサデカ−15−イニル、オクタデカ−17−イニル又はエイコサ−19−イニルである。
5〜C9シクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルであり、特にシクロヘキシルである。
フェニルで置換されたC1〜C20アルキル基は、例えば、ベンジル、フェネチル、α−メチルベンジル、α,α−ジメチルベンジル、フェニルブチル、フェニル−α,α−ジメチルプロピル、フェニルヘキシル、フェニル−α,α−ジメチルブチル、フェニルオクチル又はフェニル−α,α−ジメチルヘキシルである。
1個又は2個のヒドロキシル基により置換されたC1〜C20アルキル基は、例えば、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、2−ヒドロキシブチル、2−ヒドロキシヘキシル、2−ヒドロキシオクチル、2−ヒドロキシデシル、2−ヒドロキシドデシル、2−ヒドロキシテトラデシル、2−ヒドロキシヘキサデシル、2−ヒドロキシオクタデシル、2−ヒドロキシエイコシル又は2,3−ジヒドロキシプロピルである。
フェニル及びヒドロキシにより置換されたC1〜C20アルキル基は、例えば、1−フェニル−2−ヒドロキシエチルである。
シアノにより置換されたC1〜C20アルキル基は、例えば、2−シアノエチルである。
1〜5個の酸素又は硫黄により中断されたC3〜C20アルキルは、例えば、3−オキサプロピル、3−チアプロピル、3−オキサブチル、3−チアブチル、3−オキサペンチル、3−チアペンチル、3,6−ジオキサヘプチル、3,6,9−トリオキサデシル又は3,6,9,12,15,18−ヘキサオキサノナデシルである。
式I[式中、R3はC6〜C18アルキルである]の化合物が重要である。
式I[式中、
1は、メチルであり、
2は、−CH2−S−R3であり、
3は、C8〜C12アルキルであり、
4は、水素である]の化合物が特に重要である。
Irganox 1520(RTM)及びIrganox 1726(RTM)[Ciba Specialty Chemicals Inc.から入手可能]が特に好ましい。
Figure 0005677853
式Iの化合物の製造は、例えば米国特許第6,365,781B2号に開示されており、例えば上記の参考文献に開示される通りの当該技術分野で既知の方法によって製造することが可能である。
好ましくは、成分b)は、式II
Figure 0005677853
[式中、
11及びR12は、互いに独立して、他のC1〜C25アルキル;置換されない或いはC1〜C4アルキルにより置換されたC5〜C12シクロアルキル;C7〜C9フェニルアルキル;又は、置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換されたフェニルであり、
13は、水素又はメチルであり、
14は、水素又はC1〜C8アルキルであり、
15は、C1〜C25アルキル;酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC2〜C25アルキル;C2〜C24アルケニル;置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオによりフェニル環上で置換されたC8〜C30フェニルアルケニル;置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換されたC5〜C12シクロアルキル;置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオによりフェニル環上で置換されたC8〜C30フェニルアルキル;又は、置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオにより置換されたフェニルであり、及び
16は、水素又はC1〜C18アルキルである]の化合物である。
最高25個の炭素原子を有し及び25個の炭素原子を含むアルキルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、1,1−ジメチル−1−プロピル、2−エチルブチル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、1,3−ジメチルブチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,1,3,3−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、1−メチルウンデシル、ドデシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイコシル又はドコシルである。R11及びR12の好ましい意味の内の1つは、例えば、C1〜C18アルキル、とりわけC1〜C12アルキル、例えばC1〜C8アルキルである。R11及びR12のとりわけ好ましい意味は、例えば、C1〜C6アルキル、とりわけC1〜C5アルキル、例えばtert−ブチル又は1,1−ジメチル−1−プロピル、即ちtert−ペンチルである。R15の好ましい意味は、例えばC1〜C18アルキル、とりわけC1〜C12アルキルである。R16の好ましい意味は、例えばC1〜C12アルキル、とりわけC1〜C8アルキル、例えばC1〜C4アルキルである。
置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換されたC5〜C12シクロアルキルは、例えば、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、トリメチルシクロヘキシル、tert−ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル又はシクロドデシルである。R11及びR12の好ましい意味は、例えば、置換されない又はメチルにより置換されたC5〜C8シクロアルキル、とりわけ置換されない又はメチルにより置換されたシクロヘキシル、例えばシクロヘキシル又はα−メチルシクロヘキシルである。R15の好ましい意味は、例えば、C5〜C8シクロアルキル、とりわけC5〜C6シクロアルキル、例えばシクロヘキシルである。
7〜C9フェニルアルキルは、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α,α−ジメチルベンジル又は2−フェニルエチルである。ベンジル及びα−ジメチルベンジルが好ましい。
ハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオにより置換され、且つ、好ましくは1〜3個、とりわけ1個又は2個のアルキル基を含むフェニルは、例えば、o−、m−又はp−メチルフェニル、o−、m−又はp−メトキシフェニル、o−、m−又はp−クロロフェニル、o−、m−又はp−メチルチオフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2−メチル−6−エチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、2−エチルフェニル又は2,6−ジエチルフェニルである。
酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC2〜C25アルキルは、例えば、CH3−O−CH2−、CH3−O−CH2CH2−、CH3−S−CH2−、CH3−NH−CH2−、CH3−N(CH3)−CH2−、CH3−O−CH2CH2−O−CH2−、CH3CH2−O−CH2CH2−O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−又はCH3−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−である。
2〜24個の炭素原子を有するアルケニルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、ビニル、プロペニル、2−ブテニル、3−ブテニル、イソブテニル、n−2,4−ペンタジエニル、3−メチル−2−ブテニル、n−2−オクテニル、n−2−ドデセニル、イソドデセニル、オレイル、n−2−オクタデセニル又はn−4−オクタデセニルである。2〜18個、とりわけ2〜10個の炭素原子を有するアルケニル、例えばビニルが好ましい。
置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオによりフェニル環上で置換されたC8〜C30フェニルアルケニルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、スチリル、2−(p−メトキシフェニル)−1−エテニル、2−(p−クロロフェニル)−1−エテニル、2−(p−メチルフェニル)−1−エテニル、2−(p−メチルチオフェニル)−1−エテニル、2−フェニル−2−メチル−1−エテニル、3−フェニル−1−プロペニル、4−フェニル−1−ブテニル、5−フェニル−1−ペンテニル、6−フェニル−1−ヘキセニル、7−フェニル−1−ヘプテニル又は8−フェニル−1−オクテニルである。
置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオによりフェニル環上で置換されたC8〜C30フェニルアルキルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、フェニルエチル、2−(p−メトキシフェニル)−エチル、2−(p−クロロフェニル)−エチル、2−(p−メチルフェニル)−エチル、2−(p−メチルチオフェニル)−エチル、2−フェニル−2−メチル−エチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、5−フェニルペンチル、6−フェニルヘキシル、7−フェニルヘプチル又は8−フェニルオクチルである。
ハロゲンは、例えば、塩素、臭素又はヨウ素である。塩素が好ましい。
式II[式中、
11及びR12は、互いに独立して、他のC1〜C18アルキル;置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換されたC5〜C8シクロアルキル;C7〜C9フェニルアルキル;又はフェニルであり、
13は、水素又はメチルであり、
14は、水素又はC1〜C8アルキルであり、
15は、C1〜C18アルキル;酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC2〜C18アルキル;C2〜C18アルケニル;置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオによりフェニル環上で置換されたC8〜C18フェニルアルケニル;C5〜C12シクロアルキル;置換されない或いはハロゲン、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ又はC1〜C4アルキルチオによりフェニル環上で置換されたC8〜C18フェニルアルキル;又は、置換されない或いは塩素、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシにより置換されたフェニルであり、及び
R6は、水素又はC1〜C12アルキルである]の化合物が好ましい。
また、式II[式中、
11及びR12は、互いに独立して、他のC1〜C12アルキル、C5〜C8シクロアルキル、C7〜C9フェニルアルキル又はフェニルであり、
13は、水素であり、
14は、水素又はC1〜C4アルキルであり、及び
15は、C1〜C12アルキル;酸素又は硫黄により中断されたC2〜C12アルキル;C2〜C12アルケニル;置換されない或いはC1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシによりフェニル環上で置換されたC8〜C10フェニルアルケニル;C5〜C8シクロアルキル;置換されない或いは塩素、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシによりフェニル環上で置換されたC8〜C18フェニルアルキル;又は、置換されない或いは塩素、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシにより置換されたフェニルである]の化合物も好ましい。
同様に、式II[式中、
11は、C1〜C6アルキル、シクロヘキシル又はフェニルであり、
12は、C1〜C6アルキル、シクロヘキシル又はフェニルであり、
13は、水素であり、
14は、水素又はメチルであり、及び
15は、C1〜C12アルキル;酸素により中断されたC2〜C12アルキル;C2〜C10アルケニル;置換されない又はメトキシによりフェニル環上で置換されたC8〜C10フェニルアルケニル;シクロヘキシル;又は、置換されない或いは塩素又はメトキシにより置換されたフェニルである]の化合物が好ましい。
式II[式中、
11は、tert−ブチル又はtert−ペンチルであり、
12は、C1〜C5アルキルであり、
13は、水素であり、
14は、水素又はメチルであり、及び
15は、ビニルである]の化合物が特に重要である。
また、第1表による式IIの化合物も特に重要である。
Figure 0005677853
化合物(101)又は(102)が特に重要である。
Figure 0005677853
式IIの化合物の一部は、文献から既知であり、以下の文献資料:U.S.4,365,032;EP−A−0079806;U.S.4,562,281;U.S.4,774,274;EP−A−0500323;U.S.5,602,196;EP−A−0716076;U.S.5,616,780及びEP−A−0727410に開示される方法と同様に製造することが可能である。
化合物(101)は、Irganox(登録商標)3052(RTM;Ciba Inc.)又はSumilizer(登録商標)GM(RTM;Sumitomo)の名前で市販されており;化合物(102)は、Sumilizer(登録商標)GS(RTM;Sumitomo)の名前で市販されている。
好ましくは、成分c)は、式III
Figure 0005677853
[式中、
19は、水素又はC1〜C8アルキルであり、
20は、C1〜C12アルキルであり、
21は、水素、C1〜C4アルキル又はC2〜C8アルカノイルであり、
22は、水素又はC1〜C8アルキルであり;或いはR21及びR22或いはR22及びR23は、それらが結合する炭素原子と共にC6〜C8シクロアルキレン環を形成し、
23は、水素、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシであり、及び
24は、水素又はC1〜C12アルキルである]の化合物である。
2〜C8アルカノイルは、例えば、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル又はオクタノイルである。アセチルが好ましい。
ベンゾフラン−2−オン安定剤、例えば、5,7−ジ−tert−ブチル−3−フェニル−ベンゾフラン−2−オン;5,7−ジ−tert−ブチル−3−(3,4−ジメチルフェニル)−ベンゾフラン−2−オン;5,7−ジ−tert−ブチル−3−(2,3−ジメチルフェニル)−ベンゾフラン−2−オン、5,7−ジ−tert−ブチル−3−(4−メトキシフェニル)−ベンゾフラン−2−オン、5−tert−オクチル−3−(2−アセチル−5−tert−オクチルフェニル)−ベンゾフラン−2−オン、或いは式B−1又はB−2の化合物、或いはそれらの混合物がとりわけ好ましい。
Figure 0005677853
式IIIのベンゾフラン−2−オン安定剤は、文献において既知であり、例えばU.S.5,516,920に開示されている。
好ましくは、成分d)は、式IV
Figure 0005677853
[式中、
nが1である場合、
1は、
Figure 0005677853
を形成し;及び
nが2である場合、
1は、
Figure 0005677853
であり、
2及びR3は、互いに独立して水素、C1〜C4アルキル、
Figure 0005677853
であるが、但し、R2又はR3の少なくとも1つは水素であり、
4及びR5は、互いに独立して水素又はC1〜C25アルキルであり、
6、R7及びR8は、互いに独立して水素、C1〜C25アルキル、
Figure 0005677853
置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニルであり;又は、基R6、R7又はR8の内の2つは、それらが結合する炭素原子と共に式Ia、Ib又はIc
Figure 0005677853
の基を形成し、但し、基R6、R7及びR8の内の少なくとも2つは、水素とは異なり、
9は、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルであり;
10は、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキル;又は、酸素又は硫黄により中断されたC3〜C25アルキルであり;
11及びR12は、互いに独立して、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;又は、R11及びR12は、それらが結合する窒素原子と共に、置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換された、或いは酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断された5、6又は7員複素環を形成し、
13は、C2〜C18アルキレン、酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC4〜C18アルキレン;C2〜C18アルケニレン、C2〜C20アルキリデン、C7〜C20フェニルアルキリデン、C5〜C8シクロアルキレン、C7〜C8ビシクロアルキレン、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニレンであり;
14及びR15は、互いに独立して水素又はC1〜C8アルキルであり、
16、R17、R18及びR19は、互いに独立して、水素、クロロ、ヒドロキシル、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキル;C1〜C18アルコキシ、C1〜C18アルキルチオ、C1〜C4アルキルアミノ、ジ−(C1〜C4アルキル)アミノ、C1〜C25アルカノイルオキシ、C1〜C25アルカノイルアミノ、C3〜C25アルケノイルオキシ、酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC3〜C25アルカノイルオキシ;C6〜C9シクロアルキルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ、又はC1〜C12アルキルで置換されたベンゾイルオキシであり;又は、置換基R16及びR17或いはR17及びR18或いはR18及びR19の各々の組は、結合する炭素原子と共にベンゼン環を形成し;
20は、水素、C1〜C8アルキル又はベンジルであり、及び
nは、1又は2である]の化合物である。
最高25個の炭素原子を有するアルキルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、2−エチルブチル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、1,3−ジメチルブチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,1,3,3−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、1−メチルウンデシル、ドデシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイコシル又はドコシルである。
1〜C4アルキルで置換されたフェニルは、好ましくは1〜3個、とりわけ1個又は2個のアルキル基を含み、例えば、o−、m−又はp−メチルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2−メチル−6−エチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、2−エチルフェニル又は2,6−ジエチルフェニルである。
7〜C9フェニルアルキルは、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α,α−ジメチルベンジル又は2−フェニルエチルである。
置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルは、例えば、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、トリメチルシクロヘキシル、tert−ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル又はシクロオクチルである。シクロヘキシル及びtert−ブチルシクロヘキシルが好ましい。
酸素又は硫黄により中断されたC3〜C25アルキルは、例えば、CH3−O−CH2CH2−、CH3−S−CH2CH2−、CH3−O−CH2CH2−O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−又はCH3−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−である。
11及びR12が、それらが結合する窒素原子と共に、置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換された、或いは酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
を示す。R11及びR12は、それらが結合する窒素原子と共に、酸素により中断された6員複素環、例えば、
Figure 0005677853
を形成することが好ましい。
2〜C18アルキレンは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン又はオクタデカメチレンである。
酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC4〜C18アルキレンは、例えば、−CH2CH2−O−CH2CH2−、−CH2CH2−S−CH2CH2−、−CH2CH2−NH−CH2CH2−、−CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2−O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−又は−CH2CH2−S−CH2CH2−である。
2〜C18アルケニレンは、例えば、ビニレン、メチルビニレン、オクテニルエチレン又はドデセニルエチレンである。C2〜C8アルケニレンが好ましい。
2〜20個の炭素原子を有するアルキリデンは、例えば、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、ペンチリデン、4−メチルペンチリデン、ヘプチリデン、ノニリデン、トリデシリデン、ノナデシリデン、1−メチルエチリデン、1−エチルプロピリデン又は1−エチルペンチリデンである。C2〜C8アルキリデンが好ましい。
7〜20個の炭素原子を有するフェニルアルキリデンは、例えば、ベンジリデン、2−フェニルエチリデン又は1−フェニル−2−ヘキシリデンである。C7〜C9フェニルアルキリデンが好ましい。
5〜C8シクロアルキレンは、2個の遊離原子価と少なくとも1個の環単位とを有する飽和炭化水素基であり、例えば、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン又はシクロオクチレンである。シクロヘキシレンが好ましい。
7〜C8ビシクロアルキレンは、例えば、ビシクロヘプチレン又はビシクロオクチレンである。
置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニレンは、例えば、1,2−フェニレン、1,3−フェニレン、1,4−フェニレンである。1,4−フェニレンが好ましい。
最高18個の炭素原子を有するアルコキシは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オクトキシ、デシルオキシ、テトラデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ又はオクタデシルオキシである。1〜12個、とりわけ1〜8個、例えば1〜6個の炭素原子を有するアルコキシが好ましい。
最高18個の炭素原子を有するアルキルチオは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、イソブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、デシルチオ、テトラデシルチオ、ヘキサデシルチオ又はオクタデシルチオである。1〜12個、とりわけ1〜8個、例えば1〜6個の炭素原子を有するアルキルチオが好ましい。
最高4個の炭素原子を有するアルキルアミノは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n−ブチルアミノ、イソブチルアミノ又はtert−ブチルアミノである。
また、ジ(C1〜C4アルキル)アミノは、2個の基が互いに独立して分枝鎖状又は非分枝鎖状であることを意味し、例えば、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ、メチル−n−プロピルアミノ、メチルイソプロピルアミノ、メチル−n−ブチルアミノ、メチルイソブチルアミノ、エチルイソプロピルアミノ、エチル−n−ブチルアミノ、エチルイソブチルアミノ、エチル−tert−ブチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、イソプロピル−n−ブチルアミノ、イソプロピルイソブチルアミノ、ジ−n−ブチルアミノ又はジイソブチルアミノである。
最高25個の炭素原子を有するアルカノイルオキシは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブタノイルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ヘプタノイルオキシ、オクタノイルオキシ、ノナノイルオキシ、デカノイルオキシ、ウンデカノイルオキシ、ドデカノイルオキシ、トリデカノイルオキシ、テトラデカノイルオキシ、ペンタデカノイルオキシ、ヘキサデカノイルオキシ、ヘプタデカノイルオキシ、オクタデカノイルオキシ、エイコサノイルオキシ又はドコサノイルオキシである。2〜18個、とりわけ2〜12個、例えば2〜6個の炭素原子を有するアルカノイルオキシが好ましい。アセトキシが特に好ましい。
最高25個の炭素原子を有するアルカノイルアミノは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、ペンタノイルアミノ、ヘキサノイルアミノ、ヘプタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、ノナノイルアミノ、デカノイルアミノ、ウンデカノイルアミノ、ドデカノイルアミノ、トリデカノイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、ペンタデカノイルアミノ、ヘキサデカノイルアミノ、ヘプタデカノイルアミノ、オクタデカノイルアミノ、エイコサノイルアミノ又はドコサノイルアミノである。2〜18個、とりわけ2〜12個、例えば2〜6個の炭素原子を有するアルカノイルアミノが好ましい。
3〜25個の炭素原子を有するアルケノイルオキシは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、プロペノイルオキシ、2−ブテノイルオキシ、3−ブテノイルオキシ、イソブテノイルオキシ、n−2,4−ペンタジエノイルオキシ、3−メチル−2−ブテノイルオキシ、n−2−オクテノイルオキシ、n−2−ドデセノイルオキシ、イソ−ドデセノイルオキシ、オレオイルオキシ、n−2−オクタデセノイルオキシ又はn−4−オクタデセノイルオキシである。3〜18個、とりわけ3〜12個、例えば3〜6個、特に3〜4個の炭素原子を有するアルケノイルオキシが好ましい。
酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC3〜C25アルカノイルオキシは、例えば、CH3−O−CH2COO−、CH3−S−CH2COO−、CH3−NH−CH2COO−、CH3−N(CH3)−CH2COO−、CH3−O−CH2CH2−O−CH2COO−、CH3−(O−CH2CH2−)2O−CH2COO−、CH3−(O−CH2CH2−)3O−CH2COO−又はCH3−(O−CH2CH2−)4O−CH2COO−である。
6〜C9シクロアルキルカルボニルオキシは、例えば、シクロヘキシルカルボニルオキシ、シクロヘプチルカルボニルオキシ又はシクロオクチルカルボニルオキシである。シクロヘキシルカルボニルオキシが好ましい。
1〜C12アルキルで置換されたベンゾイルオキシは、1〜3個、とりわけ1個又は2個のアルキル基を担持することが好ましく、例えば、o−、m−又はp−メチルベンゾイルオキシ、2,3−ジメチルベンゾイルオキシ、2,4−ジメチルベンゾイルオキシ、2,5−ジメチルベンゾイルオキシ、2,6−ジメチルベンゾイルオキシ、3,4−ジメチルベンゾイルオキシ、3,5−ジメチルベンゾイルオキシ、2−メチル−6−エチルベンゾイルオキシ、4−tert−ブチルベンゾイルオキシ、2−エチル−ベンゾイルオキシ、2,4,6−トリメチルベンゾイルオキシ、2,6−ジメチル−4−tert−ブチルベンゾイルオキシ又は3,5−ジ−tert−ブチルベンゾイルオキシである。好ましい置換基は、C1〜C8アルキル、とりわけC1〜C4アルキルである。
式IVの化合物は、WO−A−06/024610に開示されている。
式IVの化合物についての例としての第2表の化合物(101)〜(121)が特に重要である。
Figure 0005677853
Figure 0005677853
好ましくは、成分d)はまた、式V
Figure 0005677853
或いはR1及びR2は、共に
Figure 0005677853
を形成し、
2は、水素、−S−R13、−SO−R13、−SO2−R13、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;
Figure 0005677853
ヒドロキシ又はC1〜C25アルカノイルオキシであり、
3、R4、R5、R6及びR7は、互いに独立して水素、C1〜C25アルキル、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニトロ、C1〜C25アルコキシ、
Figure 0005677853
であり;或いは置換基R3及びR4或いはR4及びR5或いはR5及びR6或いはR6及びR7の各々の組は、結合する炭素原子と共にベンゼン環を形成し;但し、R3〜R7の群からの基の内の少なくとも1つが水素であり;
8は、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルであり;
9は、水素、アルカリ金属、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキル;酸素又は硫黄により中断されたC3〜C25アルキル;
Figure 0005677853
であり、
10及びR11は、互いに独立して、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキル;或いはR10及びR11は、それらが結合する窒素原子と共に、置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換された或いは酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断された5、6又は7員複素環を形成し、
12は、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;或いは置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルであり;
13は、水素、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;或いは置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルであり;
14は、C1〜C25アルキル、C7〜C9フェニルアルキル、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニル;或いは置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルであり;
15は、C1〜C25アルキル又はC7〜C9フェニルアルキルであり、
16は、
Figure 0005677853
ハロゲン又はニトロであり、
17は、C2〜C18アルキレン、酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC4〜C18アルキレン;C2〜C18アルケニレン、C2〜C20アルキリデン、C7〜C20フェニルアルキリデン、C5〜C8シクロアルキレン、C7〜C8ビシクロアルキレン、置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニレンであり;
18は、水素、C1〜C8アルキル又はベンジルであり、
19は、C1〜C25アルキル又はC7〜C9フェニルアルキルであり、及び
Xは、直接結合、−SO−又は−SO2−である]の化合物でもある。
1〜C4アルキルで置換されたフェニルは、1〜3個、とりわけ1個又は2個のアルキル基を含むことが好ましく、例えば、o−、m−またはp−メチルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2−メチル−6−エチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、2−エチルフェニル又は2,6−ジエチルフェニルである。
最高25個の炭素原子を有するアルキルは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、2−エチルブチル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、1,3−ジメチルブチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,1,3,3−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、1−メチルウンデシル、ドデシル、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、エイコシル又はドコシルである。
ハロゲン置換基は、例えば、フルオロ、クロロ、ブロモ又はヨードである。クロロが好ましい。
最高15個の炭素原子を有するアルコキシは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ、オクトキシ、デシルオキシ、テトラデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ又はオクタデシルオキシである。1〜18個、とりわけ1〜12個、例えば1〜6個の炭素原子を有するアルコキシが好ましい。
7〜C9フェニルアルキルは、例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α,α−ジメチルベンジル又は2−フェニルエチルである。
置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたC5〜C8シクロアルキルは、例えば、シクロペンチル、メチルシクロペンチル、ジメチルシクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、トリメチルシクロヘキシル、tert−ブチルシクロヘキシル、シクロヘプチル又はシクロオクチルである。シクロヘキシル及びtert−ブチルシクロヘキシルが好ましい。
酸素又は硫黄により中断されたC3〜C25アルキルは、例えば、CH3−O−CH2CH2−、CH3−S−CH2CH2−、CH3−O−CH2CH2−O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−又はCH3−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−である。
10及びR11が、それらが結合する窒素原子と共に、置換されない又はC1〜C4アルキルにより置換された、或いは酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
を示す。R10及びR11は、それらが結合する窒素原子と共に、5又は6員複素環を形成することが好ましい。
2〜C18アルキレンは、分枝鎖状又は非分枝鎖状の基、例えば、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン又はオクタデカメチレンである。
酸素、硫黄又は
Figure 0005677853
により中断されたC4〜C18アルキレンは、例えば、−CH2CH2−O−CH2CH2−、−CH2CH2−S−CH2CH2−、−CH2CH2−NH−CH2CH2−、−CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2−、−CH2CH2−O−CH2CH2−O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−又は−CH2CH2−S−CH2CH2−である。
2〜C18アルケニレンは、例えば、ビニレン、メチルビニレン、オクテニルエチレン又はドデセニルエチレンである。C2〜C8アルケニレンが好ましい。
2〜20個の炭素原子を有するアルキリデンは、例えば、エチリデン、プロピリデン、ブチリデン、ペンチリデン、4−メチルペンチリデン、ヘプチリデン、ノニリデン、トリデシリデン、ノナデシリデン、1−メチルエチリデン、1−エチルプロピリデン又は1−エチルペンチリデンである。C2〜C8アルキリデンが好ましい。
7〜20個の炭素原子を有するフェニルアルキリデンは、例えば、ベンジリデン、2−フェニルエチリデン又は1−フェニル−2−ヘキシリデンである。C7〜C9フェニルアルキリデンが好ましい。
5〜C8シクロアルキレンは、2個の遊離原子価と少なくとも1個の環単位とを有する飽和炭化水素基であり、例えば、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン又はシクロオクチレンである。シクロヘキシレンが好ましい。
7〜C8ビシクロアルキレンは、例えば、ビシクロヘプチレン又はビシクロオクチレンである。
置換されない又はC1〜C4アルキルで置換されたフェニレンは、例えば、1,2−フェニレン、1,3−フェニレン、1,4−フェニレンである。1,4−フェニレンが好ましい。
式Vの化合物は、WO−A−06/024611に開示されている。
式Vの化合物についての例としての化合物(201)〜(247)が特に重要である。
Figure 0005677853
Figure 0005677853
Figure 0005677853
Figure 0005677853
Figure 0005677853
Figure 0005677853
Figure 0005677853
Figure 0005677853
スチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための方法であって、成分d)が式A−1、A−2a又はA−2bの化合物である方法が重要である。
Figure 0005677853
とりわけ好ましい成分d)は、式(248)の化合物である。
Figure 0005677853
少なくとも2種の成分の混合物は、スチレン系ポリマーの質量に対して0.001〜5%の量で存在することが好ましい。
好ましくは、2種の成分の質量比は、9.9:0.1〜0.1:9.9、例えば9:1〜1:9である。
本発明の方法において、成分a)及びb)の組み合わせが特に好ましい。
成分a)、b)、c)及びd)の他に更なる添加剤を含むスチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための方法が重要である。
更なる添加剤の例は、以下の通りである。
1.抗酸化剤
1.1. アルキル化モノフェノール、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、2−tert−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシメチルフェノール、側鎖において直鎖状又は分枝鎖状であるノニルフェノール、例えば、2,6−ジ−ノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルウンデカ−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデカ−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデカ−1’−イル)フェノール及びそれらの混合物。
1.2. ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−tert−アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、2,6−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート。
1.3. ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、2,2’−チオビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,6−ジ−sec−アミルフェノール)、4,4’−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
1.4. アルキリデンビスフェノール、例えば、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−tert−ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)−フェノール]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−tert−ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−tert−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル−フェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−tert−ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1−ビス−(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
1.5. O−、N−及びS−ベンジル化合物、例えば、3,5,3’,5’−テトラ−tert−ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)アミン、ビス(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
1.6. ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジ−オクタデシル−2−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート。
1.7. 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。
1.8. トリアジン化合物、例えば、2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−tert−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
1.9. ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−2,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
1.10. アシルアミノフェノール、例えば、4−ヒドロキシラウラニリド、4−ヒドロキシステアラニリド、オクチル−N−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
1.11. β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタンとのエステル。
1.12. β−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の一価又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン;3,9−ビス[2−{3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ}−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンとのエステル。
1.13. β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタンとのエステル。
1.14. 3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸の一価又は多価アルコール、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタンとのエステル。
1.15. β−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、例えば、N,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミド、N,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミド、N,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジド、N,N’−ビス[2−(3−[3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニルオキシ)エチル]オキサミド(Uniroyalにより供給されるNaugard(登録商標)XL−1)。
1.16. アスコルビン酸(ビタミンC)
1.17. アミン抗酸化剤、例えば、N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−(4−tert−オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばp,p’−ジ−tert−オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ−tert−ブチル−4−ジメチルアミノ−メチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラ−メチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、tert−オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノアルキル化及びジアルキル化tert−ブチル/tert−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化tert−ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化及びジアルキル化tert−ブチル/tert−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化tert−オクチル−フェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブタ−2−エン。
2. 紫外線吸収剤及び光安定剤
2.1. 2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(5’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−sec−ブチル−5’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−tert−アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビス−(α,α−ジメチルベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−tert−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール];2−[3’−tert−ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル]−2H−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300とのエステル交換生成物;[R−CH2CH2−COO−CH2CH2−]−2、ここでR=3’−tert−ブチル−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリアゾール−2−イルフェニル、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(α,α−ジメチルベンジル)−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニル]ベンゾトリアゾール;2−[2’−ヒドロキシ−3’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−5’−(α,α−ジメチルベンジル)−フェニル]ベンゾトリアゾール。
2.2. 2−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクチルオキシ、4−デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキシ、4,2’,4’−トリヒドロキシ及び2’−ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。
2.3. 置換及び非置換安息香酸のエステル、例えば、4−tert−ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−tert−ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ−tert−ブチルフェニル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
2.4. アクリレート、例えば、エチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナメート、メチルα−カルボメトキシ−p−メトキシシンナメート、N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ(α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート。
2.5. ニッケル化合物、例えば、n−ブチルアミン、トリエタノールアミン、N−シクロヘキシルジエタノールアミン等の更なる配位子を有する又は有さない2,2’−チオ−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1又は1:2錯体、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチル又はエチルエステルのニッケル塩、ケトキシム、例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、更なる配位子を有する又は有さない1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
2.6. 立体障害アミン、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)スクシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)n−ブチル−3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−tert−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの直鎖状又は環状の縮合物、トリス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、1,1’−(1,2−エタンジイル)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)スクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−モルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの直鎖状又は環状の縮合物、2−クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合物、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンとの縮合物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、4−ヘキサデシルオキシ−と4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとの混合物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンとの縮合物、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン並びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとの縮合物(CAS登録番号[136504−96−6]);1,6−ヘキサンジアミンと2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジン並びにN,N−ジブチルアミンと4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンとの縮合物(CAS登録番号[192268−64−7]);N−2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソ−スピロ[4,5]デカン、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ−[4,5]デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−メトキシフェニル)エテン、N,N’−ビス−ホルミル−N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、4−メトキシメチレンマロン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ[メチルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)]シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと2,2,6,6−テトラメチル−4−アミノピペリジン又は1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの反応生成物、2,4−ビス[N−(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−N−ブチルアミノ]−6−(2−ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジン、1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−4−オクタデカノイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、5−(2−エチルヘキサノイル)オキシメチル−3,3,5−トリメチル−2−モルホリノン、Sanduvor(Clariant;CAS登録番号106917−31−1]、5−(2−エチルヘキサノイル)オキシメチル−3,3,5−トリメチル−2−モルホリノン、2,4−ビス[(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−ピペリジン−4−イル)ブチルアミノ]−6−クロロ−s−トリアジンとN,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン)との反応生成物、1,3,5−トリス(N−シクロヘキシル−N−(2,2,6,6−テトラメチルピペラジン−3−オン−4−イル)アミノ)−s−トリアジン、1,3,5−トリス(N−シクロヘキシル−N−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペラジン−3−オン−4−イル)アミノ)−s−トリアジン。
2.7. オキサミド、例えば、4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−tert−ブトキサニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−tert−ブトキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−tert−ブチル−2’−エトキサニリド及びその2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ−tert−ブトキサニリドとの混合物、o−及びp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、及びo−及びp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
2.8. 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピル−オキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシプロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン、2−{2−ヒドロキシ−4−[3−(2−エチルヘキシル−1−オキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ]フェニル}−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(4−[2−エチルヘキシルオキシ]−2−ヒドロキシフェニル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン。
3. 金属不活性化剤、例えば、N,N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラール−N’−サリチロイルヒドラジン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジヒドラジド。
4. ホスファイト及びホスホナイト、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−クミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(2,4,6−トリス(tert−ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイト、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシン、2,2’,2"−ニトリロ[トリエチルトリス(3,3’,5,5’−テトラ−tert−ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスファイト]、2−エチルヘキシル(3,3’,5,5’−テトラ−tert−ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスファイト、5−ブチル−5−エチル−2−(2,4,6−トリ−tert−ブチルフェノキシ)−1,3,2−ジオキサホスフィラン。
5. ヒドロキシルアミン、例えば、N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。
6. ニトロン、例えば、N−ベンジル−α−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
7. チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート又はジステアリルジスルフィド。
8. 過酸化物捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエステル又はトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール又は2−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
9. 塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えば、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム及びパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモン又はピロカテコール酸亜鉛。
10. 核形成剤、例えば、滑石等の無機物、二酸化チタンや酸化マグネシウム等の金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩又は硫酸塩;モノカルボン酸又はポリカルボン酸やそれらの塩等の有機化合物、例えば、4−tert−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム;イオン性コポリマー(アイオノマー)等の高分子化合物。1,3:2,4−ビス(3’,4’−ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3:2,4−ジ(パラメチルジベンジリデン)ソルビトール及び1,3:2,4−ジ(ベンジリデン)ソルビトールがとりわけ好ましい。
11. 充填剤及び補強剤、例えば、炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、ガラスビーズ、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、黒鉛、木粉並びに他の天然物の粉又は繊維、合成繊維。
12. 他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、防炎剤、帯電防止剤及び発泡剤。
好ましい更なる添加剤は、例えば、光安定剤、酸掃去剤及び/又は帯電防止剤である。
a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン、及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物が、スチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるために適切である。
スチレン系ポリマーとしては、ポリスチレン、衝撃ポリスチレン、スチレンブタジエンコポリマー、透明衝撃ポリスチレン、ABS、MBS、MABS(透明ABS)、SAN、MS(メチルメタアクリレート−スチレン)、ASA、AES、ACS、並びにスチレン系コポリマー及び他のポリマーに基づくポリマーアロイ、とりわけエンジニアリングポリマー、例えばPC/ABS、PC/ASA、不飽和スチレン系ポリエステル、PPE(ポリフェニレンエーテル)/PS又はPPE/IPS。
従って、本発明の更なる目的はまた、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン、及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物を含むスチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための混合物でもあるが;但し、成分a)及び成分b)を含む混合物は、群c)又はd)から選択される少なくとも第3の成分を含む。
好ましい混合物は、成分a)及びb)の組み合わせを含まない。
成分a)、b)、c)及びd)から成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物並びに場合により更なる添加剤、例えば典型的には上記で概説されたものは、前記材料の質量に対して0.001〜5%の濃度でスチレン系ポリマー中に存在することが好ましい。
補助安定剤は、例えば、スチレン系ポリマーの全質量に対して0.01〜10%の濃度で添加される。
従って、本発明の更なる目的はまた、
i)スチレン系ポリマー、及び
ii)a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン、及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の添加剤混合物;(但し、成分a)及び成分b)を含む混合物は、群c)又はd)から選択される少なくとも第3の成分を含む)
を含む組成物でもある。
好ましい組成物は、成分a)及びb)を含む混合物を含まない。
組成物は、例えば、成分(i)及び(ii)の他に前記方法のために上記で概説された通りの更なる添加剤を含んでよい。
成分a)、b)、c)及びd)から成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物及び場合により更なる添加剤は、公知の方法に従って、例えば重合の前又は間、処理の前又は間に、或いはスチレン系ポリマーに添加剤混合物の溶液又は分散液を塗布し、必要な場合その後溶媒を蒸発させることによって、スチレン系ポリマーに組み込まれる。成分a)、b)、c)及びd)から成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物及び場合により更なる添加剤は、マスターバッチの形態でスチレン系ポリマーに添加することも可能である。
従って、本発明はまた、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン、及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の添加剤混合物;(但し、成分a)及び成分b)を含む混合物は、群c)又はd)から選択される少なくとも第3の成分を含む);スチレン系ポリマーと同一の又は相溶性がある熱可塑性材料を含むマスターバッチ組成物にも関する。
好ましくは、マスターバッチは、10〜80質量%の前記熱可塑性材料を含む。
また、成分a)、b)、c)及びd)から成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物及び場合により更なる添加剤は、重合の前又は間或いは処理の前に添加することも可能である。
その方法で安定化されるスチレン系ポリマーは、極めて広い種類の形態、例えば、膜、繊維、テープ、成形材料又は異形材の形態で、或いは表面コーティング、とりわけ粉末コーティング、接着剤又はセメントのための結合剤として使用され得る。
本発明によって製造されるスチレン系ポリマーは、有利には、各種の成形品の製造のために使用され得る。例は、以下の通りである。
I−1)浮遊装置、海洋用途、箱船、ブイ、デッキ用プラスチック木材、桟橋、ボート、カヤック、オール、及びビーチ強化材。
I−2)自動車用途、特に、バンパー、ダッシュボード、バッテリー、後部及び前部のライニング、フード下成形部品、ハットシェルフ、トランクライニング、インテリアライニング、エアバッグカバー、取付具(ライト)用電子成形品、ダッシュボード用枠、ヘッドランプガラス、計器板、エクステリアライニング、室内内張り、自動車用ライト、ヘッドライト、パーキングライト、リアライト、ストップライト、インテリア及びエクステリアトリム;ドアパネル;ガスタンク;グレイジングフロントサイド;リアウインドウ;シートバッキング、外部パネル、電線用絶縁体、密封用異形押出材、外装材、ピラーカバー、シャシー部品、排気システム、燃料フィルタ/フィラ、燃料ポンプ、燃料タンク、ボディサイド成形品、コンバーティブルトップ、エクステリアミラー、エクステリアトリム、ファスナー/内装材、フロントエンドモジュール、ガラス、ヒンジ、ロックシステム、荷物/ルーフラック、圧縮/型打ち部品、シール、側面衝撃保護材、制振材/絶縁体及びサンルーフ。
I−3)道路交通装置、特に、道路標識、路面標示用標識、自動車付属品、ワーニングトライアングル、メディカルケース、ヘルメット、タイヤ。
I−4)備品を含む航空機、鉄道、自動車(乗用車、バイク)用装置。
I−5)宇宙用途、特にロケット及び人工衛星のための装置、例えば再突入シールド。
I−6)建築及び設計用装置、採鉱用途、防音システム、路上安全地帯、シェルター。
II−1)機器、一般的及び電気/電子装置(パーソナルコンピュータ、電話、携帯電話、プリンタ、テレビジョン受信機、オーディオ装置及びビデオ装置)におけるケース及びカバー、植木鉢、衛星テレビアンテナ、及びパネル装置。
II―2)鋼や織物等の他の材料のための被覆材。
II−3)電子産業用装置、特に、プラグ用、とりわけコンピュータプラグ用絶縁体、電気及び電子部品用ケース、プリント基板、電子データ保存用材料、例えばチップ、チェックカード又はクレジットカード。
II−4)電気器具、特に、洗濯機、タンブラ、オーブン(電子オーブン)、食器洗浄機、ミキサ及びアイロン。
II−5)ライト用カバー(例えば、街灯、ランプシェード)。
II−6)電線及びケーブルにおける用途(半導体、絶縁体及びケーブル被覆材)。
II−7)コンデンサ用、冷蔵庫用、加熱装置用、エアコンディショナ用箔、電子部品、半導体、コーヒーマシン及び真空掃除機の封入材。
III−1)工業用物品、例えば、歯車(ギア)、スライド取付具、スペーサ、ネジ、ボルト、ハンドル及びノブ。
III−2)ロータブレード、ベンチレータ及び風車羽根、太陽装置、スイミングプール、スイミングプールのカバー、プールのライナ、池のライナ、クロゼット、ワードローブ、隔壁、スラット壁、折れ戸、屋根、シャッタ(例えば回転式シャッタ)、取付具、パイプ接合部、スリーブ及びコンベヤーベルト。
III−3)衛生用品、特に、シャワー室、便座、カバー及びシンク。
III−4)衛生的物品、特に、おむつ(乳児、成人の失禁)、女性の衛生的物品、シャワーカーテン、ブラシ、マット、タブ、移動式トイレ、歯ブラシ及び便器。
III−5)水用、汚水用及び化学物質用パイプ(架橋又は非架橋)、電線及びケーブル保護用パイプ、ガス用、油用及び汚水用パイプ、樋、ダウンパイプ及び排水装置。
III−6)任意の幾何学的配置(窓ガラス)及び羽目板の異形材。
III−7)ガラス代替品、特に、押し出しプレート、建物(一枚壁、二枚壁又は多重壁)用グレージング、航空機、学校、押し出しシート、建築グレージング用窓フィルム、電車、輸送機関、衛生用品及び温室。
III−8)プレート(壁、まな板)、押し出しコーティング(写真印画紙、テトラパック及びパイプコーティング)、サイロ、木材代替品、プラスチック材木、木質複合材料、壁、表層、調度品、装飾的箔、床仕上げ材(インテリア及びエクステリア用途)、フローリング、ダックボード及びタイル。
III−9)吸気マニホールド及び排気マニホールド。
III−10)セメント用途、コンクリート用途、複合用途及びカバー、羽目板及び外装材、手すり、欄干、台所調理台、屋根、屋根板、タイル及び防水シート。
IV−1)プレート(壁及びまな板)、トレイ、人工芝、アストロターフ、スタジアムリング(運動競技)用人工カバー、スタジアムリング(運動競技)用人工床、及びテープ。
IV−2)連続的及び主要織物、繊維(カーペット/衛生的物品/ジオテキスタイル/モノフィラメント;フィルタ;ワイプ/カーテン(日除け)/医療用途)、ばら繊維(ガウン/保護服等の用途)、ネット、ロープ、ケーブル、紐、コード、糸、安全シートベルト、服、下着、手袋;ブーツ;ゴムブーツ、肌着、衣類、水着、スポーツウェア、傘(パラソル、日除け)パラシュート、パラグライダ、帆、「バルーン−シルク」、キャンプ用品、テント、エアベッド、サンベッド、バルクバッグ及びバッグ。
IV−3)屋根用、トンネル用、投棄場用、池用の膜、絶縁体、カバー及びシール、投棄場、壁の屋根葺き膜、ジオメンブレン、スイミングプール、カーテン(日除け)/サンシールド、天幕、キャノピー、壁紙、食品パック及びラップ(可撓性及び固形)、医療用パック(可撓性及び固形)、エアバッグ/安全ベルト、アームレスト及びヘッドレスト、カーペット、センターコンソール、ダッシュボード、コックピット、ドア、オーバーヘッドコンソールモジュール、ドアトリム、ヘッドライナ、インテリアライト、インテリアミラー、手荷物棚、後部荷物カバー、シート、ステアリングカラム、ステアリングホイール、織物及びトランクトリム。
V)フィルム(パック、投棄場、ラミネート加工、農業及び園芸、温室、根おおい、トンネル、サイレージ)、ベールラップ、スイミングプール、廃物バッグ、壁紙、ストレッチフィルム、ラフィア、脱塩フィルム、バッテリー、及びコネクタ。
VI−1)食品パック及びラップ(可撓性及び固形)、ビン。
VI−2)貯蔵システム、例えば、箱(木枠)、荷台、棚、家庭用箱、パレット、棚、トラック、ねじ箱、パック及び缶。
VI−3)カートリッジ、注射器、医療用途、任意の輸送用容器、屑かご及びごみ入れ、廃物バッグ、ごみ箱、ごみ容器、ごみ袋、車輪付きごみ箱、一般的な容器、水/汚水/化学物質/ガス/油/ガソリン/ディーゼル用タンク;タンクライナ、箱、木枠、バッテリケース、トラフ、医療機器、例えばピストン、眼科医療用途、診断装置、及び医薬品用ブリスターパック。
VII−1)押し出しコーティング(写真紙、テトラパック、パイプコーティング)、任意の種類の家庭用品(例えば、電化製品、魔法瓶/ハンガー)、ファスニングシステム、例えば、プラグ、電線及びケーブルクランプ、ジッパー、クロージャ、ロック及びスナップクロージャ。
VII−2)支持装置、レジャー用品、例えばスポーツ及びフィットネス装置、体操マット、スキーブーツ、インラインスケート、スキー、ビッグフット、運動競技の表層(例えばテニスグラウンド);ねじ蓋、ビン用蓋及びストッパ、及び缶。
VII−3)一般的な調度品、発泡品(クッション、衝撃吸収材)、発泡体、スポンジ、皿洗い用布、マット、ガーデンチェア、スタジアムシート、テーブル、ソファ、玩具、組み立てキット、(ボード/フィギュア/ボール)、プレイハウス、滑り台及びおもちゃの車両。
VII−4)光学及び磁気データ記憶用材料。
VII−5)台所製品(食事、飲酒、料理、貯蔵)。
VII−6)CD用、カセット用及びビデオテープ用の箱;DVD電子物品、任意の種類の事務用品(ボールペン、スタンプ及び印肉、マウス、棚、トラック)、任意の容積及び容量のビン(飲料、洗剤、香水を含む化粧品)、及び粘着テープ。
VII−7)履物(靴/靴底)、内底、スパッツ、接着剤、構造用接着剤、食品箱(果物、野菜、肉、魚)、合成紙、ビン用ラベル、ソファ、人工関節(ヒト)、印刷版(フレキソ印刷)、プリント回路基板、及び表示技術。
VII−8)充填ポリマーの装置(タルク、チョーク、チャイナクレー(カオリン)、ウォラストナイト、顔料、カーボンブラック、TiO2、雲母、ナノ複合材料、ドロマイト、ケイ酸塩、ガラス、アスベスト)。
従って、本発明の更なる一実施態様は、成形品、特に、フィルム、パイプ、異形材、ビン、タンク又は容器、上記の通りの組成物を含む繊維に関する。
フィルムが好ましい。フィルムは、吹込フィルム、キャストフィルムとして、又は、押出しコーティングを介して製造され得る。多層フィルムがとりわけ好ましい。
本発明の更なる一実施態様は、上記の通りの組成物を含む成形品に関する。成形は、特に、射出、ブロー、圧縮、回転成形又はスラッシュ成形或いは押し出しにより行われる。
本発明の好ましい一実施態様は、同様に、スチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン、及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の混合物の使用である。
スチレン系ポリマー安定剤の製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させる使用のための、a)フェノールチオエーテル、b)フェノールアクリレート、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン、及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも2種の成分の好ましい混合物は、スチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための方法について記載されたものと同じである。
以下の実施例は、本発明を更に示すものである。部又はパーセンテージは、質量に関する。
実施例1:スチレンモノマーが減少したポリスチレン。
0.10%の添加剤をポリスチレン[Chimei(台湾)により供給されるGPPSグレードPG383M]に添加し、ヘンシェルミキサ内で混合する。次いで、混合物を、最高で220℃の温度で一軸押出機(Gottfert GmbH)において押し出す。得られたポリスチレンペレットを射出成形機(Engel Gmbh)に送り込み、射出前に250℃で10分間シリンダ内で保持する。得られたプラークのスチレンモノマー含量をHPLC/UVで測定する。結果を第3表にまとめる。
Figure 0005677853
a)比較例
b)本発明による実施例(但し、例1fは参考例)
c)化合物B−1は、以下の式:
Figure 0005677853
の3−アリールベンゾフラン−2−オンである。
d)Irganox 3052(RTM、Ciba Inc.)は、以下の式:
Figure 0005677853
(Irganox 3052)
のフェノールアクリレートである。
e)Irganox 1726(RTM、Ciba Inc.)は、以下の式:
Figure 0005677853
(Irganox 1726)
のフェノールチオエーテルである。
f)アクリルアミドA−1は、以下の式:
Figure 0005677853
(A−1)
の1,1−二置換エチレンである。
g)アクリルシアノエステルA−2は、以下の式:
Figure 0005677853
(A−2a)
(A−2b)
の三置換エチレンの異性体混合物である。

Claims (12)

  1. a)フェノールチオエーテルと、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも種の成分と、の混合物を含むスチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための方法であって、
    成分a)が、式I
    Figure 0005677853
    [式中、
    1は、水素、C1〜C20アルキル、スチリル、α−メチルスチリル又は−CH2−S−R3;或いはC2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル、フェニル又はトリルで置換されたC1〜C20アルキルであり;
    2は、C1〜C20アルキル又は−CH2−S−R3であり、
    3は、C1〜C20アルキル;フェニル、ヒドロキシル、シアノ、ホルミル、アセチル又は−O−CO−R5で置換されたC1〜C20アルキル;C2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル;或いはヒドロキシル、フェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシカルボニルフェニル、p−トリル、1,3−ベンズチアゾール−2−イル、−(CHR5nCOOR6又は−(CHR5nCONR78で置換されたC5〜C9シクロアルキルであり;
    4は、水素又はメチルであり、
    5は、水素又はC1〜C6アルキルであり、
    6は、C1〜C20アルキル;酸素又は硫黄で中断されたC3〜C20アルキル;C5〜C9シクロアルキル、フェニル、ベンジル又はトリルであり、
    7及びR8は、互いに独立して水素又はC1〜C6アルキルであり、及び
    nは、1又は2である]の化合物であり
    分d)が、式A−1、A−2a又はA−2b
    Figure 0005677853
    の化合物である、前記方法。
  2. 成分c)が、式III
    Figure 0005677853
    [式中、
    19は、水素又はC1〜C8アルキルであり、
    20は、C1〜C12アルキルであり、
    21は、水素、C1〜C4アルキル又はC2〜C8アルカノイルであり、
    22は、水素又はC1〜C8アルキルであり;或いはR21及びR22或いはR22及びR23は、それらが結合する炭素原子と共にC6〜C8シクロアルキレン環を形成し、
    23は、水素、C1〜C4アルキル又はC1〜C4アルコキシであり、及び
    24は、水素又はC1〜C12アルキルである]の化合物である、請求項1に記載の方法。
  3. 成分a)、c)及びd)の他に、更なる添加剤を含む、請求項1または2に記載の方法。
  4. 更なる添加剤として、光安定剤、酸掃去剤及び/又は帯電防止剤を含む、請求項3に記載の方法。
  5. 記混合物が、前記スチレン系ポリマーの質量に対して0.001〜5%の量で存在する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  6. a)フェノールチオエーテルと、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも種の成分の混合物と、を含むスチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための混合物であって;
    成分a)が、式I
    Figure 0005677853
    [式中、
    1は、水素、C1〜C20アルキル、スチリル、α−メチルスチリル又は−CH2−S−R3;或いはC2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル、フェニル又はトリルで置換されたC1〜C20アルキルであり;
    2は、C1〜C20アルキル又は−CH2−S−R3であり、
    3は、C1〜C20アルキル;フェニル、ヒドロキシル、シアノ、ホルミル、アセチル又は−O−CO−R5で置換されたC1〜C20アルキル;C2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル;或いはヒドロキシル、フェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシカルボニルフェニル、p−トリル、1,3−ベンズチアゾール−2−イル、−(CHR5nCOOR6又は−(CHR5nCONR78で置換されたC5〜C9シクロアルキルであり;
    4は、水素又はメチルであり、
    5は、水素又はC1〜C6アルキルであり、
    6は、C1〜C20アルキル;酸素又は硫黄で中断されたC3〜C20アルキル;C5〜C9シクロアルキル、フェニル、ベンジル又はトリルであり、
    7及びR8は、互いに独立して水素又はC1〜C6アルキルであり、及び
    nは、1又は2である]の化合物であり
    分d)が、式A−1、A−2a又はA−2b
    Figure 0005677853
    の化合物である、前記混合物。
  7. i)スチレン系ポリマー、及び
    ii)a)フェノールチオエーテルと、c)3−アリールベンゾフラン−2−オン及びd)1,1−二置換エチレン又は三置換エチレンから成る群から選択される少なくとも種の成分と、の添加剤混合物;を含む組成物であって、
    成分a)が、式I
    Figure 0005677853
    [式中、
    1は、水素、C1〜C20アルキル、スチリル、α−メチルスチリル又は−CH2−S−R3;或いはC2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル、フェニル又はトリルで置換されたC1〜C20アルキルであり;
    2は、C1〜C20アルキル又は−CH2−S−R3であり、
    3は、C1〜C20アルキル;フェニル、ヒドロキシル、シアノ、ホルミル、アセチル又は−O−CO−R5で置換されたC1〜C20アルキル;C2〜C20アルケニル、C3〜C20アルキニル、C5〜C9シクロアルキル;或いはヒドロキシル、フェニル、4−クロロフェニル、2−メトキシカルボニルフェニル、p−トリル、1,3−ベンズチアゾール−2−イル、−(CHR5nCOOR6又は−(CHR5nCONR78で置換されたC5〜C9シクロアルキルであり;
    4は、水素又はメチルであり、
    5は、水素又はC1〜C6アルキルであり、
    6は、C1〜C20アルキル;酸素又は硫黄で中断されたC3〜C20アルキル;C5〜C9シクロアルキル、フェニル、ベンジル又はトリルであり、
    7及びR8は、互いに独立して水素又はC1〜C6アルキルであり、及び
    nは、1又は2である]の化合物であり
    分d)が、式A−1、A−2a又はA−2b
    Figure 0005677853
    の化合物であ、前記組成物。
  8. 成分(i)及び(ii)の他に、更なる添加剤を含む、請求項7に記載の組成物。
  9. 請求項に記載の添加剤混合物と、スチレン系ポリマーと同一の又は相溶性がある熱可塑性材料とを含むマスターバッチ組成物。
  10. 10〜80質量%の前記熱可塑性材料を含む、請求項9に記載のマスターバッチ組成物。
  11. 請求項6に記載の混合物を含む成形品。
  12. スチレン系ポリマーの製造及び処理の間に飽和又は不飽和のモノマー及びオリゴマーの量を減少させるための請求項6に記載の混合物の使用。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101854892B1 (ko) 2010-11-16 2018-05-04 바스프 에스이 중합체를 위한 안정화제 조성물
US10414909B2 (en) 2015-10-16 2019-09-17 Sumitomo Rubber Industries, Ltd. Rubber composition
JP7100464B2 (ja) * 2018-02-23 2022-07-13 Psジャパン株式会社 スチレン系樹脂組成物、スチレン系樹脂混合物、発泡シート、及び成形品
WO2023059623A1 (en) * 2021-10-05 2023-04-13 Board Of Trustees Of Michigan State University Methods for depolymerization of substituted vinyl polymers

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2948969C2 (de) 1978-12-06 1982-03-18 Asahi Kasei Kogyo K.K., Osaka Monoester von 3,5;3',5'-kernsubstituierten gem.-Di-(2-hydroxyphenyl)-alkanen, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung
JPS5884835A (ja) 1981-11-17 1983-05-21 Sumitomo Chem Co Ltd 安定化合成ゴム組成物
US4562281A (en) 1983-12-14 1985-12-31 Sumitomo Chemical Company, Limited Production of bisphenol derivatives
US4774274A (en) 1986-06-25 1988-09-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Thermally stabilized butadiene resins containing a hindered phenolic acrylate or methacrylate
CA2060787C (en) 1991-02-18 2002-07-02 Kikumitsu Inoue Production of bisphenol monoester
CH686306A5 (de) 1993-09-17 1996-02-29 Ciba Geigy Ag 3-Aryl-benzofuranone als Stabilisatoren.
DE4414043A1 (de) * 1994-04-22 1995-10-26 Basf Ag Stabilisierung von Polystyrol durch phenolische Stabilisatoren
TW303381B (ja) 1994-12-05 1997-04-21 Ciba Sc Holding Ag
EP0727410A1 (de) 1995-02-08 1996-08-21 Ciba-Geigy Ag Bisphenolesterderivate
JPH1171489A (ja) * 1997-06-24 1999-03-16 Asahi Chem Ind Co Ltd ゴム補強スチレン系樹脂組成物
EP0905181B1 (de) * 1997-09-29 2003-01-15 Ciba SC Holding AG Stabilisatorgemisch für organische Materialien
WO2001018102A1 (en) * 1999-09-10 2001-03-15 Kt Holdings, Llc Novel polymer additives for forming objects
TW491833B (en) 2000-01-10 2002-06-21 Ciba Sc Holding Ag Improved process for the preparation of mercaptomethylphenols
JP5062936B2 (ja) * 2000-05-25 2012-10-31 旭化成ケミカルズ株式会社 ブロック共重合体及びその組成物
DE10055942A1 (de) * 2000-11-10 2002-06-06 Tesa Ag Haftklebemasse und ihre Verwendung
JP4703039B2 (ja) * 2001-06-20 2011-06-15 日本エラストマー株式会社 ブロック共重合体組成物
TW593303B (en) * 2001-09-11 2004-06-21 Ciba Sc Holding Ag Stabilization of synthetic polymers
JP5566575B2 (ja) 2004-08-31 2014-08-06 チバ ホールディング インコーポレーテッド 有機材料の安定化
ES2367796T3 (es) * 2004-08-31 2011-11-08 Basf Se Estabilización de materiales orgánicos.

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