JP5669125B2 - 不純物除去装置及び不純物除去方法 - Google Patents
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Description
また、固定床反応容器の最下流の充填部に不純物除去剤が必ず存在しているので、原料ガスの流通を連続させることができる。
また、流入用の通路からの原料ガスの流れ方向を変更し、固定床反応容器における原料ガスの流通方向を逆転させることで、出口側に破過状態の不純物除去剤が存在する前の状態で原料ガスを連続して流通させて不純物除去剤を使い切ることができる。
そして、原料ガスの流れ方向を変更することで、変更後の最下流の出口側の不純物除去剤を最後に使用することができ、最下流の出口の不純物除去剤が汚れていない状態を維持することができる。
と共に、塩化水素、フッ化水素等のハロゲン化物を1ppm以下の低濃度に除去し、更に、硫黄化合物を1ppm以下の低濃度に除去して不特定の不純物が高い清浄度で除去された燃料ガスを精製し、例えば、溶融炭酸塩型燃料電池、ガスエンジン、ガスタービン等の燃料ガスとして用いるものである。
(2)原料ガスが浄化され、充填層Aの左側の不純物除去剤が吸収済みとなる。
(3)充填層Aの不純物除去剤の破過が検出される。破過の検出は流通するガスの成分を分析することにより行われる。
(4)充填層Aの下流側から充填層Bに原料ガスが流され、充填層Bで原料ガスが浄化される(切換え手段)。
(5)充填層Aの不純物除去剤が排出される。
(6)充填層Aに新品の不純物除去剤が充填される。
(8)充填層Bの不純物除去剤の破過が検出される。
(9)充填層Bの下流側から充填層Aに原料ガスが流され、充填層Aの右側の不純物除去剤が浄化される(切換え手段)。
(10)充填層Bの不純物除去剤が排出される。
(11)充填層Bに新品の不純物除去剤が充填される。
(12)原料ガスの流れが順方向に反転される。
され、原料ガスが順方向に流される。
(2)原料ガスが浄化され、充填層Aの左側の不純物除去剤が吸収済みとなる。
(3)充填層Aの不純物除去剤の破過が検出される。破過の検出は流通するガスの成分を分析することにより行われる。
(4)充填層Aの不純物除去剤が排出される。
(5)原料ガスが充填層Bで浄化され、充填層Bの左側の不純物除去剤が吸収済みとなる。
(6)充填層Bの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Cで浄化される。
(7)充填層Aに不純物除去剤が充填され、原料ガスが充填層Aで浄化される。
(8)充填層Bの不純物除去剤が排出される。
(9)充填層Bに不純物除去剤が充填される。
(10)充填層Aの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Bで浄化される。
(11)充填層Aの不純物除去剤が排出される。
(12)充填層Bの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Cで浄化される。
(14)原料ガスが反転されて逆方向に流され、原料ガスが充填層Cで浄化される。充填層Aに不純物除去剤が充填される。
(15)充填層Bの不純物除去剤が排出される。
(16)充填層Bに不純物除去剤が充填される。
(17)充填層Cの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Bで浄化される。
(18)充填層Cの不純物除去剤が排出される。
(19)充填層Bの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Aで浄化される。
(21)充填層Bの不純物除去剤が排出される。
(22)充填層Bに不純物除去剤が充填される。
(23)充填層Cの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Bで浄化される。
(24)充填層Cの不純物除去剤が排出される。
(25)充填層Bの不純物除去剤の破過が検出され、原料ガスが充填層Aで浄化される。
(27)原料ガスが反転されて順方向に流され、原料ガスが充填層Aで浄化される。充填層Cに不純物除去剤が充填される。
(28)充填層Bの不純物除去剤が排出される。
(29)充填層Bに不純物除去剤が充填される。
(2)原料ガスが浄化され、充填層Bの左側の不純物除去剤が吸収済みとなる。
(3)充填層Bの不純物除去剤の破過が検出される。破過の検出は、充填層Bと充填層Cの間で破過検出手段71により検出される。充填層Cで原料ガスが浄化される。
(4)充填層Aに新品の不純物除去剤が充填され、充填層Aで原料ガスが浄化される。
(5)充填層Bの不純物除去剤が排出される。
(6)充填層Aの不純物除去剤の破過が検出される。破過の検出は、充填層Bと充填層Cの間で破過検出手段71により検出される。充填層Cで原料ガスが浄化される。
(7)充填層Bに不純物除去剤が充填され、充填層Bで原料ガスが浄化される。
(8)充填層Aの不純物除去剤が排出される。
(10)充填層Bの不純物除去剤が排出され、充填層Bの下流側から充填層Cに原料ガスが流され、充填層Cで原料ガスが浄化される(切換え手段)。
(11)充填層Bに不純物除去剤が充填される。
(13)充填層Cの不純物除去剤の破過が検出される。破過の検出は、充填層Bと充填層Cの間で破過検出手段71により検出される。
(14)充填層Dに不純物除去剤が充填され、充填層Dで原料ガスが浄化される。
(15)充填層Cの不純物除去剤が排出される。
(17)充填層Cに不純物除去剤が充填され、充填層Cで原料ガスが浄化される。
(18)充填層Dの不純物除去剤が排出される。
(19)充填層Cの不純物除去剤の破過が検出され、充填層Bで原料ガスが浄化される。破過の検出は、充填層Bと充填層Cの間で破過検出手段71により検出される。
(20)充填層Dに不純物除去剤が充填され、充填層Dで原料ガスが浄化される。
(21)充填層Cの不純物除去剤が排出される。
(23)充填層Dの不純物除去剤が排出され、充填層Cの下流側から充填層Bに原料ガスが流され、充填層Bで原料ガスが浄化される(切換え手段)。
(24)充填層Cに不純物除去剤が充填される。
(25)原料ガスの流れが反転され、充填層A、充填層B、充填層C、充填層Dの順方向に原料ガスが流される(切換え手段)。
2 バグフィルター
3 重金属類除去装置
4、81 ハロゲン化物除去装置
5、84 脱硫装置
8 熱交換器
11、12、13、51、52、53、61、62、63、82 固定床反応容器
15、97 銅系吸収剤
16、83 ハロゲン化物吸収剤
17 脱硫剤
21、22 出入り口通路
23 本体部
24 供給手段
25 供給コンベア装置
26 供給サイロ
27 供給通路
28 供給ホッパ
29 入口供給弁
30 出口供給弁
34 排出手段
35 排出通路
36 排出コンベア装置
37 排出ホッパ
38 入口排出弁
39 出口排出弁
40、41 通路
42 第1通路
43 第2通路
44 反転通路
45 第1開閉弁
46 第2開閉弁
47 第3開閉弁
48 第4開閉弁
49 第5開閉弁
71 破過検出手段
80 乾式ガス精製設備
85、86、87 反応塔
88 触媒ブロック
90 アンモニア分解装置
91、92 反応容器
93 触媒
94 熱交換器
95 除去容器
96 水銀除去装置
98 バグフィルター
99 タービン設備
Claims (2)
- 原料ガスの流れに沿って独立した第1の充填部(A:A、B)、第2の充填部(B:C、D)を備えた固定床反応容器と、
不純物を除去する不純物除去剤を前記第1の充填部、前記第2の充填部に個別に供給する供給手段と、
不純物を除去した後の不純物除去剤を前記第1の充填部、前記第2の充填部から個別に排出する排出手段と、
原料ガスが送られる流入用の通路(41)と、
前記流入用の通路(41)から分岐される第1通路(42)、及び、第2通路(43)と、
前記第1通路(42)、及び、前記第2通路(43)の最下流部が接続され、精製ガスを後流側に送る供給用の通路(40)と、
前記第1通路(42)と前記第1の充填部の側の端部における前記固定床反応容器とを接続する第1の出入り口通路(21)と、
前記第2通路(43)と前記第2の充填部の側の端部における前記固定床反応容器とを接続する第2の出入り口通路(22)と、
前記流入用の通路(41)と前記第1の充填部、及び、前記第2の充填部の間における前記固定床反応容器とを接続する反転通路(44)と、
前記第1通路(42)の、前記第1の出入り口通路(21)との接続部の前記流入用の通路(41)側に設けられ、流路を開閉する第1開閉弁(45)と、
前記第1通路(42)の、前記第1の出入り口通路(21)との接続部の前記供給用の通路(40)側に設けられ、流路を開閉する第2開閉弁(46)と、
前記第2通路(43)の、前記第2の出入り口通路(22)との接続部の前記流入用の通路(41)側に設けられ、流路を開閉する第3開閉弁(47)と、
前記第2通路(43)の、前記第2の出入り口通路(22)との接続部の前記供給用の通路(40)側に設けられ、流路を開閉する第4開閉弁(48)と、
前記反転通路(44)に設けられ、流路を開閉する第5開閉弁(49)と、
前記供給手段及び前記排出手段の動作、前記第1開閉弁(45)、前記第2開閉弁(46)、前記第3開閉弁(47)、前記第4開閉弁(48)、前記第5開閉弁(49)の開閉動作を統合して制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
前記第1開閉弁(45)、前記第4開閉弁(48)を開動作させると共に、前記第2開閉弁(46)、前記第3開閉弁(47)、前記第5開閉弁(49)を閉動作させることで、前記原料ガスを、前記流入用の通路(41)から、前記第1通路(42)、前記第1の出入り口通路(21)、前記第1の充填部、前記第2の充填部、前記第2の出入り口通路(22)、前記第2通路(43)に流通させて前記供給用の通路(40)に送る順方向流れと、
前記第4開閉弁(48)、前記第5開閉弁(49)を開動作させると共に、前記第1開閉弁(45)、前記第2開閉弁(46)、前記第3開閉弁(47)を閉動作させることで、前記原料ガスを、前記流入用の通路(41)から、前記反転通路(44)、前記第2の充填部、前記第2の出入り口通路(22)、前記第2通路(43)に流通させて前記供給用の通路(40)に送る一部順方向流れと、
前記第2開閉弁(46)、前記第3開閉弁(47)を開動作させると共に、前記第1開閉弁(45)、前記第4開閉弁(48)、前記第5開閉弁(49)を閉動作させることで、前記原料ガスを、前記流入用の通路(41)から、前記第2通路(43)、前記第2の出入り口通路(22)、前記第2の充填部、前記第1の充填部、前記第1の出入り口通路(21)、前記第1通路(42)に流通させて前記供給用の通路(40)に送る逆方向流れと、
前記第2開閉弁(46)、前記第5開閉弁(49)を開動作させると共に、前記第1開閉弁(45)、前記第3開閉弁(47)、前記第4開閉弁(48)を閉動作させることで、前記原料ガスを、前記流入用の通路(41)から、前記反転通路(44)、前記第1の充填部、前記第1の出入り口通路(21)、前記第1通路(42)に流通させて前記供給用の通路(40)に送る一部逆方向流れと、
の順に前記原料ガスの流通方向を変更し、
前記供給手段、前記排出手段を制御することにより、
前記原料ガスの流れが前記一部順方向流れになっている際に、前記第2の充填部に新品を含む不純物除去剤が存在している状態で、前記第1の充填部の不純物除去剤を排出し、新たな不純物除去剤を供給し、
前記原料ガスの流れが前記一部逆方向流れになっている際に、前記第1の充填部に新品を含む不純物除去剤が存在している状態で、前記第2の充填部の不純物除去剤を排出し、新たな不純物除去剤を供給する
ことを特徴とする不純物除去装置。 - 原料ガスの流れに沿って独立した第1の充填部(A:A、B)、第2の充填部(B:C、D)を備えた固定床反応容器と、
不純物を除去する不純物除去剤を前記第1の充填部、前記第2の充填部に個別に供給する供給手段と、
不純物を除去した後の不純物除去剤を前記第1の充填部、前記第2の充填部から個別に排出する排出手段と、
原料ガスが送られる流入用の通路(41)と、
前記流入用の通路(41)から分岐される第1通路(42)、及び、第2通路(43)と、
前記第1通路(42)、及び、前記第2通路(43)の最下流部が接続され、精製ガスを後流側に送る供給用の通路(40)と、
前記第1通路(42)と前記第1の充填部の側の端部における前記固定床反応容器とを接続する第1の出入り口通路(21)と、
前記第2通路(43)と前記第2の充填部の側の端部における前記固定床反応容器とを接続する第2の出入り口通路(22)と、
前記流入用の通路(41)と前記第1の充填部、及び、前記第2の充填部の間における前記固定床反応容器とを接続する反転通路(44)とを備え、
前記原料ガスの流れが、前記流入用の通路(41)から、前記第1通路(42)、前記第1の出入り口通路(21)、前記第1の充填部、前記第2の充填部、前記第2の出入り口通路(22)、前記第2通路(43)に流通する順方向流れになるように流路を切替えて、前記原料ガスを前記供給用の通路(40)に送り、
前記第1の充填部の不純物除去剤の破過が検出された際に、前記原料ガスの流れが、前記流入用の通路(41)から、前記反転通路(44)、前記第2の充填部、前記第2の出入り口通路(22)、前記第2通路(43)に流通する一部順方向流れになるように流路を切替えて、前記原料ガスを前記供給用の通路(40)に送り、
前記一部順方向流れで、前記第2の充填部に新品を含む不純物除去剤が存在している状態で、前記第1の充填部の不純物除去剤を排出し、新たな不純物除去剤を供給し、
前記第1の充填部に新たな不純物除去剤が供給された後、前記原料ガスの流れが、前記流入用の通路(41)から、前記第2通路(43)、前記第2の出入り口通路(22)、前記第2の充填部、前記第1の充填部、前記第1の出入り口通路(21)、前記第1通路(42)に流通する逆方向流れになるように流路を切替えて、前記原料ガスを前記供給用の通路(40)に送り、
前記第2の充填部の不純物除去剤の破過が検出された際に、前記原料ガスの流れが、前記流入通路(41)から、前記反転通路(44)、前記第1の充填部、前記第1の出入り口通路(21)、前記第1通路(42)に流通する一部逆方向流れになるように流路を切替えて、前記原料ガスを前記供給用の通路(40)に送り、
前記一部逆方向流れで、前記第1の充填部に新品を含む不純物除去剤が存在している状態で、前記第2の充填部の不純物除去剤を排出し、新たな不純物除去剤を供給し、
前記原料ガスの流通を、前記順方向流れ、前記一部順方向流れ、前記逆方向流れ、前記一部逆方向流れの順に繰り返す
ことを特徴とする不純物除去方法。
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