JP5663259B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
101 プラズマ処理室
102 プロセスプラズマ
103 シャワープレート
106 石英プレート
108 高周波アンテナ
109 ヨーク
110 ソレノイドコイル
111 高周波電源
112 放電室内側壁
113 試料台
114 直流電源
115 温調ユニット
117 RFバイアス電源
118 排気ゲートプレート
119 コンダクタンス可変バルブ
120 排気ポンプ
128 ウエハ
129 処理室底面
201 異物の遮蔽板
202 磁力線
203 微小異物
Claims (7)
- プラズマ発生装置と、減圧可能な真空容器と、真空容器にガスを供給するガス供給装置と、プラズマ処理を施すウエハを保持する試料台と、試料台上に支持されたウエハに高周波を印加する装置と、真空排気装置より成るエッチング処理装置において、その装置で発生した微小異物が、プラズマ処理を施すウエハより下流側に位置する前記真空排気装置としてのターボ分子ポンプやプラズマ処理を施すウエハより下流側に位置するプラズマ処理室壁で跳ね返ることで、ウエハ表面に至ることを防止する異物の遮蔽板を設け、この遮蔽板を試料台より下流側に設置し、該遮蔽板の下流側に分子流領域とし、その分子流領域に存在する異物の入射角が10度以下となるよう前記遮蔽板の面の向きを磁力線の方向に対して垂直としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1記載のプラズマ処理装置において、前記異物の遮蔽板の角度は、当該異物の遮蔽板の中心位置における磁力線の方向に対して垂直としたことを特徴とし、少なくとも2枚以上の異物の遮蔽板で構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項2記載のプラズマ処理装置において、前記異物の遮蔽板の材質は、ハロゲン系のプロセスプラズマに対して耐性のある材料としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項3記載のプラズマ処理装置において、前記異物の遮蔽板に使用する材質として、SiO2(石英)、Al2O3(アルミナセラミックス)、SiC(炭化ケイ素)、Y2O3(イットリア)、Gd2O3、Yb2O3の石英もしくは焼結体から成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項3記載のプラズマ処理装置において、前記異物の遮蔽板に使用する材質として、ステンレス鋼、アルミ合金、チタン合金の材料を使用する場合は、表面に溶射皮膜、陽極酸化皮膜の耐プラズマ性を有する材料で被覆することを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項2記載のプラズマ処理装置において、前記異物の遮蔽板において、磁力線の向き補正用の磁場コイルを設け、磁力線の方向を制御することで、異物の遮蔽板の面の向きを磁力線の方向に対して垂直としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項2記載のプラズマ処理装置において、前記異物の遮蔽板において、磁力線の向き補正用のヨークを設け、磁力線の方向を制御することで、異物の遮蔽板の面の向きを磁力線の方向に対して垂直としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
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