JP5658245B2 - レーザクリーニングデバイス、リソグラフィ投影装置および表面を浄化する方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2009年7月23日に出願された米国仮出願(61/219618)の優先権の利益を享受する。その仮出願は参照によりその全体が本明細書に組み入れられる。
λは使用される放射の波長であり、NAPSはパターンを印刷するのに使用される投影システムの開口数であり、k1はプロセス依存の調整要素でありレイリー定数とも呼ばれ、CDは印刷されるフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から以下のことが言える。3つの方法、すなわち露光波長λを短くすることによって、または、開口数NAPSを増やすことによって、または、k1の値を減らすことによって、印刷可能なフィーチャサイズの最小値を低減できる。
Claims (17)
- 表面を清浄化するよう構成されたレーザクリーニングデバイスであって、
放射を生成するよう構成されたレーザ源と、
表面上のバックグラウンドガスにクリーニングプラズマを生成するために、焦点に放射をフォーカスするよう構成された光学要素と、
プラズマの近くの位置に保護ガスのジェットを生成するよう構成されたガスサプライと、を備え、
前記保護ガスは、前記バックグラウンドガスとは別に供給され、前記放射が生成される方向と異なる方向に前記ジェットを生成する、レーザクリーニングデバイス。 - 前記レーザ源は、パルス当たりのエネルギとして0.001ジュールから2ジュールを有するパルスを焦点に生成するよう構成される、請求項1に記載のレーザクリーニングデバイス。
- 前記レーザ源は、少なくとも基板表面に実質的に平行となる方向に放射を生成する、請求項1または2に記載のレーザクリーニングデバイス。
- 前記ガスサプライは、表面の法線に対して30°から60°の角度に、保護ガスを向けるよう構成される、請求項1から3のいずれかに記載のレーザクリーニングデバイス。
- 前記ガスサプライは、表面の法線を含み前記レーザ源によって生成される放射に平行な平面と実質的に平行な方向に保護ガスのジェットを向ける、請求項1から4のいずれかに記載のレーザクリーニングデバイス。
- 保護ガスのジェットの向きは、放射の向きとは反対の向きの大きな成分を有する、請求項5に記載のレーザクリーニングデバイス。
- ガスを生成するよう構成されたガスサプライをさらに備え、そのガスのなかでプラズマが生成される、請求項1から6のいずれかに記載のレーザクリーニングデバイス。
- 請求項1から7のいずれかに記載のレーザクリーニングデバイスを備えるリソグラフィ投影装置。
- パターニングデバイスを保持するよう構成されたサポート構造をさらに備え、前記パターニングデバイスは放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付与された放射ビームを形成することができるよう構成されており、前記レーザクリーニングデバイスは前記パターニングデバイスを清浄化するよう構成される、請求項8に記載のリソグラフィ投影装置。
- 基板を保持するよう構成された基板テーブルをさらに備え、前記レーザクリーニングデバイスはパターニングデバイスを清浄化するよう構成される、請求項8または9に記載のリソグラフィ投影装置。
- 表面を清浄化する方法であって、
放射を生成することと、
バックグラウンドガスにクリーニングプラズマを生成するために、焦点に放射をフォーカスさせることと、
プラズマの近くの位置に保護ガスのジェットを導くことと、を含み、
前記保護ガスは、前記バックグラウンドガスとは別に供給され、前記放射が生成される方向と異なる方向に前記ジェットを生成する、方法。 - 放射はパルス化されている、請求項11に記載の方法。
- パルス化された放射は、パルス当たりのエネルギとして0.001ジュールから2ジュールを有するパルスを含む、請求項12に記載の方法。
- ガスサプライは、表面の法線に対して30°から60°の角度に、保護ガスを向けるよう構成される、請求項11から13のいずれかに記載の方法。
- 保護ガスはアルゴンである、請求項1から7のいずれかに記載のレーザクリーニングデバイス。
- 保護ガスはアルゴンである、または請求項8から10のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
- 保護ガスはアルゴンである、請求項11から14のいずれかに記載の方法。
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