JP5655680B2 - Sn合金めっき液へのSn成分補給用酸化第一錫粉末およびその製造方法 - Google Patents
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すなわち、めっきで形成するはんだバンプにおいても低α線化を実現するために、上記特許文献1に記載の技術で作製した低α線量錫を原料として、特許文献2に記載の製法でSn成分補給用のSnO粉末を製造すると、Sn−Agめっき液等のSn合金めっき液へ補給した際に溶解性が十分でないという問題があった。
すなわち、本発明に係るSn合金めっき液へのSn成分補給用酸化第一錫粉末の製造方法によれば、酸性水溶液を調製する工程で、溶解後に、α線放出量が0.05cph/cm2以下のSn塊を酸性水溶液に浸漬しておくので、浸漬したSn塊がSn4+(4価錫)の発生を抑制することで、溶解性の良好な酸化第一錫粉末を得ることができる。
したがって、上記本発明で作製された酸化第一錫粉末を用いてSn合金めっき液へのSn成分補給を行うことで、SnO粉末が良好に溶解してSn成分調製されたSn合金めっき液が得られ、このSn合金めっき液を用いた電解めっき法により低α線化したバンプ等を形成することができる。
さらに詳述すれば、本製造方法は、図1に示すように、α線放出量が0.05cph/cm2以下の金属Snを電解法により酸に溶解して酸性水溶液を調製する工程(酸性水溶液調製工程S1)と、酸性水溶液にアルカリ水溶液を添加して中和させ水酸化第一錫のスラリーを調製する工程(中和工程S2)と、水酸化第一錫のスラリーを加熱して水酸化第一錫を脱水させ酸化第一錫のスラリーを作製する工程(脱水工程S3)と、酸化第一錫のスラリーを濾過する工程(濾過工程S4)と、該濾過で得られた酸化第一錫の沈殿物を水洗する工程(水洗工程S5)と、さらに乾燥させて酸化第一錫粉末とする工程(乾燥工程S6)とを有している。
また、酸性水溶液を調整する工程S1では、塩酸濃度1Nの溶液を用いてSnを電解によって酸性水溶液中のSn濃度が100〜250g/L(例えば200g/L)になるまで溶解し、その後80〜100℃にキープしながらSn板を浸漬させてSn4+低減処理を24〜72h(例えば3日間)実施する。その後、FA(Free Acid:遊離酸)低減処理として、FA濃度を低減させるために煮沸濃縮し、塩酸濃度が0.5N以下になるまで行う。
なお、このFA低減処理は、Sn4+低減処理後に、液量が半分になるまでの煮沸と、煮沸の後に純水で希釈して元の液量に戻すこととを繰り返し、塩酸濃度を0.5N以下とする。
Sn4++Sn=2Sn2+
4価のSnが存在すると酸化物はSnO2となるが、この4価酸化物であるSnO2は溶解性が低い。これに対して、上記反応式により、Sn4+が低減されて2価のSnが多く存在すると酸化物の多くはSnOとなり、2価酸化物であるSnOは高い溶解性を有することから、溶解性の良好なSnO粉末を得ることができる。
Sn板:180×155×1mm、約200g、α線量:0.002cph/cm2以下、純度:99.995%以上
槽:隔膜電解槽
アノード槽:3.5NのHClを2.5L使用
カソード槽:3.5NのHClを2.5L使用
電解量:2V定電圧で30h電解する。
電解終了後の目標Sn組成:200g/L
電解終了後のHCl濃度:規定度1N
雰囲気:N2ガス
アルカリ水溶液:炭酸アンモニウム溶液40%
酸性水溶液の液温:30〜50℃
酸性水溶液のpH:6〜8
雰囲気:N2ガス
液温:80〜100℃、1〜2時間
また、濾過工程S4は、吸引濾過方式で行い、水洗工程S5は、温水(70℃)で2回、純水で1回行った。さらに、乾燥工程S6は、25℃で1晩、真空乾燥を行った。
なお、比較例として、上記Sn4+低減処理およびFA低減処理を行わない以外は同条件で酸化第一錫粉末を作製し、同様にXPSにより分析した結果を図2に併せて示す。また、比較例についても、表面をEtching rate:SiO2=6.0nm/minで1分スパッタしたもの(比較例S有)と、スパッタしていないもの(比較例S無)とを分析した。
<XPSの測定条件>
・装置:PHI model5600LS
・条件
X線源:Monochlomated AlKα 200W
パスエネルギー:187.85eV(Surey)、58.5eV(Narrow)
測定間隔:0.8eV/step(Survey)、0.125eV(Narrow)
試料面に対する光電子取り出し角:45deg
また、上記実施例および上記比較例の酸化第一錫粉末について、それぞれSn−Agめっき液への溶解性について調べたところ、比較例では溶解性が不十分であったのに対し、上記実施例では良好な溶解性を得ることができた。
このように本発明の実施例では、上記Sn4+低減処理によってSnO2が大幅に低減されて溶解性の高い酸化第一錫粉末を作製することができる。
Claims (2)
- α線放出量が0.05cph/cm2以下の金属Snを酸に溶解させて酸性水溶液を調製する工程と、
前記酸性水溶液を中和させ水酸化第一錫を調製する工程と、
前記水酸化第一錫を脱水させ酸化第一錫を作製する工程とを有し、
前記酸性水溶液を調製する工程で、溶解後に、α線放出量が0.05cph/cm2以下のSn塊を酸性水溶液に浸漬しておくことを特徴とするSn合金めっき液へのSn成分補給用酸化第一錫粉末の製造方法。 - 請求項1に記載のSn合金めっき液へのSn成分補給用酸化第一錫粉末の製造方法により作製されたことを特徴とするSn合金めっき液へのSn成分補給用酸化第一錫粉末。
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