JP5654912B2 - イミド樹脂組成物およびその製造方法、プリプレグ、金属張積層板並びにプリント配線板 - Google Patents
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Description
(A)ビスアリルナジイミド化合物と、
(B)数平均分子量が600〜3000であるビニル化合物とを、
前記(B)成分におけるビニル基:前記(A)成分におけるビスアリルナジイミド化合物由来のアリル基=1:0.3〜0.7のモル比となる配合比率で含有するイミド樹脂組成物。
以下に本発明を実施するための一実施形態を具体的に説明する。
これらは公知の化合物であり、通常知られている製造方法によって製造することができる。あるいは、市販品を用いることもでき、市販品としては、例えば、丸善石油化学株式会社製のBANI−M、BANI−Xなどを用いることができる。
本発明のイミド樹脂組成物は、通常、ワニス状に調製されて用いられる。このようなワニスは、例えば、以下のようにして調製される。
本発明のプリプレグは、上述のワニス状イミド樹脂組成物を繊維質基材に含浸して得られる。
上述のようにして得られたプリプレグを用いて金属張積層板を作成する方法としては、前記プリプレグを一枚または複数枚重ね、さらにその上下の両面または片面に銅箔等の金属箔を重ね、これを加熱加圧成形して積層一体化することによって、両面金属箔張りまたは片面金属箔張りの積層体を作製する方法が挙げられる。加熱加圧条件は、製造する積層板の厚みやプリプレグの樹脂組成物の種類等により適宜設定することができるが、例えば、温度を150〜250℃、圧力を5〜50kg/cm2、時間を30〜240分間とすることができる。今回評価した積層板の厚みは0.4mmであった。
上述のようにして作製された積層体の表面の金属箔をエッチング加工等して回路形成をすることによって、積層体の表面に回路として導体パターンを設けたプリント配線板を得ることができる。
〈ビスアリルジイミド化合物〉
・成分(A):丸善石油化学(株)製、「BANI−M」(当量:285)
・成分(A):丸善石油化学(株)製、「BANI−X」(当量:254)
〈ビニル化合物〉
・成分(B)(末端ビニル変性ポリフェニレンエーテル1):(数平均分子量:600、当量:300)、後述の方法で製造したもの
・成分(B)(末端ビニル変性ポリフェニレンエーテル2):(数平均分子量:1500、当量:750)、後述の方法で製造したもの
・成分(B)(末端ビニル変性ポリフェニレンエーテル3):(数平均分子量:2800、当量:1400)、後述の方法で製造したもの
・成分(B)(末端ビニル変性ポリフェニレンエーテル4):(数平均分子量:4500、当量:2250)、後述の方法で製造したもの
・成分(B)(ポリブタジエン):出光石油化学(株)製、「R−45HT」(数平均分子量:2800、当量:560)
〈マレイミド化合物〉
・ビスマレイミド(4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド):大和化学工業(株)製、「BMI−1000」(当量:179)
・ビスマレイミド(フェニルメタンマレイミド):大和化学工業(株)製、「BMI−2300」(当量:180)
〈無機充填材〉
・水酸化アルミニウム:昭和工業(株)製「CL303」
(ビニル化合物の調製)
上記成分(B)の末端ビニル変性ポリフェニレンエーテル1〜3については、米国特許7541421号および特開2004−339328号公報記載の方法に準じて製造した。
上記のようにして得られた銅張積層板を評価用サンプルとして用いて、以下に示す方法により、誘電率、誘電正接、Tg、T288、PCTはんだ耐熱性、難燃性、銅箔ピール強度および層間ピール強度の評価を行った。これらの結果を表5および表6に示す。
IPC TM650の規格に準じて、1GHzにおける銅張積層板の誘電率及び誘電正接を求めた。
DMA測定方法により、セイコー電子工業製粘弾性スペクトロメータ「DMA100」を用いてtanδピーク温度のTg(ガラス転移温度)を測定した。
IPC TM650に準拠して、銅張積層板の耐熱性(T288)を評価した。
銅張り積層板の表面の銅箔を除去した後、長さ50mm、幅50mmのテストピースを切り出した。このテストピースを121℃、2気圧、湿度100%のプレッシャークッカーテスト(PCT)機に4時間および6時間投入した。投入後のテストピースを260℃のはんだ槽中に20秒間浸漬し、ミーズリングやフクレがなければOK(異常無)とした。
銅張積層板の表面の銅箔を除去した後、長さ125mm、幅12.5mmのテストピースを切り出した。そして、このテストピースについてUnderwriters Laboratoriesの”Test for Flammability of Plastic Materials−UL 94”に準じて行い、評価した。
銅張積層板の表面の銅箔の引きはがし強さ(銅箔ピール強度)を、JIS C 6481に準拠して測定した。このとき、幅20mm、長さ100mmの試験片上に幅10mm、長さ100mmのパターンを形成し、銅箔を引っ張り試験器により50mm/分の速度で引きはがし、その時の引きはがし強さを測定した。
銅張り積層板の1枚目と2枚目のガラスクロス間の引き剥がし強さをJIS C 6481に準拠して測定した。幅10mm、長さ100mmのパターンを形成し、引っ張り試験機により50mm/分の速度で引き剥がし、その時の引き剥がし強さを測定した。
(III)
このような構造を有するビスアリルナジイミド化合物(A)を用いる場合には、低誘電率、高Tg、高耐熱性、高難燃性及び高密着性を有するハロゲンフリーの基材となるイミド樹脂組成物をより確実に得ることができる。
Claims (9)
- (A)ビスアリルナジイミド化合物と、
(B)数平均分子量が600〜3000であるビニル化合物とを、
前記(B)成分におけるビニル基:前記(A)成分におけるビスアリルナジイミド化合物由来のアリル基=1:0.3〜0.7のモル比となる配合比率で含有するイミド樹脂組成物。 - (B)のビニル化合物の主骨格がフェニレンエーテルである、請求項1または2に記載のイミド樹脂組成物。
- さらにマレイミド化合物を含む、請求項1〜3のいずれかに記載のイミド樹脂組成物。
- さらに無機充填材含む、請求項1〜4のいずれかに記載のイミド樹脂組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のイミド樹脂組成物を繊維質基材に含浸させて得られるプリプレグ。
- 請求項6に記載のプリプレグに金属箔を積層して、加熱加圧成形して得られる金属張積層板。
- 請求項7に記載された金属張積層板の表面の金属箔を部分的に除去することにより回路形成して得られるプリント配線板。
- ビスアリルナジイミド化合物と数平均分子量が600〜3000であるビニル化合物とを、前記(B)成分におけるビニル基:前記(A)成分におけるビスアリルナジイミド化合物由来のアリル基=1:0.3〜0.7のモル比となる配合比率で配合し、ディールス・アルダー反応により反応させることを特徴とする、イミド樹脂組成物の製造方法。
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