JP5651696B2 - フェナントロリン化合物及び配位子としてのそれらの使用 - Google Patents

フェナントロリン化合物及び配位子としてのそれらの使用 Download PDF

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Description

本発明は、フェナントロリン構造を有する新規化合物またはその塩に関する。
近年、金属錯化合物が有する、光反応機能、電子移動機能および生理活性機能などが注目され、当該機能を活用して、数多くの研究がなされている。また、配位金属と結合する配位子に関しても研究がなされており、代表的な配位子として、例えばアンモニア、ピリジン、シアン化物イオンなどの単座配位子、例えばエチレンジアミン、ビピリジン、グリシナトなどの二座配位子、例えばエチレンジアミン四酢酸などの三座以上の多座配位子などが知られている。
代表的な二座配位子であるビピリジンは、キレート配位子構造を有し、金属元素に配位する機能を有している。しかしながら、ビピリジンの錯体は有機溶媒に溶解しづらいため、利用範囲が極めて狭いという問題があった。
特許文献１には、ヘキシル基、ペンチル基、オクチル基、デシル基のような長鎖アルキル基を、ポリビピリジンに導入した化合物が開示されている。
特開平６−２７９５７２号公報
従来の化合物をさらに改良した化合物の創出が望まれている。
上記課題を解決するために、本発明者らは、鋭意検討した結果、フェナントロリン構造を有する新規化合物を見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、以下のとおりである。
[１]
下記式（Ｉ）で表される、フェナントロリン構造を有する化合物またはその塩。
式（Ｉ）：
Figure 0005651696
 ［上記式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ２は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、（２８）カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基または(３１)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
Ｒ３およびＲ４は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
Ｘ１およびＸ２は、同一または異なって、下記構造を示す。
Figure 0005651696
 （上記構造中、ｍは、１ないし６の整数を示し、
Ｒ５は、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基を示す。）］
[２]
Ｒ３およびＲ４が、水素原子である、[１]に記載の化合物またはその塩。
[３]
下記式（Ｉ’）で表される、フェナントロリン構造を有する化合物またはその塩。
式（Ｉ’）：
Figure 0005651696
 ［上記式（Ｉ’）中、Ｒ１０およびＲ２０は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、（２８）カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基もしくは(３１)Ｃ７−２０アラルキル基、または上記（１）〜（３１）である基に置換可能な基を示し、
Ｒ７およびＲ８は、同一または異なって、水素原子または保護基を示す。］
本発明のフェナントロリン構造を有する新規化合物またはその塩は、下記式（Ｉ）で表される化合物またはその塩である。
式（Ｉ）：
Figure 0005651696
上記式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ２は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、（２８）カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基または(３１)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
Ｒ３およびＲ４は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
Ｘ１およびＸ２は、同一または異なって、下記構造を示す。
Figure 0005651696
上記構造中、ｍは、１ないし６の整数を示し、
Ｒ５は、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基を示す。
本明細書中で使用する用語を説明する。
「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などを示し、中でも塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子、臭素原子がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキル基」とは、炭素数１ないし６の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を示す。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、中でもメチル基、エチル基、プロピル基、tert−ブチル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましい。
「Ｃ３−８シクロアルキル基」とは、炭素数３ないし８の環状の脂肪族炭化水素基を示す。具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられ、中でもシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましく、シクロプロピル基、シクロブチル基がより好ましい。
「Ｃ２−６アルケニル基」とは、二重結合を１ないし２個含む、炭素数２ないし６の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を示す。具体的には、エテニル基、２−プロペニル基、１−プロペニル基、１−メチルビニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、１，４−ヘキサジエニル基、５−ペンテニル基、６−ヘキセニル基などが挙げられ、中でもエテニル基、２−プロペニル基、１−プロペニル基、１−メチルビニル基が好ましく、エテニル基、１−プロペニル基がより好ましい。
「Ｃ２−６アルキニル基」とは、三重結合を１ないし２個含む、炭素数２ないし６の直鎖状または分枝鎖状の脂肪族炭化水素基を示す。具体的には、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、ブチニル基、１，３−ペンタンジイニル基、１，４−ヘキサジイニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基などが挙げられ、中でもエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、ブチニル基が好ましく、エチニル基、２−プロピニル基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルコキシ基」とは、Ｃ１−６アルキル基が酸素原子に結合した基を示す。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基などが挙げられ、中でもメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、tert−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
「Ｃ３−８シクロアルコキシ」とは、Ｃ３−８シクロアルキル基が酸素原子に結合した基を示す。具体的には、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロオクチルオキシ基などが挙げられ、中でもシクロプロポ゜キシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が好ましく、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基がより好ましい。
「Ｃ２−６アルケニルオキシ基」とは、Ｃ２−６アルケニル基が酸素原子に結合した基を示す。具体的には、エテニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、１−メチルビニロキシ基、１−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、１，３−ペンタジエニルオキシ基、１，４−ヘキサジエニルオキシ基、５−ペンテニルオキシ基、６−ヘキセニルオキシ基などが挙げられ、中でもエテニルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、１−メチルビニロキシ基が好ましく、エテニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基がより好ましい。
「Ｃ２−６アルキニルオキシ基」とは、Ｃ２−６アルキニル基が酸素原子に結合した基を示す。具体的には、エチニルオキシ基、１−プロピニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、ブチニルオキシ基、１，３−ペンタンジイニルオキシ基、１，４−ヘキサジイニルオキシ基、ペンチニルオキシ基、ヘキシニルオキシ基などが挙げられ、中でもエチニルオキシ基、１−プロピニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基、ブチニルオキシ基が好ましく、エチニルオキシ基、２−プロピニルオキシ基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルチオ基」とは、Ｃ１−６アルキル基が硫黄原子に結合した基を示す。具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシルチオ基などが挙げられ、中でもメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、tert−ブチルチオ基が好ましく、メチルチオ基、エチルチオ基がより好ましい。
「Ｃ３−８シクロアルキルチオ基」とは、Ｃ３−８シクロアルキル基が硫黄原子に結合した基を示す。具体的には、シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基、シクロオクチルチオ基などが挙げられ、中でもシクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基が好ましく、シクロプロピルチオ基、シクロブチルチオ基がより好ましい。
「Ｃ２−６アルケニルチオ基」とは、Ｃ２−６アルケニル基が硫黄原子に結合した基を示す。具体的には、エテニルチオ基、２−プロペニルチオ基、１−プロペニルチオ基、１−メチルビニルチオ基、１−ブテニルチオ基、２−ブテニルチオ基、３−ブテニルチオ基、１，３−ペンタジエニルチオ基、１，４−ヘキサジエニルチオ基、５−ペンテニルチオ基、６−ヘキセニルチオ基などが挙げられ、中でもエテニルチオ基、２−プロペニルチオ基、１−プロペニルチオ基、１−メチルビニルチオ基が好ましく、エテニルチオ基、１−プロペニルチオ基がより好ましい。
「Ｃ２−６アルキニルチオ基」とは、Ｃ２−６アルキニル基が硫黄原子に結合した基を示す。具体的には、エチニルチオ基、１−プロピニルチオ基、２−プロピニルチオ基、ブチニルチオ基、１，３−ペンタンジイニルチオ基、１，４−ヘキサジイニルチオ基、ペンチニルチオ基、ヘキシニルチオ基などが挙げられ、中でもエチニルチオ基、１−プロピニルチオ基、２−プロピニルチオ基、ブチニルチオ基が好ましく、エチニルチオ基、２−プロピニルチオ基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基」とは、Ｃ１−６アルキル基がカルボニルオキシ基に結合した基を示す。具体的には、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、イソペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基などが挙げられ、中でもメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基が好ましく、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルカルボニル基」とは、Ｃ１−６アルキル基がカルボニル基に結合した基を示す。具体的には、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、sec−ブチルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、イソペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基などが挙げられ、中でもメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、tert−ブチルカルボニル基が好ましく、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルアミノ基」とは、Ｃ１−６アルキル基が窒素原子に結合した基を示す。具体的には、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−イソプロピルアミノ基、N−ブチルアミノ基、N−sec−ブチルアミノ基、N−tert−ブチルアミノ基、N−ペンチルアミノ基、N−イソペンチルアミノ基、N−ヘキシルアミノ基などが挙げられ、中でもN−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基、N−プロピルアミノ基、N−tert−ブチルアミノ基が好ましく、N−メチルアミノ基、N−エチルアミノ基がより好ましい。
「ジＣ１−６アルキルアミノ基」とは、２個のＣ１−６アルキル基が窒素原子に結合した基を示し、アミノ基に２個結合するアルキル基は、同一または異なっていてよい。具体的には、N,N−ジメチルアミノ基、N−エチル−N−メチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジプロピルアミノ基、N,N−ジイソプロピルアミノ基、N,N−ジブチルアミノ基、N,N−ジ−sec−ブチルアミノ基、N,N−ジ−tert−ブチルアミノ基、N,N−ジペンチルアミノ基、N,N−ジイソペンチルアミノ基、N,N−ジヘキシルアミノ基などが挙げられ、中でもN,N−ジメチルアミノ基、N−エチル−N−メチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N,N−ジプロピルアミノ基、N,N−ジ−tert−ブチルアミノ基が好ましく、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、N−エチル−N−メチルアミノ基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルスルフィニル基」とは、Ｃ１−６アルキル基がスルフィニル基(−SO−)に結合した基を示す。具体的には、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパンスルフィニル基、イソプロパンスルフィニル基、ブタンスルフィニル基、sec−ブタンスルフィニル基、tert−ブタンスルフィニル基、ペンタンスルフィニル基、イソペンタンスルフィニル基、ヘキサンスルフィニル基などが挙げられ、中でもメタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基、プロパンスルフィニル基、tert−ブタンスルフィニル基が好ましく、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルスルホニル基」とは、Ｃ１−６アルキル基がスルホニル基（−SO2−）に結合した基を示す。具体的には、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、イソプロパンスルホニル基、ブタンスルホニル基、sec−ブタンスルホニル基、tert−ブタンスルホニル基、ペンタンスルホニル基、イソペンタンスルホニル基、ヘキサンスルホニル基などが挙げられ、中でもメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、プロパンスルホニル基、tert−ブタンスルホニル基が好ましく、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基がより好ましい。
「Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基」とは、Ｃ３−８シクロアルキル基がスルフィニル基に結合した基を示す。具体的には、シクロプロパンスルフィニル基、シクロブタンスルフィニル基、シクロペンタンスルフィニル基、シクロヘキサンスルフィニル基、シクロオクタンスルフィニル基などが挙げられ、中でもシクロプロパンスルフィニル基、シクロブタンスルフィニル基、シクロペンタンスルフィニル基、シクロヘキサンスルフィニル基が好ましく、シクロプロパンスルフィニル基、シクロブタンスルフィニル基がより好ましい。
「Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基」とは、Ｃ３−８シクロアルキル基がスルホニル基に結合した基を示す。具体的には、シクロプロパンスルホニル基、シクロブタンスルホニル基、シクロペンタンスルホニル基、シクロヘキサンスルホニル基、シクロオクタンスルホニル基などが挙げられ、中でもシクロプロパンスルホニル基、シクロブタンスルホニル基、シクロペンタンスルホニル基、シクロヘキサンスルホニル基が好ましく、シクロプロパンスルホニル基、シクロブタンスルフィニル基がより好ましい。
「Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基」とは、Ｃ１−６アルキル基がカルボキシル基に結合したエステル結合を有する基を示す。具体的には、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基などが挙げられ、中でもメチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基が好ましく、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基がより好ましい。
「Ｃ６−１４アリール基」とは、炭素数６ないし１４の芳香族炭化水素基を示す。具体的には、フェニル基、ナフチル基、アンスラニル基などが挙げられ、中でもフェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
「Ｃ７−２０アラルキル基」とは、Ｃ６−１４、好ましくはＣ６−１０アリール基がＣ１−６、好ましくはＣ１−４のアルキル基に結合した基を示し、Ｃ７−１４アラルキル基であることが好ましい。具体的には、ベンジル基、フェネチル基またはナフチルメチル基などが挙げられる。
本明細書中で、「Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基」などのＣ１−６アルキルで記載されている基である場合であっても、Ｃ１−６アルキルは、Ｃ３−８シクロアルキル、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−８シクロアルキルＣ１−２アルキルであってもよい。
上記式（Ｉ）における、Ｒ１およびＲ２は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−6アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、(２８)カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基または(３１)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、中でも（１）水素原子、（３）水酸基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基または（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基が好ましく、（１）水素原子、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基または（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基または（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基がより好ましい。
上記式（Ｉ）における、Ｒ３およびＲ４は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基が好ましく、（１）水素原子がより好ましい。
上記式（Ｉ）における、Ｘ１およびＸ２は、同一または異なって、下記構造を示す。
Figure 0005651696
上記構造における、ｍは、１ないし６の整数を示し、１ないし２の整数が好ましい。
上記構造における、Ｒ５は、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または(７)Ｃ７−２０アラルキル基を示し、（１）水素原子が好ましい。
上記式（Ｉ）で表される化合物の塩とは、例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩などの塩基付加塩および例えば塩酸塩または硫酸塩などの酸付加塩などを意味し、上記式（Ｉ）で表される化合物に存在する、水酸基（具体的には、フェノール性水酸基など）もしくはカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）または塩基（具体的には、ＮＨ基など）における塩などが挙げられる。
式（Ｉ）で表される化合物の塩は、常法の塩形成反応を行うことにより、製造することができる。
上記式（Ｉ）で表される化合物中、好ましい化合物は、具体的には、
2,5−ビス−カルボキシメチル−2,5−ジアゾ［6］−（5’,5’）−シクロ−2,9−ジ−（2’−ピリジル）−1,10−フェナントロリノファンである。
上記式（Ｉ）で表される化合物の製造法について説明する。
上記式（Ｉ）で表される化合物は、以下のスキーム（Ｉ）に示すように、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。
また、上記式（Ｉ）で表される化合物は、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物とを反応させた後に、適宜、常法により、所望の置換基を導入および／または変換することによっても製造することができる。
スキーム（Ｉ）：
Figure 0005651696
上記スキーム（Ｉ）における、Ｒ１〜Ｒ４ならびにＸ１およびＸ２は、前記と同様の基を示し、Ｒ１０およびＲ２０は、同一または異なって、Ｒ１およびＲ２と同様の基であってもよく、Ｒ１およびＲ２で表される基が保護基によって保護されている基などのＲ１およびＲ２で表される基に変換可能な基であってもよい。
Ｒ３０およびＲ４０は、同一または異なって、Ｒ３およびＲ４と同様の基であってもよく、Ｒ３およびＲ４で表される基が保護基によって保護されている基などの、Ｒ３およびＲ４で表される基に変換可能な基であってもよい。
Ｌ１およびＬ２は、同一または異なって、脱離基を示す。
上記スキーム（Ｉ）における反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物を反応させることにより行うことができる。
式（ＩＩＩ）で表される化合物は、式（ＩＩ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜３当量、より好ましくは１〜１．５当量使用する。
反応で使用する不活性溶媒は、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物とが円滑に反応するものであれば、特に限定されないが、例えばエチルメチルケトン、アセトニトリル、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられ、中でも、エチルメチルケトン、アセトニトリル、アセトンが好ましく、エチルメチルケトンがより好ましい。
反応で使用する塩基は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの炭酸アルカリ土類金属塩、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなどの有機アルキルアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウムなどが好ましく、炭酸ナトリウムがより好ましい。
塩基は、式（ＩＩ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜１０当量、より好ましくは１〜５当量使用する。
通常、反応は、非水条件下で行うことが好ましく、好ましくは室温から溶媒の沸点まで、より好ましくは加熱還流下で行い、１０時間〜１０日で完結する。
上記式（Ｉ）で表される化合物は、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物とを反応させることにより直接製造される化合物であってもよく、下記スキーム（ＩＩ）に示すように、式（Ｉ−１）で表される化合物を製造した後に、適宜、常法に従って、所望の式（Ｉ）で表される化合物に変換することができる。
スキーム（ＩＩ）：
Figure 0005651696
上記式（ＩＩＩ）で表される化合物は、所望のＲ３またはＲ４を導入または除去が可能な公知の化合物または市販されている化合物であるか、公知の方法に準じて製造可能な化合物である。Ｒ３０またはＲ４０は、カルボキシル基の保護基であってもよく、式（Ｉ−１）で表される化合物においてＲ３０およびＲ４０を脱保護してカルボキシル基とした後に、Ｒ３およびＲ４を導入してもよい。
式（Ｉ）で表される化合物を製造する上で、反応で使用する式（ＩＩＩ）で表される化合物に存在するＲ３０およびＲ４０は、カルボキシル基の保護基であってもよく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基などの低級アルキル基；例えば２，２，２−トリクロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基などのハロ置換低級アルキル基；例えばアセトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基、１−アセトキシエチル基、１−プロピオニルオキシエチル基などの低級アルカノイルオキシアルキル基；例えば１−（メトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチル基などの低級アルコキシカルボニルオキシアルキル基；例えば２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−メトキシカルボニル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基、シンナミル基などの低級アルケニル基；例えばベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチル基などのアラルキル基；例えば（５−メチル−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチル基などの（５−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチル基；例えばトリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基などの低級アルキルシリル基；インダニル基、フタリジル基、メトキシメチル基などが挙げられる。
カルボキシルの保護基の除去は、その種類および化合物の安定性により異なるが、特に限定されないが、例えば［Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ Ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ ｂｙ Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．］に記載されている方法またはそれに準ずる方法に従って、例えば酸または塩基を用いる加溶媒分解、水素化金属錯体などを用いる化学的還元、パラジウム炭素触媒、ラネーニッケル触媒などを用いる接触還元などにより行うことができる。塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
本工程で用いられる溶媒は、特に限定されないが、原料物質と容易に反応しない不活性溶媒が好ましく、例えば水、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、tert−ブタノールなどのアルコール類、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル類、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類、例えばヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、例えばアセトニトリルなどのニトリル類、例えばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチルホスホリルアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などの溶媒またはこれらの混合物が挙げられる。中でも、メタノールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類が好ましい。
反応温度は、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは１０〜３０℃である。反応時間は、好ましくは１〜２０時間、より好ましくは３〜１０時間である。
式（Ｉ）で表される化合物を製造する上で、反応で使用する式（ＩＩ）で表される化合物に存在する官能基は、適宜保護されていてもよく、反応で使用される保護基としては、例えば水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、アミノ基などの保護基として通常使用されている保護基を用いることができ、特に限定されないが、例えば「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ Ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ ｂｙ Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ ａｎｄ Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．」に記載されている保護基が挙げられる。
水酸基の保護基としては、特に限定されないが、例えばメトキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラヒドロフラニル基、１−エトキシエチル基、tert−ブチルジメチルシリル基、ベンジル基、tert−ブチル基、アリル基、トリフェニルメチル基などが挙げられる。
カルボキシル基の保護基としては、上記Ｒ３０およびＲ４０について記載した保護基であってもよく、特に限定されないが、例えばメチル基、エチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、エトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、ベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、β−ｐ−トルエンスルホニルエチル基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシカルボニルなどが挙げられる。
カルボニル基の保護基としては、特に限定されないが、例えば１，３−ジオキサニル基、５−メチレン−１，３−ジオキサニル基、５，５−ジブロモ−１，３−ジオキサニル基などが挙げられる。
アミノ基の保護基としては、特に限定されないが、例えばN−ホルミル基、N−アセチル基、N−クロロアセチル基、N−ベンゾイル基、tert−ブチル基、N−フタルイミド基、ジフェニルメチル基、ベンジル基などが挙げられ、適宜、当該保護基の１ないし２個をアミノ基に導入することができる。
脱離基としては、脱離してＣ−Ｎ結合を形成する基であれば特に限定されないが、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、トリフルオロアセチル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ジフェノキシホスホリル基などが挙げられ、中でも塩素原子、臭素原子、メタンスルホニル基が好ましい。
式（ＩＩ）で表される化合物は、下記スキーム（ＩＩＩ）に従って製造することができる。
スキーム（ＩＩＩ）：
Figure 0005651696
上記スキーム（ＩＩＩ）における、Ｒ１０およびＲ２０ならびにＬ１およびＬ２は、前記と同様の基を示し、Ｘは、ハロゲン原子を示す。
Ｒ６、Ｒ７０およびＲ８０は、水酸基の保護基を示す。Ｒ７０およびＲ８０は、同一または異なって、水酸基の保護基を示し、また、式（ＶＩＩ）で表される化合物のＲ６に由来する保護基であるので、Ｒ７０およびＲ８０の両方が、Ｒ６と同一であってもよい。
本発明は、下記式（Ｉ’）で表される、フェナントロリン構造を有する化合物またはその塩にも関する。
式（Ｉ’）：
Figure 0005651696
上記式（Ｉ’）中、Ｒ１０およびＲ２０は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、（２８）カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基もしくは(３１)Ｃ７−２０アラルキル基、または上記（１）〜（３１）である基に置換可能な基を示し、
Ｒ７およびＲ８は、同一または異なって、水素原子または保護基を示す。
Ｒ７およびＲ８は、式（Ｖ）で表される化合物のＲ７０およびＲ８０に由来する基であってもよく、式（Ｉ’）で表される化合物は、式（Ｖ）で表される化合物と式（ＩＶ）で表される化合物を包含する。
式（ＩＩ）で表される化合物は、式（ＶＩＩ）で表される化合物と式（ＶＩ）で表される化合物とを、トリフェニルホスフィンパラジウムジクロリドの存在下、カップリング反応に付すことにより、式（Ｖ）で表される化合物とし、式（Ｖ）で表される化合物の水酸基の保護基を除去し、次いで、水酸基を脱離基に変換することにより、製造することができる。
式（ＶＩＩ）で表される化合物と式（ＶＩ）で表される化合物の反応は、不活性溶媒中、トリフェニルホスフィンパラジウムジクロリドの存在下、行うことができる。
式（ＶＩＩ）で表される化合物は、式（ＶＩ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜５当量、より好ましくは１〜３当量使用する。
反応で使用する溶媒は、式（ＶＩＩ）で表される化合物と式（ＶＩ）で表される化合物とが円滑に反応するものであれば、特に限定されないが、例えばジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、塩化メチレンなどが挙げられ、中でも、ジメチルホルムアミドが好ましい。
通常、反応は、非水条件下で行うことが好ましく、好ましくは室温から溶媒の沸点まで、より好ましくは加熱還流下で行い、１時間〜３−５日で完結する。
式（Ｖ）で表される化合物の水酸基の保護基を除去する反応は、不活性溶媒中、酸の存在下、行うことができる。
反応で使用する不活性溶媒は、特に限定されないが、例えばメタノールなどのアルコール類、エチルメチルケトン、アセトニトリル、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられ、中でも、メタノールが好ましい。
酸は、式（Ｖ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜５当量、より好ましくは１〜３当量使用する。
通常、反応は、好ましくは室温から溶媒の沸点まで、より好ましくは加温下で行い、１時間〜２４時間で完結する。
式（ＶＩ）で表される化合物は、
(1) Dictionary of Organic Compounds, 6th edition, Vol. 5, published by Chapman and Hall, London, UK, 1996. 5167−5168
(2) 大有機化学第16巻 複素環式化合物III、朝倉書房、昭和３９年４月、小竹無二雄 監修 356−363
などの文献に記載の方法によりフェナントロリンを製造し、次いで、J. C. S. Perkin I, 976-978, 1974.などの文献に記載の方法により、フェナントロリン環の２−および９−位をハロゲン化することにより製造することができる。
式（ＶＩＩ）で表される化合物は、（6−ハロピリジン−2−イル）メタノールを出発原料として、下記スキーム（ＩＶ）に従って、従来公知の方法により製造することができる。
スキーム（ＩＶ）：
Figure 0005651696
上記スキーム（ＩＶ）における、Ｘは、ハロゲン原子を示し、Ｒ６は、水酸基の保護基を示す。
式（ＩＶ）で表される化合物の水酸基を脱離基に変換する方法は、常法によって行うことができ、例えば塩化チオニル、臭化チオニルなどのハロゲン化チオニル、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルブロミドなどのスルホン酸ハロゲン化物などのハロゲン化物を塩基の存在下、式（ＩＶ）で表される化合物に反応させることにより行うことができる。反応に使用するハロゲン化物は、式（ＩＶ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜５当量、より好ましくは１〜３当量使用する。
反応で使用する溶媒は、式（ＩＶ）で表される化合物とハロゲン化物とが円滑に反応するものであれば、特に限定されないが、例えば塩化メチレン、クロロホルム、エチルメチルケトン、アセトニトリル、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられ、中でも、塩化メチレン、エチルメチルケトン、アセトニトリル、アセトンなどが好ましく、塩化メチレンがより好ましい。
反応で使用する塩基は、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ金属塩、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの炭酸アルカリ土類金属塩、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなどの有機アルキルアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、トリエチルアミンなどが好ましく、トリエチルアミンがより好ましい。
塩基は、ハロゲン化物に対して、好ましくは１〜１０当量、より好ましくは１〜５当量使用し、通常、反応は、非水条件下で行うことが好ましく、好ましくは室温から溶媒の沸点まで、より好ましくは加熱還流下で行い、10時間〜5日で完結する。
式（ＩＩＩ）で表される化合物は、下記スキーム（Ｖ）に従って、従来公知の方法により製造することができる。
スキーム（Ｖ）：
Figure 0005651696
上記スキーム（Ｖ）における、Ｒ３０およびＲ４０ならびにＸ１およびＸ２は、前記と同様の基を示し、Ｘは、ハロゲン原子を示す。
式（ＩＩＩ）で表される化合物は、エチレンジアミンから得られる式（ＸＩＩ）で表される化合物に対し、式（ＸＩ）で表される化合物と、式（ＩＸ）で表される化合物とを、順次、アルキル化させて、式（ＶＩＩＩ）で表される化合物とし、式（ＶＩＩＩ）で表される化合物のアミノ基のN−ベンジル保護基を除去することにより、製造することができる。
式（ＸＩＩ）で表される化合物と式（ＸＩ）で表される化合物の反応は、不活性溶媒中、塩基の存在下、行うことができる。
式（ＸＩ）で表される化合物は、式（ＸＩＩ）で表される化合物に対して、１〜５当量、好ましくは１〜３当量使用する。
反応で使用する溶媒は、式（ＸＩＩ）で表される化合物と式（ＸＩ）で表される化合物とが円滑に反応するものであれば、特に限定されないが、例えばアセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ベンゼン、トルエン、塩化メチレンなどが挙げられ、中でも、アセトニトリルが好ましい。
通常、反応は、非水条件下で行うことが好ましく、好ましくは室温から溶媒の沸点まで、より好ましくは加熱還流下で行い、１時間〜３−５日で完結する。
式（ＸＩＩ）で表される化合物と式（ＸＩ）で表される化合物の反応により得られる式（Ｘ）で表される化合物と、式（ＩＸ）で表される化合物の反応は、式（ＸＩＩ）で表される化合物と式（ＸＩ）で表される化合物の反応と同様に行うことができる。
式（ＶＩＩＩ）で表される化合物のアミノ基のN−ベンジル保護基を除去する反応は、従来公知の水素還元反応により行うことができる。
式（Ｉ）で表される化合物は、金属原子との錯体を形成する配位子として好適に用いることができる。
本発明において、式（Ｉ）で表される化合物が、錯体を形成することは、金属原子を含む水溶液中で、式（Ｉ）で表される化合物との蛍光吸収を測定することにより確認することができる。
また、金属錯化合物を例えば蛍光ラベル剤としてタンパク質や核酸などの生体分子の計測用として利用するためには、当該金属錯化合物が有機溶媒に可溶であると言うのみならず、その配位子自体が親水性を有することが望まれるが、式（Ｉ）で表される化合物は、既存の配位子として活用できる化合物の有機溶剤に対する溶解性に対して、より溶解性に優れ、安定性の高い化合物として提供することができる。
本発明において用いられる略語は、当業界において慣用されている略語の意味を有する。
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。しかし、本発明はこれらの実施例に限定されることはない。
プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）は、Ｖａｒｉａｎ社製ＩＮＯＶＡ５００ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒ（５００ＭＨｚ）を用いて測定し、化学シフトは、テトラメチルシランに対するδ単位（ｐｐｍ）で記録し、カップリング定数はヘルツ（Ｈｚ）で記録した。
パターンは、ｓ；シングレット、ｄ；ダブレット、ｄ,ｄ；ダブルダブレット、ｔ；トリプレット、ｍ；マルチプレット、ｂ；ブロード、ｂ.ｓ；ブロードシングレットを意味する。
液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）は、Ｓｈｉｍａｄｚｕ社製ＬＣ−２０１０Ａ ＨＴを用いて測定した。測定条件は以下のとおりである。
Ｃｏｌｕｍｎ：ＹＭＣ Ａ３０２ Ｓ−５
ＵＶ：２５４ｎｍ
ＥＳＩ−ＭＳは、Ｓｈｉｍａｄｚｕ社製ＬＣＭＳ−２０１０Ａを用いて測定した。Ｃｏｌｕｍｎとして、Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３を用いた。
分析薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）はプレコートしたシリカゲルプレート（６０Ｆ−２５４）上で行い、ＵＶ光、エタノール性リンモリブデン酸を用いて視覚化検出した。
実施例
（2,9−ビス（6−（（メトキシメチルオキシ）メチル）ピリジン−2−イル）−1,10−フェナントロリン） (20)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、2,9−ジブロモ−1,10−フェナントロリン（化合物(10)；3.25g；9.6mmol)を無水ジメチルホルムアミド（45mL）に溶解した。2−メトキシメチルオキシメチルピリジン−6−イルトリブチルすず（化合物(12)；17g；9.6mmol)およびトリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド(3.83g；4.8mmol)を反応溶液に加え、反応溶液を70℃で22時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却し、ロッシェル塩を加えた後に、反応混合物を食塩水に注ぎ、次いで酢酸エチルを反応混合物に加えた。不溶物を濾別し、濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮することにより、油状物を得た。アルゴン気流中、得られた油状物を無水ジメチルホルムアミド（45mL）に溶解し、化合物(12)（17g 9.6mmol)およびトリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド（2.72g ；3.38mmol)を加え、反応液を70℃で20時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、ロッシェル塩を加えた後に、反応液を食塩水に注ぎ、次いで酢酸エチルを反応液に加えた。不溶物を濾別し、濾液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮することにより、残渣を得た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(SiO2,200g；展開溶媒：クロロホルム/メタノール=30/1〜20/1〜10/1)にて分離精製し、標記化合物（20）1.1g（収率：23.7%）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：3.38 (s, 3H), 4.80〜4.83 (m, 8H), 7.64(d, J = 8Hz, 2H), 8.07〜8.20 (m, 4H), 8.65〜8.84 (m, 4H), 8.92 (d, J = 7Hz, 1H)
HPLC 移動相：40−95%アセトニトリル−水(0.1% トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:5.7分
ESIMS (positive) m/z 483.1, (M+H) (F.W = 482.53 for C28H26N4O4)
2,9−ビス（6−（ヒドロキシメチル）ピリジン−2−イル）−1,10−フェナントロリン (21)
Figure 0005651696
化合物(20)（1.09g；2.26mmol)に6N−塩酸（5mL）およびメタノール（25mL）を加え、反応溶液を60℃にて4時間攪拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、溶媒が残っている状態で、5%炭酸ナトリウム水溶液にてアルカリ性にし、析出した固体を濾取した。得られた固体をクロロホルム/メタノール=3/1に溶解した後、不溶物を除き、濾液を減圧下濃縮し、標記化合物(21)0.72g（収率：81%）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：4.76 (d, J = 5.5Hz, 1H), 5.58 (t, J = 6Hz, 2H), 7.65 (d, J =7.5Hz, 2H), 8.08 (s, 2H), 8.15 (t, J = 7.5Hz, 2H), 8.65 (d, J = 8.5Hz, 2H), 8.84 (d, J = 8.5Hz, 2H), 8.87 (d, J = 8.5Hz, 2H)
HPLC 移動相：30−80%アセトニトリル−水(0.1%トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:2.7分
ESIMS (positive) m/z 395.1, (M+H) (F.W = 394.43 for C24H18N4O2)
2,9−ビス（6−（クロロメチル）ピリジン−2−イル）−1,10−フェナントロリン (22)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(21)（0.7g；1.77mmol）を氷冷下、ジクロロメタン(15ｍL)に懸濁した。トリエチルアミン(0.54g；5.32mmol)および塩化チオニル（0.51g；4.25mmol)を反応混合物に順次加えた。反応混合物を室温で24時間攪拌した。反応混合物を5%炭酸ナトリウム水溶液でアルカリ性にした後、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルム/メタノール=3/1に溶かし、メンブレンフィルター濾過をして無機物を除いた。濾液を減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(SiO2,200g)(クロロホルム/メタノール=10/1〜5/1〜3/1)にて分離精製し、標記化合物（22）0.49g（収率：64%）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：4.98 (s, 4H), 7.74 (d, J =7.5Hz, 2H), 8.11 (s, 2H), 8.20 (t, J=7.5Hz, 2H), 8.69 (t, J = 8.5Hz, 2H), 8.84 (t, J = 8 Hz, 2H), 8.97 (d, J = 8.5Hz, 2H)
HPLC 移動相：30−80%アセトニトリル−水(0.1%トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:8.8分
ESIMS (positive) m/z 432.09, (M+H) (F.W = 431.32 for C24H15Cl2N4)
2,5−ビス−tert−ブチルオキシカルボニルメチル−2,5−ジアゾ［6］−（5’,5’）−シクロ−2,9−ジ−（2’−ピリジル）−1,10−フェナントロリノファン (23)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(22)（0.71g；1.64mmol)をエチルメチルケトン(100mL)に溶解し、反応溶液にN,N’−ジ−tert−ブチルオキシカルボニルメチル−1,2−エチレンジアミン(0.81g；4.92mmol)、ヨウ化カリウム（0.82g；4.92mmol)および炭酸ナトリウム（0.87g；8.2mmol)を加えた。反応混合物を110℃にて44時間攪拌還流した。反応混合物を室温まで冷却後、不溶物を除き、濾過後、減圧下濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(SiO2,200g)(クロロホルム/メタノール=20/1〜10/1)にて分離精製し、標記化合物（23）1.04g（収率：80%）を得た。
1H NMR (CDCl3)δ：1.53 (s, 18H), 2.91 (b.s, 4H), 3.52 (b.s, 4H), 4.10 (b.s, 4H), 7.34 (d, J = 7.5Hz, 2H), 7.57 (s, 2H), 7.61 (t, J = 7.5Hz, 2H), 8.17 (d, J = 8.5Hz, 2H), 8.74 (d, J = 8.5Hz, 2H), 8.80 (d, J = 8.5Hz, 2H)
HPLC 移動相：40−95%アセトニトリル−水(0.1%トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:12.2分
ESIMS (positive) m/z 647.1, (M+H) (F.W = 646.78 for C38H42N6O4)
2,5−ビス−カルボキシメチル−2,5−ジアゾ［6］−（5’,5’）−シクロ−2,9−ジ−（2’−ピリジル）−1,10−フェナントロリノファン (24)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(23)0.44gをジクロロメタン(3.5mL)に懸濁し、反応混合物にアニソール（0.4mL）およびトリフルオロ酢酸（1.5mL）を室温にて加えた。反応混合物を室温で19時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮後、得られた残渣に1N塩酸を加えた後、減圧下濃縮した。得られた残渣をHP−20SS(30mL)を用いて、10%,20%＝アセトニトリル/水の溶出液で溶出した成分を集め、凍結乾燥し、標記化合物(24)を150mg得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：3.04 (s, 4H), 3.61 (s, 4H),4.08 (s, 4H), 7.23 (d, J = 7.5Hz, 2H), 7.47 (s, 2H), 7.66 (t, J = 7.5Hz, 2H), 8.09 (d, J = 8.5Hz, 2H), 8.35 (d, J = 8.5Hz, 2H), 8.46 (d, J = 7.5Hz, 2H)
HPLC 移動相：20−90%アセトニトリル−水(0.1% トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:5.3分
ESIMS (positive) m/z 535(M+H) (F.W = 534.57 for C30H26N6O4)
参考例１
1−メチル−1,10−フェナントロリニウム ヨウ化物 (1)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、1,10−フェナントロリン（23g；127mmol)をニトロベンゼン（500mL）に溶解した。35℃でヨウ化メチル（45.29g；319mmol)を反応溶液に3.5時間かけて滴下した。35℃で反応溶液を24時間攪拌した。反応溶液を氷冷し、濾過を行い、得られた固体をニトロベンゼン、ベンゼンおよびエタノールで順次洗浄した後、減圧下乾燥して、標記化合物(1)36g（収率：88％）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：5.29 (s, 3H), 8.07 (d,d, J1 = 8Hz, J2 = 4.5Hz, 1H), 8.43 (d, J = 2.5Hz, 1H), 8.43 (q, J = 9Hz, 2H), 8.81 (d,d, J1 = 8.5Hz, J2 = 1.5Hz, 1H), 9.32〜9.60 ( m,3H)
参考例２
1−メチル−1,10−フェナントロリン−2（1H）−オン (2)
Figure 0005651696
フェリシアン化カリウム（92.2g；280mmol)水溶液（1.12L）に、氷冷下（内温10〜15℃）攪拌しながら、化合物(1)（37.6g；117mmol)および水酸化ナトリウム（69.3g；1.73mol)水溶液（200mL）を交互に、20分間かけて加えた。反応混合物を室温で3時間攪拌し、析出した粗結晶を濾別し、乾燥した。得られた粗結晶をトルエン（1.1L）およびベンゼン（450ｍL）に溶解し、濾過することで不溶物を除去した。濾液を減圧下濃縮し、得られた残渣をイソプロピルエーテルおよび酢酸エチルで洗浄し、乾燥し、標記化合物(2)を23.7g（収率：75％）得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：4.22 (s, 3H), 6.84 (d, J = 9Hz, 1H), 7.69 (d,d, J1 = 8Hz, J2 = 2Hz, 1H), 7.77 (d, J =8Hz, 1H), 7.82 (d, J = 8.5Hz, 1H), 8.08 (d, J = 9.5Hz, 1H), 8.46 (d,d, J1 =8Hz, J2 = 2Hz, 1H), 9.0 (d,d, J1 = 9.5Hz, J2 = 2Hz, 1H)
参考例３
２−クロロ−1,10−フェナントロリン (3)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(2)（8g；38mmol)に氷冷下、オキシ塩化リン（72mL）および五塩化リン（9.8g；4 7.6mmol）を加えた。反応溶液を8時間攪拌還流した後、減圧下過剰のオキシ塩化リンを除去した後、反応濃縮物に、氷水および濃アンモニア水を加え、反応混合物をアルカリ性にすることで粗結晶が析出した。粗結晶を濾取し、水洗した後、減圧下乾燥して、標記化合物(3)6.1g（収率：75％）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：7.80〜7.88 (m, 2H), 8.07 (s, 2H), 8.54(d, J =8.5Hz, 1H), 8.60 (d, J = 8.5Hz, 1H), 9.14 (d, J = 7Hz, 1H)
参考例４
9−クロロ−1−メチル−1,10フェナントロリニウム ハイドロジェンサルフェ−ト (4)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(3)（5.2g；24.2mmol)にジメチル硫酸（22.1g；175mmol)を室温で10分間かけて加えた。反応温度を120℃に昇温して、反応溶液を1時間攪拌した。反応溶液を室温まで冷却した後、反応溶液にジエチルエーテルを加え、析出した淡茶色の粗結晶を濾別した。粗結晶をジエチルエーテル/エタノール=1/1〜1/2の溶液で洗浄後、減圧下乾燥して、標記化合物(4)6.17gを得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：5.12 (s, 3H), 8.18 (d, J =8.5Hz, 1H), 8.40〜8.50 (m 3H), 8.88 (d, J = 9Hz, 1H), 9.42 (d, J = 9Hz, 1H), 9.60 (d, J = 7Hz, 1H)
参考例５
9−クロロ−1−メチル−1,10−フェナントロリン2(1H)−オン (5)
Figure 0005651696
氷冷攪拌下、フェリシアン化カリウム（22.1g；673mmol)水溶液（200mL）に、化合物(4)（6.17g；26.9mmol)および水酸化ナトリウム（16.14g；404mmol)水溶液（110mL）を交互に20分間かけて加えた。同温度で反応混合物を攪拌し、更に室温で3.5時間攪拌した。析出した固体を濾別し、乾燥後メタノールに溶解し、活性炭処理を行った。濾液を減圧下濃縮して、標記化合物(5)を4.26g（化合物(3)より収率：72％）得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：4.35 (s, 3H), 6.87 (d, J = 9Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.83 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.89 (d, J = 8.5Hz, 1H), 8.09 (d, J = 9Hz, 1H), 8.54 (d, J = 9Hz,1H)
参考例６
2,9−ジクロロ−1,10−フェナントロリン (6)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、氷冷下にて、化合物(5)（4.26g；17.4mmol)にオキシ塩化リン（39mL）および五塩化リン（4.48g；21.8mmol)を加えた。反応溶液を7時間攪拌還流した。反応溶液を減圧下濃縮してオキシ塩化リンを除去し、残渣に氷水および濃アンモニア水を加えてアルカリ性にして、析出した固体を濾別し、水洗した後、減圧下乾燥を行い、標記化合物(6)4.06g（収率：94％）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：7.90 (d, J =8.5Hz, 1H), 8.12 (s, 2H), 8.63 (d, J = 8.5Hz, 1H)
HPLC 移動相：20−90%アセトニトリル−水(0.1%トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:13.2分
参考例７
2−ブロモ−1,10−フェナントロリン (7)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(2)（10g；47.6mmol)に五臭化リン（28g；65mmol)およびオキシ臭化リン（50g；174mmol)を室温にて加えた。反応温度を80℃に昇温後、反応溶液を6時間攪拌した。反応溶液を氷冷後、氷水に注ぎ、濃アンモニア水にてアルカリ性にした。反応混合物をクロロホルムで抽出し、有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(SiO2 250g)(トルエン/酢酸エチル=5/1〜3/1〜1/1〜酢酸エチル)にて分離精製し、標記化合物(7)6.9g（収率：94％）を得た。
1H NMR (CDCl3)δ：7.66 (d,d, J1 = 8Hz, J2 =4.5Hz, 1H), 7.76〜7.79 (m,2H), 7.83 (d, J = 8.5Hz, 1H), 8.08 (d, J = 8.5Hz, 1H), 8.26 (d,d, J1 = 8Hz, J2 = 2Hz, 1H), 9.24 (d, J1 = 4.5Hz, J2 = 2Hz, 1H)
HPLC 移動相：20−90%アセトニトリル−水(0.1%トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:4.2分
ESIMS (positive) m/z 260.9, 258.2 (M+H) (F.W = 259.1 for C12H7BrN2)
参考例８
9−ブロモ−1−メチル−1,10−フェナントロリニウム ハイドロジェンサルフェ−ト (8)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(7)（24.4g；94.2mmol)にジメチル硫酸（77g；610mmol)を氷冷下20分間かけて加えた。反応温度を120℃に昇温して、反応溶液を1時間攪拌した後、反応溶液に氷冷下、ジエチルエーテルを加え、析出した固体を濾別し、ジエチルエーテル/エタノール混合溶液（1/1〜1/2）にて洗浄し、減圧下乾燥して、標記化合物(8)33.6g（収率：96％）を得た。
1H NMR (DMSO−d6)δ：5.19 (s, 3H), 8.29 (d, J =8.5Hz, 1H), 8.43〜8.50 (m 3H), 8.77 (d, J = 8.5Hz, 1H), 9.44 (d, J = 8.5Hz, 1H), 9.64 (d, J = 6Hz, 1H)
HPLC 移動相：20−90%アセトニトリル−水(0.1%トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:5.2分
ESIMS (positive) m/z 274.9, 272.9 (M+H) (F.W = 274.14 for C13H10BrN2)
参考例９
9−ブロモ−1−メチル−1,10−フェナントロリン−2（1H）−オン (9)
Figure 0005651696
フェリシアン化カリウム（100g；303mmol)を含む水溶液（1.1L）に、氷冷下（内温4〜6℃）攪拌しながら、化合物(8)（42.7g；115mmol)および水酸化ナトリウム（76g；1.9mol)水溶液（110mL）を交互に、25分間かけて加えた。反応溶液を氷冷下、1時間反応後、さらに室温で3.5時間攪拌した、析出した粗結晶を濾別し、水洗し、乾燥した。得られた粗結晶をシリカゲルカラムクロマト(SiO2 800g)(クロロホルム/メタノール=50/1〜30/1〜20/1)にて分離精製し、乾燥し、標記化合物(9)27.4g（収率：82％）得た。
1H NMR (CDCl3)δ：4.39 (s, 3H), 6.92 (d, J = 9.5Hz, 1H), 7.54 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.60 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.61 (d, J = 8.5Hz, 1H), 7.77 (d, J = 9.5Hz, 1H), 8.01 (d, J = 8.5Hz, 1H)
HPLC 移動相：20−90%アセトニトリル−水(0.1% トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:14.2分
ESIMS (positive) m/z 290.9, 288.2 (M+H) (F.W = 289.13 for C13H9BrN2O)
参考例１０
2,9−ジブロモ−1,10−フェナントロリン (10)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(9)（8.4g；29.1mmol)に氷冷下、オキシ臭化リン（3 25g；174mmol)および五塩化リン（15.4g；35.8mmol)を加えた。反応温度を65〜75℃に昇温して、反応溶液を5.5時間攪拌した。反応溶液を氷冷した後、減圧濃縮して、過剰のオキシ臭化リンを除去し、反応濃縮液を氷水に注ぎ、濃アンモニア水にてアルカリ性にした。析出した固体を濾別しながら、水洗し、粗製の標記化合物(10) を得た。これを乾燥後、シリカゲルカラムクロマト(SiO2 300g)(CHCl3/メタノール=50/1〜40/1〜30/1)にて、分離精製し標記化合物(10)8g（収率：81％）を得た。
1H NMR (CDCl3)δ：8.02 (d, J =8.5Hz, 2H), 8.12 (s, 2H), 8.51 (d, J = 8.5Hz, 2H)
HPLC 移動相：20−90%アセトニトリル−水(0.1% トリフルオロ酢酸) ピーク保持時間:16分
ESIMS (positive) m/z 340.8, 338.8, 336.8 (M+H) (F.W = 338.00 for C12H6Br2N2)
参考例１１
2−ブロモ−6−（（メトキシメチルオキシ）メチル）ピリジン (11)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、（6−ブロモピリジン−2−イル）メタノール（10g；53.2mmol)をジクロロメタン(50mL)に溶解した。氷冷下、反応溶液にジイソプロピルエチルアミン(9.6g；74.5mmol)およびクロロメチルメチルエーテル(5.35g；66.5mmol)を加え、更に反応溶液を室温で17時間攪拌した。反応溶液を氷水にあけ、クロロホルムで抽出し、有機層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト(SiO２,200g)(トルエン/酢酸エチル=10/1)にて、分離精製し、標記化合物（11）12.15g（収率：98%）を得た。
1H NMR (CDCl3) δ：3.42 (s, 3H),4.69 (s, 2H), 4.77 (s, 2H), 7.38〜7.44 (m, 2H),7.56 (t, J = 7.5Hz, 1H)
参考例１２
2−（（メトキシメチルオキシ）メチル）−6−（トリブチルスタンニル）ピリジン (12)
Figure 0005651696
アルゴン気流中、化合物(11)（24.7g；106mmol)を無水テトラヒドロフラン（270ｍL）に溶解し、−65〜−70℃で、反応溶液に1.54M n−ブチルリチウムヘキサン溶液を50分間かけて滴下し、同温で反応溶液を1時間攪拌した。反応溶液に塩化トリブチルすず40g(122mmol)のテトラヒドロフラン溶液（100ｍL）を30分間で滴下した。次第に反応溶液の温度を昇温（−20℃）しながら、同温度で20時間攪拌した。反応溶液に水（250mL）を加え、ジエチルエーテルで3回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧下濃縮し、粗製の標記化合物(12)58gを得た。この化合物は、さらに精製することなく次の工程で使用した。
本発明のフェナントロリン構造を有する新規化合物は、蛍光を利用する分析標識の配位子として有用である。

Claims (3)

  1. 下記式（Ｉ）で表される、フェナントロリン構造を有する化合物またはその塩。
    式（Ｉ）：
    Figure 0005651696
    ［上記式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ２は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、（２８）カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基または（３１）Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
    Ｒ３およびＲ４は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または（７）Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
    Ｘ１およびＸ２は、同一または異なって、下記構造を示す。
    Figure 0005651696
    （上記構造中、ｍは、１ないし６の整数を示し、
    Ｒ５は、（１）水素原子、（２）Ｃ１−６アルキル基、（３）Ｃ３−８シクロアルキル基、（４）Ｃ２−６アルケニル基、（５）Ｃ２−６アルキニル基、（６）Ｃ６−１４アリール基または（７）Ｃ７−２０アラルキル基を示す。）］
  2. Ｒ３およびＲ４が、水素原子である、請求項１に記載の化合物またはその塩。
  3. 下記式（Ｉ’）で表される、フェナントロリン構造を有する化合物またはその塩。
    式（Ｉ’）：
    Figure 0005651696
    ［上記式（Ｉ’）中、Ｒ１０およびＲ２０は、同一または異なって、（１）水素原子、（２）ハロゲン原子、（３）水酸基、（４）シアノ基、（５）ニトロ基、（６）アミノ基、（７）Ｃ１−６アルキル基、（８）Ｃ３−８シクロアルキル基、（９）Ｃ２−６アルケニル基、（１０）Ｃ２−６アルキニル基、（１１）Ｃ１−６アルコキシ基、（１２）Ｃ３−８シクロアルコキシ基、（１３）Ｃ２−６アルケニルオキシ基、（１４）Ｃ２−６アルキニルオキシ基、（１５）Ｃ１−６アルキルチオ基、（１６）Ｃ３−８シクロアルキルチオ基、（１７）Ｃ２−６アルケニルチオ基、（１８）Ｃ２−６アルキニルチオ基、（１９）Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシ基、（２０）ホルミル基、（２１）Ｃ１−６アルキルカルボニル基、（２２）Ｃ１−６アルキルアミノ基、（２３）ジＣ１−６アルキルアミノ基、（２４）Ｃ１−６アルキルスルフィニル基、（２５）Ｃ１−６アルキルスルホニル基、（２６）Ｃ３−８シクロアルキルスルフィニル基、（２７）Ｃ３−８シクロアルキルスルホニル基、（２８）カルボキシル基、（２９）Ｃ１−６アルキルオキシカルボニル基、（３０）Ｃ６−１４アリール基または（３１）Ｃ７−２０アラルキル基を示し、
    Ｒ７およびＲ８は、同一または異なって、水素原子、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、テトラヒドロフラニル基、１−エトキシエチル基、tert−ブチルジメチルシリル基、ベンジル基、tert−ブチル基、アリル基またはトリフェニルメチル基を示す。
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