JP5641336B2 - 化粧料用基剤およびこれを配合してなる化粧料 - Google Patents

Description

本発明は、ポリアルキレングリコール誘導体を含む化粧料用基剤およびそれを配合してなる化粧料に関する。

化粧品には、皮膚や毛髪に滑らかさやしっとり感を付与するために油性基剤が汎用されている。油性基剤としては、流動パラフィン、スクワランなどの炭化水素油、植物油に代表される油脂やトリグリセリド、エステル結合を有するエステル油、ジメチルシロキサンなどといったシリコーン油などが特に汎用され、これらを安定配合するために、水中油型および油中水型（以下、それぞれＯ／Ｗ型およびＷ／Ｏ型と略記する場合がある）など様々な乳化形態がある。さらに、化粧品には、紫外線など外的要因から皮膚を保護するために、酸化チタンや酸化亜鉛といった無機粉体が汎用され、ファンデーションやサンスクリーン剤には不可欠な原料となっている。 Ｏ／Ｗ型やＷ／Ｏ型の乳化安定性や無機粉体の分散安定性を高めることは、化粧品の商品価値を保持するための必須技術であるが、そのために非イオン性界面活性剤は必要不可欠な成分である。

従来から汎用されている非イオン性界面活性剤の親油基に着目すると、その多くは動植物油脂から誘導される炭化水素基であるため、工業的には、数１００程度の分子量しか得られず、安定した乳化状態を維持するには、十分な親油性が得られていなかった。

一方、親水基は、無機粉体の分散のような固−液界面において、酸化チタンなど固体表面への吸着性基として働くことが知られているが、オキシエチレン基では、ＨＬＢの制御が容易であるが、水酸基に比べ吸着能が課題であった。さらに、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステルは、工業的製法では、脂肪酸を導入する水酸基の位置を制御することが困難であり、固体表面への吸着効率に課題があった。このような課題を解決するために、親油基としてオキシブチレン基、親水基としてポリグリセリンを導入した界面活性剤の提案がなされている（例えば特許文献１および２）。しかし、この提案では、液−液界面への界面活性能には優れているが、吸着サイトとなる水酸基が両端にあるため、架橋フロキュレーションを生じやすく、さらに、水酸基同士の相互作用に乏しいため固体表面への吸着能に劣り、その結果、固−液界面への界面活性能については、十分な効果が得られていなかった。

特開２００７−３１５５４ 特開２００８−１８８５５７

本発明の目的は、優れた界面活性能を発揮する新規なポリアルキレングリコール誘導体を化粧料用基剤として配合することによって、長期間の配合安定性を有する化粧料を提供することである。

このような課題を解決するために、ポリアルキレングリコール誘導体の親油基として、分子量の制御が可能なポリオキシアルキレン基に着目した。さらに親水基には、固体表面への吸着性に優れた水酸基が、４つ隣接しているキシリトールに着目した。すなわち、キシリトールに保護基を導入し、炭素数２〜４のオキシアルキレン基を導入した後、必要に応じてアルキル化もしくはアシル化を行い、その後、脱保護化することにより、４つの隣接水酸基を局在化することができ、乳化可溶化能および分散能が向上することを見出した。

すなわち、本発明は以下に示されるものである。（１）下記一般式（１）により示されるポリアルキレングリコール誘導体からなる化粧料用基剤。

式中、ＥＯはオキシエチレン基であり、ＡＯは炭素数３〜４のオキシアルキレン基であり、ＥＯとＡＯはブロック状に結合している。 ａおよびｂはＥＯの平均付加モル数であり、ｍはＡＯの平均付加モル数であり、ａ＋ｂは０〜３０、ｍは１０〜１００を満たし、ＥＯとＡＯの合計質量に対するＡＯの質量割合は、５０〜１００質量％である。 Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基である。（２） 式（１）で示されるポリアルキレングリコール誘導体において、ＡＯが、１，２−ブチレンオキシド由来のオキシブチレン基である化粧料用基剤。（３） 式（１）で示されるポリアルキレングリコール誘導体において、ｂ＝０かつＥＯとＡＯの合計に対するＡＯの割合が８０〜１００質量％である化粧料用基剤。（４） 前記化粧料用基剤を含有することを特徴とする化粧料。
（５） 下記の成分（ａ）を０．０１〜３０質量％、成分（ｂ）を０．１〜５０質量％、成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計が１０〜９５質量％であり、かつ、成分（ｃ）と成分（ｄ）の全量を１００質量部としたとき、成分（ｃ）が１０質量部以上であり、さらに、成分（ｅ）を５〜８０質量％を含有する化粧料である。
（ａ） 前記化粧料用基剤
（ｂ） 無機顔料
（ｃ） ２５℃で液状の炭化水素油
（ｄ） シリコーン油
（ｅ） 水

本発明のポリアルキレングリコール誘導体を含む化粧料用基剤は、優れた界面活性能を発揮し、それを含む化粧料も非常に有用である。

各例の希釈溶液の３００ｎｍの吸光度を示すグラフである。

［ポリアルキレングリコール誘導体］ 本発明に係る化粧料用基剤は、下記一般式（１）により示され、キシリトール骨格を有するポリアルキレングリコール誘導体からなることを特徴とする。

式（１）に示されるポリアルキレングリコール誘導体において、ＥＯはオキシエチレン基であり、ＡＯは、炭素数３〜４のオキシアルキレン基である。ＡＯとしては、炭素数３ではオキシプロピレン基、炭素数４では、１，２−ブチレンオキシド由来のオキシブチレン基、オキシイソブチレン基、オキシｔ−ブチレン基，オキシテトラメチレン基が例示できるが、好ましくは、１，２−ブチレンオキシド由来のオキシブチレン基である。これらが２種以上の場合は、ランダム状付加でもブロック状付加でもよい。

ＥＯとＡＯの付加形態は、ブロック状であり、キシリトールに対してＥＯ−ＡＯ−ＥＯの順に付加する。ＥＯとＡＯがランダム状に付加していると、界面活性能が得られず好ましくない。

ここで、式（１）において、キシリトールおよびＥＯ部分は、乳化可溶化剤としては親水基、分散剤としては吸着サイトとして作用する。一方で、ＡＯ部分は乳化可溶化剤としては親油基、分散剤としては立体反発をもたらす分散サイトとして作用する。すなわち、式（１）で示されるポリアルキレングリコール誘導体は、非イオン性界面活性剤として使用することができる。 ｍはＡＯの平均付加モル数であり、ＡＯが２種以上の場合は、合計平均付加モル数を示し、１０〜１００である。本発明の化粧料用基剤において、ＡＯ部位は、親油基として作用するが、ｍが１０より小さい場合は、親油基として十分な分子量ではなく、乳化可溶化剤として用いた場合、十分な効果を発揮しない場合があり、また、分散剤として用いたときは、十分な立体反発が得られず好ましくない。こうした観点からは、ｍは、２０以上が更に好ましい。また、ｍが１００を超えると、副反応生成物の影響のために十分な効果を発揮しない場合があり、好ましくない。こうした観点からは、ｍは８０以下が更に好ましく、７０以下がより好ましく、５０以下が最も好ましい。

ＥＯは、キシリトール骨格の親水性を補うために必要に応じて付加できる。ａ＋ｂは、ＥＯの平均付加モル数で０〜３０であるが、好ましくは２０以下であり、より好ましくは１０以下である。ａ＋ｂが３０より大きいと、油剤との相溶性が十分に得られず、乳化可溶化剤として用いたときに、十分な効果が得られないため好ましくない。

本発明の化粧料用基剤は、ａ＝ｂ＝０の場合は、親水基はキシリトール部位のみであり、ＡＯ部位を親油性とした親油型非イオン性界面活性剤となる。また、ａ＝０の場合は、ＡＯ部位の両側にキシリトール部位およびＥＯ部位を配した、親水性−親油性−親水性のトリブロック型非イオン性界面活性剤となる。さらに、ｂ＝０の場合は、ＥＯ部位はキシリトールの親水性を補う働きを示す。

このように、本発明の非イオン性界面活性剤は、ａ＋ｂおよびｍを適宜選択することによって、様々な分子形態をとり、目的に応じて、親水性および親油性を制御することが可能であるが、親油型非イオン性界面活性剤として作用するａ＝ｂ＝０の場合が特に好ましい。 親水性を補うためにＥＯが必要であれば、ａ＋ｂは、１〜３０、好ましくは１〜２０、より好ましくは１〜１０である。

ａ、ｂは、それぞれ３０以下であるが、より好ましくは２０以下であり、特に好ましくは１０以下である。また、ａ、ｂは、０であってよいが、上記の理由から１以上であってよい。特に好ましくは、ａが１〜１０かつｂ＝０である。

また、ＥＯとＡＯの合計質量に対するＡＯの質量の割合は、５０〜１００質量％である。これが５０質量％より小さいと、乳化可溶化剤として用いた場合、親油性が十分でない場合があり、好ましくない。好ましくは８０〜１００質量％であり、より好ましくは９０〜１００質量％である。

Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜４のアルキルまたは炭素数１〜４のアシル基である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びこれらの混合基などが挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基である。アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、などが挙げられる。好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基、エチル基である。

キシリトール部位は、隣接する４つの水酸基を有し、親水基として作用する。固−液界面であれば、固体表面への吸着部位として、さらに液−液界面であれば、乳化可溶化剤の親水基として必須である。

キシリトール以外の骨格を有する水酸基、例えば、グリセリンのように隣接する水酸基が、２つの場合や、引用文献１もしくは２に例示されるトリグリセリン誘導体のように、４つの水酸基を有しても、エーテル結合を介する場合では、固体表面への吸着力が十分ではない。したがって、本願の課題を達成するためにはキシリトール部位が必須となる。

［ポリアルキレングリコール誘導体の製法］ 一般式（１）に示されるポリアルキレングリコール誘導体は、通常、以下の（１）〜（３）の手順により製造することができる。（１）キシリトールを酸触媒の存在下、ケタール化剤もしくはアセタール化剤と反応させ、下記一般式（２）に示すキシリトールジケタール化合物もしくはジアセタール化合物を得る。 式（２）のキシリトールジケタール化物もしくはジアセタール化物は、必要に応じて、蒸留等で精製しても構わない。

（２） 続いてアルカリ触媒下、オキシエチレン基および炭素数３〜４のオキシアルキレン基を付加反応し、さらに必要に応じて、アルカリ触媒下にて、アルキルハライド、アシルハライド、酸無水物などと反応させ、末端水酸基をエーテル化もしくはエステル化することもできる。（３）その後、酸の存在下で脱ケタール化もしくは脱アセタール化を行う。

式（２）において、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ水素原子もしくは炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２およびＲ^３が同時に水素原子になることはない。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が例示できるが、好ましくはメチル基、エチル基である。Ｒ^２＝Ｒ^３＝メチル基の場合、ケタール化剤としてアセトン、２，２−ジメトキシプロパンが例示でき、Ｒ^２＝水素原子、Ｒ^３＝メチル基の場合、アセタール化剤として、アセトアルデヒドが例示できる。

ケタール化もしくはアセタール化の触媒としては、酸触媒、例えば硫酸、パラトルエンスルホン酸等が挙げられる。通常、ケタール化剤もしくはアセタール化剤の仕込み量は、キシリトールに対して、２００〜４００モル％であり、酸触媒の仕込み量はキシリトールに対して５×１０^−６〜１５×１０^−３モル％が、反応温度は３０〜９０℃で行うのが一般的である。

式（２）のキシリトールジアセタール化物もしくはジケタール化物を、次工程のアルキレンオキシド付加反応で使用する場合、特に触媒除去処理などをしなくても差し支えないが、必要であれば、アルカリによる中和処理や酸吸着処理、濾過等を行うことができる。例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウムなどの中和剤や、協和化学工業（株）製のキョーワード３００、キョーワード５００、キョーワード１０００、キョーワード２０００、富田製薬（株）製のトミックスＡＤ−５００等の吸着剤、その他ゼオライト等が使用できる。

式（２）の化合物について、アルカリ触媒の存在下でアルキレンオキシド付加反応を行う場合、通常、オートクレーブなどの加圧反応釜において、４０〜１８０℃で反応を行う。このときアルカリ触媒としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の酸化物、水酸化物、アルコラート等を使用することができる。触媒の使用量は特に限定されていないが、付加反応終了後の質量に対して０．０１〜５．０質量％が一般的である。

アルキレンオキシドの付加反応後の式（３）の化合物に対して、必要に応じて、アルカリ存在下、炭素数１〜４のアルキルハライド等を反応させ、アルキルエーテル化することもできる。アルキルハライドの例としては、塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブチル、臭化メチル、臭化エチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル等が挙げられる。また、このときのアルカリとしては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の酸化物、水酸化物、アルコラート等を使用することができる。アルカリハライドの仕込み量は、反応する水酸基数に対して１００〜４００モル％、アルカリ量は、反応する水酸基数に対して１００〜５００モル％、反応温度は６０〜１８０℃で行うのが一般的である。

また、式（３）の化合物に対して、必要に応じて、アルカリもしくは酸触媒の存在下、炭素数１〜４のカルボン酸、カルボン酸ハライド、カルボン酸無水物等のアシル化剤にて、エステル化することもできる。カルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、カルボン酸ハライドとしては、酢酸クロライド、プロピオン酸クロライド、酪酸クロライド、酸無水物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸等が例示できる。アシル化剤の仕込み量は、反応する水酸基数に対して１００〜４００モル％、アルカリもしくは酸触媒量は、反応する水酸基数に対して０．０１〜５００モル％、反応温度は６０〜１８０℃で行うことが一般的である。

式（３）の化合物のオキシアルキレン化物における脱ケタール化もしくは脱アセタール化物反応は、酸の存在下で行う。酸としては、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、炭酸、酢酸、クエン酸、コハク酸、酒石酸、パラトルエンスルホン酸、その他固体酸、陽イオン交換樹脂、酸性白土等が挙げられる。酸の使用量としては、式（３）の化合物のオキシアルキレン化物に対して０．００１〜６．０質量％である。また、必要に応じて水を添加して反応もでき、使用量としては、０．０１〜１００質量％である。反応温度は６０〜１５０℃で行うのが一般的である。

脱ケタール化もしくは脱アセタール化反応終了後は、アルカリによる中和処理や酸吸着剤処理、濾過等を行うことができる。例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム等の中和剤や、協和化学工業（株）製のキョーワード３００、キョーワード５００、キョーワード１０００、キョーワード２０００、富田製薬（株）製のトミックスＡＤ−５００等の吸着剤、その他ゼオライト等が使用できる。

以上説明したように、一般式（１）で示されるポリアルキレングリコール誘導体は、予めキシリトールの水酸基をジケタール化又はジアセタール化によって保護し、この状態で水酸基のオキシアルキレン化反応を行い、必要に応じてエーテル化／エステル化を行った後、脱ケタール化または脱アセタール化反応により脱保護化という一連の工程が行われる。そして、これにより、式（１）に示すようなキシリトールの水酸基１つが修飾されたポリアルキレングリコール誘導体を得ることができる。

［化粧料］ 本発明の化粧料中への化粧料用基剤の配合量は特には限定されないが、通常０．００１〜５０質量％、好ましくは０．０１〜３０質量％
配合される。

本発明の化粧料用基剤は、乳化可溶化剤、分散剤として特に良好であるが、用途はそれらに限定されるものではない。用途としては例えば、乳化剤、可溶化剤、分散剤、消泡剤、潤滑剤、浸透剤、洗浄剤等に用いることできる。

本発明の化粧料においてはさらに必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、化粧料、医薬品などに一般的に用いられている各種成分を配合することが可能である。例えば、炭化水素、高級アルコール、高級脂肪酸およびこれらのトリグリセリド、エステル油、動植物油脂、シリコーン、ビタミン類、紫外線吸収剤、水溶性高分子、酸化防止剤、陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、金属イオン封鎖剤、エタノール、増粘剤、防腐剤、色素、顔料、香料などが挙げられる。

本発明の化粧料の形態は、特に限定されず、Ｗ／Ｏ型乳化化粧料、Ｏ／Ｗ型乳化化粧料、Ｗ／Ｏ／Ｗ乳化化粧料、油水両連続相からなる化粧料、油性化粧料などいずれでもよいが、特にＷ／Ｏ型乳化化粧料として好適に用いることができる。この場合、本発明の化粧料用基剤は、Ｗ／Ｏ型乳化剤として作用する。この場合、化粧料全質量に対して、基剤を０．０１〜３０質量％含有することが好ましく、０．１〜２０質量％含有するとが更に好ましい。

化粧料には、本発明の基剤以外に、油剤を５〜９５質量％含有するが、１０〜９０質量％を含有することが好ましい。

化粧料に使用できる油剤としては、炭化水素油、高級アルコール、高級脂肪酸、エステル油、油脂を含むトリグリセリド、シリコーン油を併用することが好ましい。
炭化水素油としては、流動パラフィン、ポリブテン、水添ポリイソブテン、水添ポリデセン、スクワラン、スクワレン、プリスタン、軽質イソパラフィン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、流動イソパラフィン、テトラデセン、イソヘキサデカン、イソドデカン、α―オレフィンオリゴマー、ワセリン、マイクロクリスタリンワックス、パラフィン、ポリエチレン、セレシン等を挙げることができる。好ましくは、流動パラフィン、水添ポリイソブテン、スクワラン、ワセリンである。これらを１種類もしくは２種類以上、用いることができる。
高級アルコールは、直鎖型、分岐型、飽和型、不飽和型のいずれでもよい。このような高級アルコールとしては、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルアルコール、ウンデシルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコール、イソセチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール、イソステアリルアルコール、アラキルアルコール、ベヘニルアルコール、ホホバアルコールなどが炭素数８以上の高級アルコールが例示できる。これらを１種類もしくは２種類以上用いることもできる。
高級脂肪酸は、直鎖型、分岐型、飽和型、不飽和型、水酸基含有型のいずれでもよい。このような高級脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、２−エチルへキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ミリストレイン酸、ヤシ油脂肪酸、牛脂脂肪酸、パーム油脂肪酸、パルミチン酸、パルミトレン酸、ステアリン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、リシノール酸、リノール酸、リノレン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、アラキドン酸、エルカ酸などの炭素数８以上の高級脂肪酸が例示できる。これらを１種類もしくは２種類以上用いることもできる。

エステル油としては、セバシン酸ジエチル、２−エチルヘキサン酸セチル、２−エチルヘキサン酸イソセチル、パルミチン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸２−エチルヘキシル、イソステアリン酸イソプロピル、イソステアリン酸２−ヘキシルデシル、イソステアリン酸イソステアリル、トリイソステアリン酸トリメチロールプロパン、ミリスチン酸オクチルドデシル、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸イソステアリル、ミリスチン酸イソセチル、ラウリン酸ヘキシル、オレイン酸エチル、オレイン酸デシル、ピバリン酸イソステアリル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸ステアリル、イソステアリン酸イソプロピル、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸２−エチルヘキシル、イソノナン酸イソデシル、イソノナン酸イソトリデシル、エルカ酸オクチルドデシル、ジデカン酸ネオペンチルグリコール、テトラエチルヘキサン酸ペンタエリスリチル、リンゴ酸ジイソステアリル、トリエチルヘキサン酸トリメチロールプロパンアジピン酸ジデシル、アジピン酸ジデシル、（アジピン酸・２−エチルへキサン酸・ステアリン酸）グリセリルオリゴエステル、イソステアリン酸グリセリル、イソステアリン酸硬化ヒマシ油、イソステアリン酸コレステリル、イソステアリン酸バチル、イソステアリン酸フィトステリル、オキシステアリン酸オクチル、オレイン酸グリセリル、オレイン酸ジグリセリル、オレイン酸ジヒドロコレステリル、オレイン酸フィトステリル、ジヤシ油脂肪酸ペンタエリスリット、ステアリン酸硬化ヒマシ油、ステアリン酸ジグリセリル、軟質ラノリン脂肪酸コレステリル、ヒドロキシステアリン酸コレステリル、ヘキサオキシステアリン酸ジペンタエリトリット、モノヒドロキシステアリン酸硬化ヒマシ油、ラノリン脂肪酸イソステアリル、ラノリン脂肪酸イソプロピル、ラノリン脂肪酸オクチルドデシル、ラノリン脂肪酸コレステリル、リシノレイン酸グリセリル、リシノレイン酸セチルなどが例示できる。これらを１種類もしくは２種類以上用いることができる。
油脂を含むトリグリセリドとしては、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ミリストレイン酸、ヤシ油脂肪酸、牛脂脂肪酸、パーム油脂肪酸、パルミチン酸、パルミトレイン酸、ステアリン酸、オレイン酸、イソステアリン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキジン酸、べヘン酸、アラキドン酸、エルカ酸などの炭素数６以上の高級脂肪酸のトリグリセリド、トリオキシステアリン酸グリセリル、トリ（カプリル・カプリン・ミリスチン・ステアリン酸）グリセリド、トリラノリン脂肪酸グリセリル、オリーブ油、トウモロコシ油、落花生油、菜種油、ゴマ油、大豆油、ヤシ油、パーム油、パーム核油、ヒマシ油、アマニ油、ホホバ油、つばき油、ひまわり油、マカデミアナッツ油、茶実油、綿実油、シソ油、サフワラー油、キョウニン油、牛脂、豚脂などの動植物油脂などが例示できる。これらを１種類もしくは２種類以上用いることができる。
シリコーン油としては、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等の鎖状ポリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、テトラヒドロテトラメチルシクロテトラシロキサンなどの環状ポリシロキサン、ポリオキシエチレンポリアルキルシロキサンが例示できる。これらを１種類もしくは２種類以上、用いることができる。
これら油剤のうち、好ましくは炭化水素油、エステル油、シリコーン油であることが特に好ましい。

例えばＷ／Ｏ型乳化化粧料として用いる場合、本発明の化粧料用基剤は、無機顔料を安定に分散させることができる。この場合、炭化水素油およびシリコーン油からなる油相に、無機顔料を安定に分散させる化粧料として用いることが特に好ましい。

すなわち、本実施形態では、下記成分（ａ）、成分（ｂ）、成分（ｃ）、成分（ｄ）および成分（ｅ）の組成物を含む乳化化粧料（特に好ましくはＷ／Ｏ型化粧料）が好ましい。
（ａ） 式（１）の化粧料用基剤
（ｂ） 無機顔料
（ｃ） ２５℃で液状の炭化水素油
（ｄ） シリコーン油
（ｅ） 水

本実施形態では、成分（ａ）を０．０１〜３０質量％（好ましくは０．１〜２０質量％）含有し、成分（ｂ）を０．１〜５０質量％（好ましくは１〜５０質量％）含有する。また、成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計が１０〜９５質量％、成分（ｅ）を５〜８０質量％含有する。また、成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計量を１００重量部としたとき、成分（ｃ）の比率が１０質量部以上（成分（ｄ）の比率が９０質量部以下）であり，好ましくは、成分（ｃ）の比率が９０質量部以下（成分（ｄ）の比率が１０質量部以上）である。

（ｂ）成分は、無機顔料である。例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、タルク、マイカ、セリサイト、カオリン、ベントナイト、赤色酸化鉄（ベンガラ）、チタン酸鉄などの無機赤色系顔料、γ−酸化鉄などの無機褐色系顔料、黄色酸化鉄、黄土などの無機黄色系顔料、黒色酸化鉄、カーボンブラックなどの無機黒色系顔料、マンゴバイオレット、コバルトバイオレットなどの無機紫色系顔料、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸コバルトなどの無機緑色系顔料、群青、紺青などの無機青色系顔料、酸化チタン被覆雲母、オキシ塩化ビスマス、酸化チタン被覆オキシビスマスなどのパール顔料、が例示できる。これらを１種もしくは２種以上用いることができる。好ましくは酸化チタン、酸化亜鉛、無水ケイ酸、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、タルク、マイカ、セリサイト、カオリン、ベントナイトであり、より好ましくは酸化チタン、酸化亜鉛である。

無機顔料の形状（球状、棒状、板状、針状など）および粒子径に特に制限はないが、３００ｎｍ以下の粒子径が一般的である。

なお、これら無機顔料は、公知の表面処理、例えばフッ素化合物処理、シリコーン処理、シリコーン樹脂処理、ペンダント処理、シランカップリング剤処理、チタンカップリング剤処理、油剤処理、N−アシル化リジン処理、ポリアクリル酸処理、金属石鹸処理、アミノ酸処理、レシチン処理、無機化合物処理、プラズマ処理、メカノケミカル処理等によって表面処理されていても構わない。

（ｃ）成分は、２５℃で液体の炭化水素油である。炭化水素油は、式（１）により示されるポリアルキレングリコール誘導体と（ｄ）成分のシリコーン油との相溶性を向上させる作用があり、分散安定性をもたらす。

２５℃で液体の炭化水素油は特に限定されず、流動パラフィン、ポリブテン、水添ポリイソブテン、水添ポリデセン、スクワラン、スクワレン、プリスタン、軽質イソパラフィン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、流動イソパラフィン、テトラデセン、イソヘキサデカン、イソドデカン、α―オレフィンオリゴマー等を挙げることができる。これらを１種類もしくは２種類以上、用いることができる。好ましくは、流動パラフィン、水添ポリイソブテン、スクワランである。

（ｄ）成分は、シリコーン油であり、肌や毛髪に塗布時のなめらかさを良好にするための必須成分である。具体的には、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等の鎖状ポリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、テトラヒドロテトラメチルシクロテトラシロキサンなどの環状ポリシロキサン、ポリオキシエチレンポリアルキルシロキサンが例示でき、これらを１種類もしくは２種類以上、用いることができる。好ましくは、環状ポリシロキサンである。

成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計量は、化粧料全量に対して１０〜９５質量％であり、特に好ましくは２０〜９０質量％である。また、成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計量を１００重量部としたときに、成分（ｃ）の量は１０質量部以上であり、好ましくは２０質量部以上であり、より好ましくは３０質量部以上である。これを１０質量部以上とすることによって、前記効果が顕著となる。また、成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計量を１００重量部としたときに、成分（ｃ）の量は９０質量部以下が好ましく、８０質量部以下が更に好ましく、前記効果が顕著となる。
成分（ｅ）の水としては、一般にＷ／Ｏ乳化化粧料の水相として用いられるものであれば特に限定されず、例えば、蒸留水やイオン交換水等の精製水、生理食塩水、リン酸やクエン酸緩衝水溶液等を好ましく用いることができる。また、本組成物では水の量は５〜８０質量％であるが、１０質量％以上であることが更に好ましく、７５質量％以下であることが更に好ましい。

なお、５成分（ａ）〜（ｅ）を組成物としてその合計質量を１００質量部と置いた場合には、（ａ）〜（ｅ）の各成分の質量部の好適範囲は、以下のとおりである。
成分（ａ）： ０．０１〜３０質量部（さらには０．１〜２０質量部）
成分（ｂ）： ０．１〜５０質量部（さらには１〜５０質量部）
成分（ｃ）と成分（ｄ）の合計量： １０〜９５質量部（さらには１５〜９０質量部）
成分（ｅ）： ５〜８０質量部（さらには１０〜８０質量部）

本化粧料は、製品形態として、サンスクリーンローション等のサンスクリーン化粧料として用いること好ましい。
さらに、本発明の化粧料の形態は常温において液状、半固体、固体の何れかの形態をとることができ、他の成分を本発明の性能を損なわない範囲で含有することも可能である。例えば、低級アルコール、天然油脂類、合成トリグリセライド、エステル油、ロウ類、油性基剤、陰イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、半極性界面活性剤、水溶性高分子、有機または無機塩類、ｐＨ調整剤、殺菌剤、キレート剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、ビタミン類、動植物由来の天然エキス、色素、顔料、香料などが挙げられる。
また、本発明の化粧料用基剤を配合してなる化粧料の製品形態は、前述の形態に特に限定されるものではないが、皮膚外用剤であることが好ましい。皮膚外用剤としては、化粧水、乳液、クリーム、パック等のスキンケア化粧料；ファンデーション、口紅、アイシャドー等のメークアップ化粧料；日焼け止め化粧料（サンスクリーン剤）；ボディー化粧料；芳香化粧料；メーク落とし、ボディーシャンプー等の皮膚化粧料；ヘアリキッド、ヘアトニック、ヘアコンディショナー、ヘアシャンプー、リンス、育毛剤等の毛髪化粧料；軟膏等が例示できる。

［合成例］
本発明にかかる化粧料用基剤の合成例を示す。水酸基価は、ＪＩＳＫ１５５７
６．４に準じて測定した。
合成例１：ポリオキシブチレン（４０モル）キシリトール（化合物１）
（１）ケタール化反応
撹拌羽根、窒素吹き込み管、熱電対、冷却管及び油水分離管を取り付けた３リットルの四つ口フラスコに、キシリトール７００ｇ、２，２−ジメトキシプロパン１２９１ｇ、パラトルエンスルホン酸一水和物２７ｍｇを仕込み、反応系内を６０〜９０℃に保持し、２時間反応させた。反応終了後、副生したメタノール及び過剰分の２，２−ジメトキシプロパンを除去し、１０１４ｇのジイソプロピリデンキシリトール（化合物１ａ、Ｒ^２＝Ｒ^３＝メチル基）を得た。水酸基価は、２４０ＫＯＨｍｇ／ｇであった。原料のキシリトールと化合物１ａのＩＲチャートを比較したところ、化合物１ａには３５００ｃｍ^−１付近の水酸基のピークが小さくなっており、代わりに２９６０ｃｍ^−１、２８７０ｃｍ^−１、１４６０ｃｍ^−１、１３８０ｃｍ^−１付近のピークが出現していることを確認した。

（２）オキシブチレン化反応
化合物１ａを２３５ｇ、水酸化カリウム１５．５ｇをオートクレーブ中に仕込み、オートクレーブ中の空気を乾燥窒素で置換した後、撹拌しながら１４０℃で触媒を完全に溶解した。次に滴下装置により１，２−ブチレンオキシド２９００ｇを滴下させ、２時間撹拌した。その後、オートクレーブ内から、反応物を取り出し、塩酸で中和して、ｐＨ６〜７とし、含有する水分を除去するため、１００℃、１時間、減圧処理を行い、最後に濾過をして塩を除去して、２８５０ｇのポリオキシブチレン（４０モル）ジイソプロピリデンキシリトール（化合物１ｂ）を得た。水酸基価は、１８．１ＫＯＨｍｇ／ｇであった。

（３）脱ケタール化反応
撹拌羽根、窒素吹き込み管、熱電対、冷却管を取り付けた１リットルの四つ口フラスコに、化合物１ｂを７００ｇ、水７０ｇ、３６％塩酸１０ｇを仕込み、密閉状態で８０℃、２時間脱ケタール化反応を行った後、窒素バブリングで水及びアセトンを系外に留去した。続いて１０％水酸化カリウム水溶液でｐＨ６〜７に合わせ、含有する水分を除去するために、１００℃、１時間、減圧処理した。さらに処理後生成した塩を除去するため濾過を行い、６５０ｇのポリオキシブチレン（４０モル）キシリトール（化合物１）を得た。

なお、以上によって得られた化合物１についてＧＰＣ分析を行ったところ、メインピークの分子量は２９８９であった。分析条件は以下の通りである。
分析機器 ：ＳＨＯＤＥＸ ＧＰＣ ＳＹＳＴＥＭ−１１（昭和電工社製）
標準物質 ：ポリエチレングリコール
サンプルサイズ ：１０％×１００×０．００１ｍＬ
溶離液 ：ＴＨＦ
流速 ：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
カラム ：ＳＨＯＤＥＸ ＫＦ８０４Ｌ（昭和電工社製）
カラムサイズ ：Ｉ．Ｄ．８ｍｍ×３０ｃｍ×３
カラム温度 ：４０℃
検出器 ：ＲＩ×８
また、化合物１ｂと化合物１のＩＲ分析を比較すると、化合物１では３５００ｃｍ^−１付近の水酸基のピークが大きくなっていることから、目的物質が得られていることを確認した。

合成例２：ポリオキシエチレン（５モル）ポリオキシブチレン（４０モル）キシリトール（化合物２）
合成例１の手順のうち、ケタール化反応を以下の通りに変更し、合成を行い、ポリオキシエチレン（５モル）ポリオキシブチレン（４０モル）キシリトール（化合物２）を得た。
（１） ケタール化反応
撹拌羽根、窒素吹き込み管、熱電対、冷却管及び油水分離管を取り付けた３リットルの四つ口フラスコに、キシリトール７００ｇ、アセトン１０５０ｇ、パラトルエンスルホン酸一水和物１０ｍｇを仕込み、反応系内を６０〜９０℃に保持し、４時間反応させた。反応終了後、副生した水及び過剰分のアセトンを除去し、１００２ｇのジイソプロピリデンキシリトール（化合物１ａ、Ｒ^２＝Ｒ^３＝メチル基）を得た。水酸基価は、２３５ＫＯＨｍｇ／ｇであった。原料のキシリトールと化合物１ａのＩＲチャートを比較したところ、化合物１ａには３５００ｃｍ^−１付近の水酸基のピークが小さくなっており、代わりに２９６０ｃｍ^−１、２８７０ｃｍ^−１、１４６０ｃｍ^−１、１３８０ｃｍ^−１付近のピークが出現していることを確認した。

（２）オキシエチレンおよびオキシブチレン化反応
化合物１ａを２３５ｇ、水酸化カリウム２０ｇをオートクレーブ中に仕込み、オートクレーブ中の空気を乾燥窒素で置換した後、撹拌しながら１４０℃で触媒を完全に溶解した。次に滴下装置により、エチレンオキシド２３０ｇを滴下させ、２時間撹拌した。引き続き、１，２−ブチレンオキシド２９００ｇを滴下させ、２時間撹拌した。その後、オートクレーブ内から、反応物を取り出し、塩酸で中和して、ｐＨ６〜７とし、含有する水分を除去するため、１００℃、１時間、減圧処理を行い、最後に濾過をして塩を除去して、３０２８ｇのポリオキシエチレン（５モル）ポリオキシブチレン（４０モル）ジイソプロピリデンキシリトール（化合物２ｂ）を得た。水酸基価は、１７．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

（３）ケタール化反応
撹拌羽根、窒素吹き込み管、熱電対、冷却管を取り付けた１リットルの四つ口フラスコに、化合物２ｂを７００ｇ、水７０ｇ、３６％塩酸１０ｇを仕込み、密閉状態で８０℃、２時間脱ケタール化反応を行った後、窒素バブリングで水及びアセトンを系外に留去した。続いて１０％水酸化カリウム水溶液でｐＨ６〜７に合わせ、含有する水分を除去するために、１００℃、１時間、減圧処理した。さらに処理後生成した塩を除去するため濾過を行い、６７０ｇのポリオキシエチレン（５モル）ポリオキシブチレン（４０モル）キシリトール（化合物２）を得た。

合成例１に準じて、ＧＰＣ分析を行ったところ、メインピークの分子量は３１２１であった。さらに、化合物２ｂと化合物２のＩＲ分析を比較すると、化合物１では３５００ｃｍ^−１付近の水酸基のピークが大きくなっていることから、目的物質が得られていることを確認した。

本発明者らは、上記合成例１〜２に準じて、下記表１に示す組成のポリアルキレングリコール誘導体を調製した。

＜分散性の評価＞
［調製方法］
酸化チタン１．０ｇ、ポリアルキレングリコール誘導体など分散剤１．０ｇを量りとり、流動パラフィン（モレスコ製モレスコホワイトＰ−７０）にて、全量４０ｇとした（２．５％酸化チタン溶液）。これをディスパーにて撹拌（２５℃、５０００ｒｐｍ×３ｍｉｎ）した後、４０℃にて１週間放置した。この分散液の上澄みを採取し、流動パラフィンにて１００倍に希釈した溶液を試料溶液とした。

［透過度測定］
得られた希釈溶液の３００ｎｍの吸光度を測定した。結果を表２および図１に示す。

＜乳化安定性の評価＞
［調製方法］
流動パラフィン ３０．０ 質量％
乳化剤 ５．０ 質量％
水 ６５．０ 質量％
流動パラフィン（モレスコ製モレスコホワイトＰ−７０）と乳化剤を、７０℃にて均一に撹拌し、さらに同温度にて水をゆっくり添加して予備溶解した。これをホモミキサーにて撹拌して（５０００ｒｐｍ×５分間）、Ｗ／Ｏ型乳化剤組成物を得た。

［評価基準］
作成した乳化剤組成物を乳化直後および４０℃で１ヶ月間保管した後の乳化状態を下記の基準により、目視で判断した。結果を表４に示す。
○：安定なエマルジョン状態。
×：わずかに油浮きが見られる状態。
××：完全にクリーミングまたは分離している状態。

（実施例１１）
本発明の化粧品用基剤を使用してＷ／Ｏ型乳液を調製した。以下の組成からなる基剤のうち油相および水相をそれぞれ７０℃にて加温溶解して均一に溶解した後に、撹拌しながら油相に、水相を同温度にゆっくり添加して、室温まで冷却した。

油相：
流動パラフィン ２５．０質量％
ラノリン ２．０質量％
ミツロウ ２．０質量％
水添ポリイソブテン ２０．０質量％
化合物１ ５．０質量％
香料 適量
防腐剤 適量
水相：
グリセリン ５．０質量％
水 残部

（比較例１５）
以下の組成からなるＷ／Ｏ型乳液を、実施例１１と同様に調製した。
油相：
流動パラフィン ２５．０質量％
ラノリン ２．０質量％
ミツロウ ２．０質量％
水添ポリイソブテン ２０．０質量％
化合物６ ５．０質量％
香料 適量
防腐剤 適量
水相：
グリセリン ５．０質量％
水 残部

（実施例１２）
本発明の化粧品用基剤を使用してＯ／Ｗ型スキンクリームを調製した。以下の組成からなる基剤のうち油相および水相をそれぞれ７０℃にて加温溶解して均一に溶解した後に、撹拌しながら水相に、油相を同温度にゆっくり添加し、室温まで冷却した。
油相：
流動パラフィン １０．０質量％
ワセリン ３．０質量％
化合物４ ５．０質量％
香料 適量
防腐剤 適量
水相：
グリセリン ５．０質量％
ＰＥＧ＃４０００ ５．０質量％
水 残部

（比較例１６）
以下の組成からなるＯ／Ｗ型スキンクリームを、実施例１２と同様に調製した。
油相：
流動パラフィン １０．０質量％
ワセリン ３．０質量％
化合物７ ５．０質量％
香料 適量
防腐剤 適量
水相：
グリセリン ５．０質量％
ＰＥＧ＃４０００ ５．０質量％
水 残部

（実施例１３）
本発明の化粧品用基剤を使用してＷ／Ｏ型乳液を調製した。以下の組成からなる基剤のうち油相および水相をそれぞれ７０℃にて加温溶解して均一に溶解した後に、撹拌しながら油相に、水相を同温度にゆっくり添加し、室温まで冷却した。

油相：
パルミチン酸２−エチルヘキシル ２０．０質量％
流動パラフィン ３０．０質量％
ラノリン １．０質量％
ミツロウ ０．５質量
化合物１ ３．０質量％
ポリオキシエチレン(２０モル)ソルビタンモノオレート
２．０質量％
香料 適量
防腐剤 適量
水相：
グリセリン ４．０質量％
１，３−ブタンジオール １．０質量％
水 残部

（比較例１７）
以下の組成からなるＷ／Ｏ型乳液を、実施例１３と同様に調製した。
油相：
パルミチン酸２−エチルヘキシル ２０．０質量％
流動パラフィン ３０．０質量％
ラノリン １．０質量％
ミツロウ ０．５質量
化合物６ ３．０質量％
ポリオキシエチレン(２０モル)ソルビタンモノオレート
２．０質量％
香料 適量
防腐剤 適量
水相：
グリセリン ４．０質量％
１，３−ブタンジオール １．０質量％
水 残部

実施例１１、１２、１３および比較例１５、１６、１７について、乳化直後と、４０℃で１ヶ月間保管した後の乳化状態を下記の基準により、目視で判断した。結果を表５に示す。
○：安定なエマルジョン状態。
×：わずかに油浮きが見られる状態。
××：完全にクリーミングまたは分離している状態。

（実施例１４）
本発明の化粧料（サンスクリーンローション）を調製した。以下の組成において、Ａ相を室温にて混合、Ｂ相およびＣ相も室温にてそれぞれ溶解させた後、撹拌しながらＡ相に、Ｂ相とＣ相を加え乳化した。
以下、成分の含有量は質量％として記載するが、（ａ）〜（ｅ）成分の合計量を１００重量部とした場合の各成分の重量部を併記する。比較例１８にも同様に併記する。
Ａ相：
化合物１ （ａ）成分 ２．０質量％（２．４重量部）
酸化チタン （ｂ）成分 １０．０質量％（１２．１重量部）
酸化亜鉛 （ｂ）成分 １０．０質量％（１２．１重量部）
デカメチルシクロペンタシロキサン （ｃ）成分 １０．０質量％（１２．１重量部）
スクワラン （ｄ）成分 ３．０質量％（３．６重量部）
ミリスチン酸オクチルドデシル ５．０質量％
ポリオキシエチレン（７５モル）モノステアレート ０．５質量％
ポリオキシエチレン（２０モル）ソルビタンモノステアレート ０．５質量％
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル ５．０質量％
Ｂ相：
ブチレングリコール ５．０質量％
水 （ｅ）成分 ４７．５質量％（５７．７重量部）
Ｃ相：
エタノール １．０質量％
防腐剤 適量
香料 適量

（比較例１８）
以下の組成からなるサンスクリーンローションを、実施例１４と同様に調製した。
Ａ相：
化合物６ ２．０質量％（２．４重量部）
酸化チタン （ｂ）成分 １０．０質量％（１２．１重量部）
酸化亜鉛 （ｂ）成分 １０．０質量％（１２．１重量部）
デカメチルシクロペンタシロキサン （ｃ）成分 １０．０質量％（１２．１重量部）
スクワラン （ｄ）成分 ３．０質量％（３．６重量部）
ミリスチン酸オクチルドデシル ５．０質量％
ポリオキシエチレン（７５モル）モノステアレート ０．５質量％
ポリオキシエチレン（２０モル）ソルビタンモノステアレート ０．５質量％
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル ５．０質量％
Ｂ相：
ブチレングリコール ５．０質量％
水 （ｅ）成分 ４７．５質量％（５７．７重量部）
Ｃ相：
エタノール １．０質量％（１．２重量部）
防腐剤 適量
香料 適量

さらに、実施例１４にしたがって、実施例１５〜２０、比較例１９〜２３の化粧料（サンスクリーンローション）を調製した。表６に示す。乳化直後と、４０℃で１ヶ月間保管した後の乳化状態を下記の基準により、目視で判断した。結果も併せて表６に示す。
○：安定なエマルジョン状態。
×：沈殿物または、相分離が認められる。

Claims (5)

1. 下記一般式（１）により示されるポリアルキレングリコール誘導体からなる化粧料用基剤。
   

   

   
   （式中、ＥＯはオキシエチレン基であり、ＡＯは炭素数３〜４のオキシアルキレン基であり、ＥＯとＡＯはブロック状に結合している。
   ａおよびｂはＥＯの平均付加モル数であり、ｍはＡＯの平均付加モル数であり、ａ＋ｂは０〜３０であり、ｍは１０〜１００であり、ＥＯとＡＯの合計質量に対するＡＯの質量の割合は５０〜１００質量％である。
   Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、または炭素数１〜４のアシル基である。）
2. 式（１）で示されるポリアルキレングリコール誘導体において、ＡＯが、１，２−ブチレンオキシド由来のオキシブチレン基であることを特徴とする、請求項１記載の化粧料用基剤。
3. 式（１）で示されるポリアルキレングリコール誘導体において、ｂ＝０であり、ＥＯとＡＯの合計質量に対するＡＯの質量の割合が８０〜１００質量％であることを特徴とする、請求項１または２記載の化粧料用基剤。
4. 請求項１〜３のいずれか一つの請求項に記載の化粧料用基剤を含有することを特徴とする化粧料。
5. 下記の成分（ａ）を０．０１〜３０質量％、成分（ｂ）を０．１〜５０質量％、成分（ｃ）、成分（ｄ）、および成分（ｅ）を５〜８０質量％含有しており、前記成分（ｃ）と前記成分（ｄ）の合計量が１０〜９５質量％であり、前記成分（ｃ）と前記成分（ｄ）の合計量を１００質量部としたときに前記成分（ｃ）の量が１０質量部以上であることを特徴とする、請求項４記載の化粧料。
   （ａ） 前記化粧料用基剤
   （ｂ） 無機顔料
   （ｃ） ２５℃で液状の炭化水素油
   （ｄ） シリコーン油
   （ｅ） 水

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