JP5640100B2 - ビトリファイドボンド超砥粒ホイールおよびそれを用いたウエハの製造方法 - Google Patents
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結合度とは、超砥粒とビトリファイドボンドとの比率を示し、その測定は、断面組織における、超砥粒とボンドとの面積比率で代用する。具体的には、組織断面のSEM(scanning electron microscope)観察から画像の電子データを得て、画像解析ソフトにて超砥粒部、ボンド部および気孔部とを分類し、それぞれの面積比率を求めることで計算できる。
好ましくは、超砥粒層全体の体積に対して、第一の超砥粒層のうち超砥粒とビトリファイドボンドの合計が占める割合は10〜50体積%、第二の超砥粒層のうち超砥粒とビトリファイドボンドの合計が占める割合は5〜30体積%である。
好ましくは、シリコン、サファイヤおよび化合物半導体の少なくとも一つを含むウエハの研削加工に用いられる。
実施例1のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
ビトリファイドボンドの組成は以下の通りである。
SiO2:40.5質量%、Al2O3:6.5質量%、B2O3:48.2質量%
RO(ROは、CaO、MgO、およびBaOより選ばれる1種類以上の酸化物):1.8質量%、R2O(R2Oは、Li2O、Na2OおよびK2Oより選ばれる1種類以上の酸化物):3.0質量%。
実施例2のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
実施例3のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
実施例4のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
一方、比較例1のビトリファイドボンドダイヤモンドホイールは、実施例1の第二の超砥粒層12の造粒粉を90体積%と100μmの気孔形成材10体積%を混合した。
さらに、比較例2のビトリファイドボンドダイヤモンドホイールは、実施例1の第一の超砥粒層11の造粒粉を90体積%と100μmの気孔形成材10体積%を混合した。
比較例3のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
比較例4のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
比較例5のビトリファイドボンド超砥粒ホイールの詳細は以下の通りである。
Claims (9)
- 超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層は、前記超砥粒を前記ビトリファイドボンドによって結合した第一の超砥粒層と、前記超砥粒が前記ビトリファイドボンドによってクラスターとなった集合超砥粒からなる第二の超砥粒層とを含み、
前記第一の超砥粒層は、第一の気孔形成材と前記超砥粒と前記ビトリファイドボンドとを用いて作成されており、
前記第二の超砥粒層は、前記超砥粒と前記ビトリファイドボンドと前記第一の気孔形成材より小径の第二の気孔形成材とを用いて作成されており、
前記超砥粒層には、前記第一の気孔形成材よりも大径の気孔が設けられている、ビトリファイドボンド超砥粒ホイール。 - 前記第一の超砥粒層の結合度は、前記第二の超砥粒層より結合度が低い、請求項1に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- 前記第一の超砥粒層では、前記超砥粒同士が前記超砥粒の粒径より小さい太さのボンドブリッジにより結合されている、請求項1または2に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- 前記第二の超砥粒層では、前記超砥粒同士が超砥粒の粒径より大きい太さのボンドブリッジにより結合されている、請求項1から3のいずれか1項に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- 前記第二の超砥粒層は前記気孔を取り囲む、請求項1から4のいずれか1項に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- 前記超砥粒層全体の体積に対して、前記第一の超砥粒層のうち前記超砥粒と前記ビトリファイドボンドの合計が占める割合は10〜50体積%、前記第二の超砥粒層のうち前記超砥粒と前記ビトリファイドボンドの合計が占める割合は5〜30体積%である、請求項1から5のいずれか1項に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- 前記ビトリファイドボンドの軟化温度は600〜900℃である、請求項1から6のいずれか1項に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- シリコン、サファイヤおよび化合物半導体の少なくとも一つを含むウエハの研削加工に用いられる、請求項1から7のいずれか1項に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載のビトリファイドボンド超砥粒ホイールを用いてシリコン、サファイヤおよび化合物半導体の少なくとも一つを含むウエハを研削加工する、ウエハの製造方法。
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