JP6763937B2 - ビトリファイド超砥粒ホイール - Google Patents
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ァイドボンド超砥粒ホイールにある。
上1以下のものを指す。従って、厳密な真球状、楕円球状などの、断面が数学的に厳密な円または楕円になる様な立体形状を、要求するものではない。本発明において用いられる気孔形成材の真球度は、0.5〜1.0であり、0.8〜1.0であることが好ましく、0.9〜1.0であることがより好ましい。
的にはNa2OがR2O全量に対して5〜30wt%、Li2OがR2O全量に対して20〜45wt%、K2OがR2O全量に対して20〜45wt%であり、かつK2O及びLi2Oの各々はNa2Oより多く含有される。各成分のこのような相対割合を採用することにより、砥粒保持力がさらに増加し研削性能が向上する等の利点が得られる。
、使用する砥粒の粒径が大きいと同じ程度の自然気孔が発現するが、この自然気孔の径が大きいと強制的に気孔形成した球状の大径気孔が焼成中に固体から気体に変化し、これがホイール中から抜けるときにこれらの大きな自然気孔中を通ってホイール外に抜けるので本発明の効果を充分に得ることができず好ましくないからである。
1. 砥粒、ボンド、1次結合剤(バインダーとも呼ぶ)等、を所定重量計量する。
2. 計量された物質を均一になるまで混合する(混合原料と呼ぶ)。
3. 混合原料を所定重量計量し、成型金型に充填する。
4. 所定圧力をかけ、所定寸法とする。
5. 成型金型から取り出し焼成温度の最高保留温度より低い温度に設定した加熱雰囲気器に一定時間入れる。
6. 焼成する。例えば、焼成温度は最高保留温度で600〜900℃の範囲である。
7. 焼成後所定寸法に仕上げてホイールとする。
下記のようにして本発明のビトリファイドボンド超砥粒ホイール及び比較ビトリファイドボンド超砥粒ホイールを製造した(テストホイール)。
φ200×30T×φ40(mm)の台金にホイール片を接着しセグメント式ホイールを作成した。
化させたものである。比較例1はSiO2、Al2O3及びB2O3は特許請求範囲内で
、比較例2〜比較例4は上記3成分のどれかが特許請求範囲外である。
研削試験の条件は次のとおりであった。
被削材: シリコンウエハー(200mm(直径)×0.7mm(厚み)20枚研削
研削液: 蒸留水、流量:12リットル/分
研削盤: 東芝機械社製縦軸平面研削盤、型式UVG−380B
ドレッシング条件:
ドレッサ: WA#4000
砥石回転数: 3822min−1
ドレス切り込み:20μm/min
研削条件:
研削方式: 湿式インフィード研削
砥石回転数: 3822min−1
テーブル回転数:121min−1
取り代:30μm
スパークアウト:10秒
評価項目:ホイール消耗量(μm)、仕上げ面粗さRa(μm)
但し、評価結果は比較例1を100とした相対値で示す。
果が高いことを示す。
以下の表5〜7にテストホイールの研削試験結果を示す。
て、研削性能が向上し、特に、314.2μmの場合に研削性能が顕著に向上したことが
分かる。
な研削性能の向上を達成し、かつウエハーの面粗さが小さくなったことより、ウエハーの品質向上にも顕著な効果があった。
測定したホイール:比較例1 実施例1
気孔形成材の径 :75μm 300μm
球状の気孔径及びアスペクト比の算出は、焼成後のホイールの表面を研磨して、その断面観察を行うことに測定する。研磨完了後にホイールの表面に露出した気孔部分100ヶ所について、短径aと長径bを測定し、その比a/bの平均値を真球度とする。
本発明は以下の実施態様を含む。
(1)超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層に分散して配置された平均気孔径が250〜600μmの球状の気孔を含み、前記球状の気孔の短径aと長径bの比(a/b)の平均値が0.5以上1.0以下であり、
シリコン、サファイヤおよび化合物半導体等の各種ウエハーの研削加工に用いられることを特徴とする、有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(2)前記ビトリファイドボンドは、55〜70wt%のSiO2、5〜15wt%のAl2O3、15〜25wt%のB2O3、1〜6wt%のRO(ROはCaO、MgO及びBaOの少なくとも一種から選ばれる)、及び4〜10wt%のR2O(R2OはK2O、Na2O及びLi2Oの少なくとも一種から選ばれる)が使用されることを特徴とする(1)に記載の有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(3)前記R2OがK2O、Na2O及びLi2Oを含み、
前記Na2OがR2O全量に対して5〜30wt%、Li2OがR2O全量に対して20〜45wt%、K2OがR2O全量に対して20〜45wt%であり、かつK2O及びLi2Oの各々はNa2Oより多く含有されることを特徴とする(2)に記載の有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
本発明は以下の他の実施態様を含む。
(1)超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層に分散して配置された気孔であって、気孔形成材に基づく平均気孔径が250〜600μmの球状の気孔を含み、前記球状の気孔の短径aと長径bの比(a/b)の平均値が0.5以上1.0以下であり、
シリコン、サファイヤおよび化合物半導体等の各種ウエハーの研削加工に用いられることを特徴とする、有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(2)前記ビトリファイドボンドは、55〜70wt%のSiO2、5〜15wt%のAl2O3、15〜25wt%のB2O3、1〜6wt%のRO(ROはCaO、MgO及びBaOの少なくとも一種から選ばれる)、及び4〜10wt%のR2O(R2OはK2O、Na2O及びLi2Oの少なくとも一種から選ばれる)が使用されることを特徴とする(1)に記載の有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(3)前記R2OがK2O、Na2O及びLi2Oを含み、
前記Na2OがR2O全量に対して5〜30wt%、Li2OがR2O全量に対して20〜45wt%、K2OがR2O全量に対して20〜45wt%であり、かつK2O及びLi2Oの各々はNa2Oより多く含有されることを特徴とする(2)に記載の有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
本発明は以下の他の実施態様を含む。
(1)超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層に分散して配置された気孔であって、有機質の気孔形成材を用いて形成された平均気孔径が300μmを超えて、600μm以下の球状の気孔を含み、前記球状の気孔の短径aと長径bの比(a/b)の平均値が0.5以上1.0以下であり、
シリコン、サファイヤおよび化合物半導体等の各種ウエハーの研削加工に用いられることを特徴とする、有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(2)前記ビトリファイドボンドは、55〜70wt%のSiO 2 、5〜15wt%のAl 2 O 3 、15〜25wt%のB 2 O 3 、1〜6wt%のRO(ROはCaO、MgO及びBaOの少なくとも一種から選ばれる)、及び4〜10wt%のR 2 O(R 2 OはK 2 O、Na 2 O及びLi 2 Oの少なくとも一種から選ばれる)が使用されることを特徴とする(1)に記載の有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(3)前記R 2 OがK 2 O、Na 2 O及びLi 2 Oを含み、
前記Na 2 OがR 2 O全量に対して5〜30wt%、Li 2 OがR 2 O全量に対して20〜45wt%、K 2 OがR 2 O全量に対して20〜45wt%であり、かつK 2 O及びLi 2 Oの各々はNa 2 Oより多く含有されることを特徴とする(2)に記載の有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
(4)超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層に分散して配置された気孔であって、気孔形成材に基づく平均気孔径が250〜600μmの球状の気孔を含み、前記球状の気孔の短径aと長径bの比(a/b)の平均値が0.5以上1.0以下であり、
前記ビトリファイドボンド超砥粒ホイールは、シリコン、サファイヤおよび化合物半導体等の各種ウエハーの研削加工に用いられ、
前記ビトリファイドボンドは、55〜70wt%のSiO 2 、5〜15wt%のAl 2 O 3 、15〜25wt%のB 2 O 3 、1〜6wt%のRO(ROはCaO、MgO及びBaOの少なくとも一種から選ばれる)、及び4〜10wt%のR 2 O(R 2 OはK 2 O、Na 2 O及びLi 2 Oの少なくとも一種から選ばれる)が使用され、
前記R 2 OがK 2 O、Na 2 O及びLi 2 Oを含み、
前記Na 2 OがR 2 O全量に対して5〜30wt%、Li 2 OがR 2 O全量に対して20〜45wt%、K 2 OがR 2 O全量に対して20〜45wt%であり、かつK 2 O及びLi 2 Oの各々はNa 2 Oより多く含有されることを特徴とする有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
Claims (2)
- 超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層に分散して配置された気孔であって、有機質の気孔形成材を用いて形成された平均気孔径が300μmを超えて、600μm以下の球状の気孔を含み、前記球状の気孔の短径aと長径bの比(a/b)の平均値が0.5以上1.0以下であり、
シリコン、サファイヤおよび化合物半導体等の各種ウエハーの研削加工に用いられ、
前記ビトリファイドボンドは、55〜70wt%のSiO 2 、5〜15wt%のAl 2 O 3 、15〜25wt%のB 2 O 3 、1〜6wt%のRO(ROはCaO、MgO及びBaOの少なくとも一種から選ばれる)、及び4〜10wt%のR 2 O(R 2 OはK 2 O、Na 2 O及びLi 2 Oの少なくとも一種から選ばれる)が使用され、
前記R 2 OがK 2 O、Na 2 O及びLi 2 Oを含み、
前記Na 2 OがR 2 O全量に対して5〜30wt%、Li 2 OがR 2 O全量に対して20〜45wt%、K 2 OがR 2 O全量に対して20〜45wt%であり、かつK 2 O及びLi 2 Oの各々はNa 2 Oより多く含有されることを特徴とする、有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。 - 超砥粒をビトリファイドボンドによって結合した超砥粒層を有するビトリファイドボンド超砥粒ホイールであって、
前記超砥粒層に分散して配置された気孔であって、気孔形成材に基づく平均気孔径が250〜600μmの球状の気孔を含み、前記球状の気孔の短径aと長径bの比(a/b)の平均値が0.5以上1.0以下であり、
前記ビトリファイドボンド超砥粒ホイールは、シリコン、サファイヤおよび化合物半導体等の各種ウエハーの研削加工に用いられ、
前記ビトリファイドボンドは、55〜70wt%のSiO2、5〜15wt%のAl2O3、15〜25wt%のB2O3、1〜6wt%のRO(ROはCaO、MgO及びBaOの少なくとも一種から選ばれる)、及び4〜10wt%のR2O(R2OはK2O、Na2O及びLi2Oの少なくとも一種から選ばれる)が使用され、
前記R2OがK2O、Na2O及びLi2Oを含み、
前記Na2OがR2O全量に対して5〜30wt%、Li2OがR2O全量に対して20〜45wt%、K2OがR2O全量に対して20〜45wt%であり、かつK2O及びLi2Oの各々はNa2Oより多く含有されることを特徴とする有気孔のビトリファイドボンド超砥粒ホイール。
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