JP5639548B2 - チタン鋳塊の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、例えば航空機等の材料に用いられる高い品質及び信頼性を有するチタン鋳塊を製造する方法に関するものである。
近年、チタン合金(純チタンを含む、以下本件において「チタン合金」は純チタンを含むものである)は、航空機用を初め様々な分野に用いられるようになってきた。このような状況の中でチタン合金メーカーにおいては、例えば、形状・組成ばらつきが大きい低廉なチタン原料やチタンスクラップ原料を活用し、低コストかつ高い品質及び信頼性を有するチタン鋳塊を製造する技術について、注目が集まっている。
しかし、チタン合金として、上述したような形状・組成ばらつきが大きい低廉なチタン原料やチタンスクラップ原料を溶解し、製造されるチタン鋳塊は、チタンと同程度、あるいはそれ以下の比重、具体的には5g/cm以下の比重を有する介在物(Low Density Inclusion、以下、「LDI」という)やチタンよりも比重の大きな(比重:5g/cm超)介在物(High Density Inclusion、以下、「HDI」という)が残存し、機械的性質に悪影響をもたらす。一般に、原料としての上記チタン合金に残存する介在物としてのLDIの個数に対する上記チタン鋳塊に残存する介在物としてのLDIの個数の割合は、5〜6%と言われる。特に、航空機用材料として用いる場合には、この割合を一層低減することが求められている。このような問題を解消する技術として、下記のような方法が提案されている。
例えば、ハースを用いた電子ビーム溶解方法において、ハース内で溶解されたチタン合金(以下、「溶融チタン」という)が鋳型へ向かって流れる方向とは逆方向に電子ビームを走査し、かつハース内の溶融チタンの出口付近の溶融チタンの平均温度をLDIの融点以上にする技術が開示されている(特許文献1参照)。この技術を用いると、HDIとともに粒径がφ0.2〜1.0mmのLDIを含有した原料としてのスポンジチタンを溶解し、溶融チタンからHDIを沈降分離し、かつ溶融チタン内のLDIを溶解することで、LDIを5%から1%未満にまで低減したチタン鋳塊を製造することができる。
また、ハース内の溶融チタンの流れを鉛直方向の上昇流の後に下降流を形成させることで、滞留時間を長くしてLDIを溶解させ、かつ、ハース底にHDIをトラップさせる技術が開示されている(特許文献2参照)。この技術を用いると、HDIとともに粒径がφ1.0〜3.0mmのLDIを含有した原料としてのスポンジチタンを溶解し、溶融チタンからHDIを沈降分離し、かつ溶融チタン内のLDIを溶解することで、LDIを6%から1%未満にまで低減したチタン鋳塊を製造することができる。
特開2004−232066号公報 特開2009−161855号公報
しかしながら、上記特許文献1、2に開示された技術には、以下のような問題点が存在する。
すなわち、特許文献1に記載の技術は、LDIの粒径がφ0.2〜1.0mm程度であれば、溶融チタン内のLDIを十分に溶解させることが可能である。しかし、LDIの粒径がφ10〜15mm程度まで大きくなると、溶融チタン内の温度の低い箇所を通過するようになり、LDIを十分に溶解できなくなり、未溶解のLDIのまま溶融チタンとともに鋳型に流れ込んでしまうという虞がある。
また、特許文献2に記載の技術は、LDIの粒径がφ1.0〜3.0mm程度であれば、溶融チタンの流れを鉛直方向の上昇流の後に下降流を形成させるようなパスでも、LDIを溶解させるための滞在時間を確保することが可能である。しかし、LDIの粒径がφ10〜15mm程度まで大きくなると、前記パス程度では、LDIを溶解させるための滞在時間を確保することができず、溶融チタン内のLDIを完全に溶解出来なくなる虞がある。
発明の目的は、チタン合金からHDIを除去するとともに、粒径がφ10〜15mm程度までのLDIも1%以下程度にまで低減させ、低コストかつ高い品質及び信頼性を有するチタン鋳塊を得ることが可能なチタン鋳塊の製造方法を提供することにある。
この目的を達成するために、本発明の請求項1に記載の発明は、
チタン合金(純チタンを含む)を溶解し、チタン鋳塊を製造する方法において、
(a)下記式(1)を満足するように、コールドクルーシブル誘導溶解法(Cold Crucible Induction Melting、以下、「CCIM」という)によりチタン合金を溶解する工程と、
(b)前記(a)工程の後に、溶解したチタン合金(以下、「溶融チタン」という)をコールドハースに供給し、当該溶融チタンの浴面にプラズマジェットを吹き付けながらコールドハース内で5g/cm超の比重の大きな介在物(HDI)を沈降分離する工程と、
を有したことを特徴とするチタン鋳塊の製造方法である。
y≧700×A−1.2 --- (1)
ここで、A=P/(V/S)
y:溶解時間[min]
A:熱バランスパラメータ
P:CCIMにおける投入電力[kW]
V:溶湯チタンの体積[m
S:溶湯チタンの表面積[m
以上のように、本発明は、
チタン鋳塊を製造するにあたって、下記式(1)を満足するように、CCIMでチタン合金を溶解することにより、溶融チタン内のLDIを溶解し、
次工程にて、このLDIが溶解された溶融チタンをコールドハースに供給し、当該溶融チタンの浴面にプラズマジェットを吹き付けながらコールドハース内でHDIを沈降分離することを特徴とする。
y≧700×A−1.2 --- (1)
ここで、A=P/(V/S)
y:溶解時間[min]
A:熱バランスパラメータ
P:CCIMにおける投入電力[kW]
V:溶湯チタンの体積[m
S:溶湯チタンの表面積[m
これにより、特に粒径がφ10〜15mm程度までのLDIを含有したチタン合金(例えば、形状・組成ばらつきが大きい低廉なチタン原料やチタンスクラップ原料)を溶解した場合でも、その溶融チタン内の前記LDIを十分に溶解することが可能であるため、チタン合金からHDIを除去するとともに、粒径がφ10〜15mm程度までのLDIも1%以下程度にまで低減した、低コストかつ高い品質及び信頼性を有するチタン鋳塊を製造することができる。
本発明の一実施例のチタン鋳塊の製造方法のプロセスを時系列的に説明するための模式図である。 本発明の一実施例のチタン鋳塊の製造方法における「CCIM時の投入電力Pをパラメータとした場合の“各種粒径のLDI(LDI半径)”と“溶解時間(y)”」 の関係を示す特性図である。 図1(a)に示すCCIMを用いる工程における溶融チタンへの入熱量と溶融チタンからの抜熱量の関係を模式的に示す模式断面図である。 本発明のチタン鋳塊の製造方法における「“熱バランスパラメータ(A)”と“LDIを完全に溶解するために最低必要な溶解時間(y)”」の関係を示す特性図である。
以下、本発明について、実施形態を例示しつつ、詳細に説明する。
本発明者達は、如何にすれば粒径がφ10〜15mm程度までのLDIを含有したチタン合金を溶解した場合でも、チタン合金からHDIを除去するとともに、LDIも1%以下程度にまで低減することができるのか鋭意研究を行った。
最初に、チタン鋳塊を製造するラボ実験として、上述したようなCCIMを用いる工程を設け、350kWの高周波電源出力でCCIM(水冷銅るつぼの内径:φ200mm)を実施した結果、60分かけてチタン合金を溶解しさえすれば、溶融チタン内に添加した粒径φ15mmのLDI5個を完全に溶解することが可能であることを見出したことに本発明の端緒がある(後記実施例1参照)。
また、チタン鋳塊を製造するラボ実験として、上述したようなCCIMを用いる工程を設け、CCIM(上記寸法の水冷銅るつぼ使用)時の高周波電源出力(CCIMにおける投入電力P、以下「投入電力P」ともいう)をパラメータとし、φ10〜15mm程度までの各種粒径のLDIを溶融チタン内にそれぞれ完全に溶解するために最低必要な溶解時間(y)を見出した(後記実施例2および図2参照)。
上述結果を踏まえて、後記図1(a)に示すCCIMを用いる工程において、粒径がφ10〜15mm程度までのLDI7を含有したチタン合金を様々な容積(ラボ実験用の内径約φ150mm〜量産設備用の内径約φ1000mm)の水冷銅るつぼ5に供給した場合における溶融チタン6への入熱量(投入電力P)と溶融チタン6からの抜熱量(溶融チタンの体積V、表面積S)の関係(図3を参照)を考察するために、新たに下記のような熱バランスパラメータ(A)を導入した。この熱バランスパラメータ(A)を導入したことにより、当業者においても想到し得ない、図4に示すような「“熱バランスパラメータ(A)”と“溶融チタン6内の上記LDI7を完全に溶解するために最低必要な溶解時間(y)”」の関係を示す下記近似式(1)を試行錯誤の上、見出したことに本発明の中核をなすポイントがある。すなわち、CCIMを用いる工程において、各熱バランスパラメータ(A)に対して、図4に示す近似式(1)の溶解時間(y)以上をかけてチタン合金を溶解すればよいことを示す。
y≧700×A−1.2 --- (1)
ここで、A=P/(V/S)
y:溶解時間[min]
A:熱バランスパラメータ
P:CCIMにおける投入電力[kW]
V:溶湯チタン6の体積[m
S:溶湯チタン6の表面積[m
また、後記図1(b)に示す「LDI7が溶解された溶融チタン6をコールドハース10に供給し、この溶融チタン6の浴面にプラズマジェットを吹き付けながらコールドハース10内でHDI8を沈降分離する工程」において、溶融チタン6中のHDI8の終末沈降速度ut{下記式(2)参照}は約0.8m/sと推定されるため、例えば下記式(3)を満足するように、溶融チタン6の浴面にプラズマジェットを吹き付ければよい。
以上より、本発明に係るチタン鋳塊の製造方法においては、上記式(1)を満足するように、CCIMでチタン合金を溶解することにより、溶融チタン内のLDIを溶解し、
次工程にて、このLDIが溶解された溶融チタンをコールドハースに供給し、当該溶融チタンの浴面にプラズマジェットを吹き付けながらコールドハース内でHDIを沈降分離することで、チタン合金からHDIを除去するとともに、粒径がφ10〜15mm程度までのLDIも1%以下程度にまで低減できる。
ここで、溶解時間(y)は、下記式(4)を満足するようにすると、LDIの溶解がより進むのでより好ましい。
y≧900×A−1.2 --- (4)
以下、本発明のチタン鋳塊の製造方法の一実施例について、図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の一実施例のチタン鋳塊の製造方法のプロセスを時系列的に説明するための模式図であって、(a)は水冷銅るつぼ5に供給されたチタン合金としてのチタンスクラップ原料をCCIMで溶解し、この溶解したチタン合金(溶融チタン6)内のLDI7を完全に溶解する工程を示す図、(b)は(a)に示す工程でLDI7が完全に溶解された溶融チタン6をコールドハース10に供給し、当該溶融チタン6の浴面にプラズマジェットを吹き付けながらコールドハース10内でHDI8を沈降分離する工程を示す図、(c)は(b)に示す工程でHDI8を沈降分離した溶融チタン6を鋳型20に供給し、チタン鋳塊30を得る工程を示す図である。
図1(a)に示すCCIMにおいて、高周波電源1に接続され、かつ冷却水2により冷却された高周波コイル3の内側にスリット4によって分割された水冷銅るつぼ(内径:φ200mm)を設置し、高周波コイル3で発生した高周波磁場をスリット4から通過させて、LDI7とHDI8を含有したチタン合金としてのチタンスクラップ原料を溶解し、溶融チタン6を得る。このCCIMを用い、上記式(1)を満足するようにチタンスクラップ原料を溶解することにより、溶融チタン6が強攪拌され、湯温が均一かつ高温に保たれるため、少なくとも溶融チタン6内のLDI7は完全に溶解し、かつHDI8も溶融チタン6内に溶解する(ただし、HDI8の粒径によっては、水冷銅るつぼの底部にある凝固スカル9にトラップされる。)。
図1(b)において、上記図1(a)に示す工程でLDI7が完全に溶解された溶融チタン6をコールドハース10に供給し、この溶融チタン6の浴面にプラズマトーチ11からプラズマジェットを吹き付けながら、溶融チタン6内に一部残存したままのHDI8もコールドハース10の底部に沈降分離する。この工程を経ることにより、特に水冷銅るつぼ5から溶融チタン6を引抜き出湯したような場合にも、溶融チタン6内からHDI8を除去するとともに、粒径がφ10〜15mm程度までのLDI7も1%以下にまで低減することが可能になる。
図1(c)において、上記図1(b)に示す工程でHDI8を沈降分離した溶融チタン6を鋳型20に供給し、この溶融チタン6の浴面にプラズマトーチ11からプラズマジェットを吹き付けながら、下方に引き抜きチタン鋳塊30を得る。これにより、出発原料(チタン合金)としてのチタンスクラップ原料からHDI8が除去されるとともに、粒径がφ10〜15mm程度までのLDI7も1%以下にまで低減した、低コストかつ高い品質及び信頼性を有するチタン鋳塊を製造することができる。さらに、図1(c)に示す工程で得られたチタン鋳塊を電極としてVAR溶解することで、VAR溶解終了後には最終製品としてのチタン鋳塊が得られる(図示せず)。
(実施例1)
上述したような内径φ200mmの水冷銅るつぼ5内にTi−6Al−4V合金20kgとLDI7に見立てた粒径φ15mmのTiN5個を供給し、CCIMによる溶解実験を実施した。
<溶解条件>
高周波電源1の出力(投入電力P): 350kW
溶融チタン6の温度: 1,700℃
溶融チタン6の表面速度: 0.3m/s
溶解時間(y): 60min
以上の溶解実験を実施後の鋳塊を調べた結果、鋳塊からはLDI7が検出されなかった。これにより、CCIMを採用することで粒径φ15mmのような大きなLDI7でも完全に溶解することが可能であることが判明した。
(実施例2)
実施例1と同様の内径φ200mmの水冷銅るつぼ5内にTi−6Al−4V合金20kgとLDI7に見立てたφ15mm程度までの各種粒径のTiNを適宜供給し、CCIMによる溶解実験を実施し、投入電力Pをパラメータとした場合の前記LDI7の粒径サイズ毎にそれぞれ完全に溶解することが可能な溶解時間(y)を調べた。
以上の溶解実験の結果、図2に示すように、例えば粒径φ10mmのLDI7(LDI半径5mm)において、250kW、300kW、350kWの3水準の投入電力Pをそれぞれ加えた場合、溶解時間(y)として108min、81min、62minの時間をかけて溶解しさえすれば、完全に溶解することが可能であることが判明した。また、例えば粒径φ15mmのLDI7(LDI半径7.5mm)においても、250kW、300kW、350kWの3水準の投入電力Pをそれぞれ加えた場合、溶解時間(y)として161min、121min、92minの時間をかけて溶解しさえすれば、完全に溶解することが可能であることが判明した。すなわち、粒径がφ10〜15mm程度までの各種粒径のLDI7を含有した所定量のチタン合金でも、投入電力Pに応じて、適切な溶解時間(y)を与えてやりさえすれば、LDI7を完全に溶解することが可能であることを示唆している。
1 高周波電源
2 冷却水
3 高周波コイル
4 スリット
5 水冷銅るつぼ
6 溶融チタン
7 LDI
8 HDI
9 凝固スカル
10 コールドハース
11 プラズマトーチ
20 鋳型
30 チタン鋳塊

Claims (1)

  1. チタン合金(純チタンを含む)を溶解し、チタン鋳塊を製造する方法において、
    (a)下記式(1)を満足するように、コールドクルーシブル誘導溶解法(Cold Crucible Induction Melting、以下、「CCIM」という)によりチタン合金を溶解する工程と、
    (b)前記(a)工程の後に、溶解したチタン合金(以下、「溶融チタン」という)をコールドハースに供給し、当該溶融チタンの浴面にプラズマジェットを吹き付けながらコールドハース内で5g/cm超の比重の大きな介在物を沈降分離する工程と、
    を有したことを特徴とするチタン鋳塊の製造方法。
    y≧700×A−1.2 --- (1)
    ここで、A=P/(V/S)
    y:溶解時間[min]
    A:熱バランスパラメータ
    P:CCIMにおける投入電力[kW]
    V:溶湯チタンの体積[m
    S:溶湯チタンの表面積[m
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