JP5637845B2 - チップ抵抗器基板 - Google Patents
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- 後に個別化するためにセラミック基板に分離線又は目標破壊線を適切に加工する方法であって、第一に熱的な処理ステップにおいて、製造したい分離線又は目標破壊線を局所的に加熱し、次いでセラミック基板において温度交番により、分離線又は目標破壊線に沿って適切な亀裂形成又は材料脆弱化が成されるように、冷却媒体によって、製造したい分離線又は目標破壊線を冷却し、分離線又は目標破壊線を既に焼結されたセラミック基板の表面に加工する、後に個別化するためにセラミック基板に分離線又は目標破壊線を適切に加工する方法において、
分離線又は目標破壊線を備えたセラミック基板に、少なくとも1つの成分から成る、抵抗を規定する材料領域及び/又は構成素子を提供し、分離線又は目標破壊線に沿った分断により、個々の構成部材及び/又は構成群を得る、分離線又は目標破壊線を、既に焼結されたセラミック基板の表面に加工し、
分離線又は目標破壊線がセラミック基板の縁部から縁部に一貫して延在しているのではなく、中断部も有しているように、熱的な処理ステップ中のエネルギ供給を制御し、
少なくとも1つの面において、焼結されていない状態で少なくとも1つの目標破壊線及び/又は穿孔が、打抜き加工、又は押抜き加工、又はプレス加工されていることを特徴とする、後に個別化するためにセラミック基板に分離線又は目標破壊線を適切に加工する方法。 - セラミック基板に、1〜30cmの長さ及び幅と、2mmより小さな厚さとを有する面状の構造を使用することを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 分離線又は目標破壊線が同じ又は種々異なる亀裂深さを有するように、熱的な処理ステップ中のエネルギ供給を制御することを特徴とする、請求項1又は2記載の方法。
- 分離線又は目標破壊線をセラミック基板の少なくとも2つの面に加工することを特徴とする、請求項1から3までのいずれか一項記載の方法。
- セラミック基板に、例えば円筒形又は方形又はn角形の構造を備えた棒状部材、又は例えばU字形又はH字形又はL字形を備えた異形材を使用することを特徴とする、請求項1から4までのいずれか一項記載の方法。
- 分離線又は目標破壊線が人間の目には不可視であり、前記表面の歪みも、分離線又は目標破壊線に沿った汚染も認識できないように、熱的な処理ステップ中のエネルギ供給を制御することを特徴とする、請求項1から5までのいずれか一項記載の方法。
- 請求項1から6までのいずれか一項記載の方法によって製造されたセラミック基板において、
セラミック基板は全表面に既に焼結されているセラミックスであり、該セラミックスの表面に個別化のための分離線又は目標破壊線が配置されていることを特徴とする、セラミック基板。 - 分離線又は目標破壊線は同じ又は種々異なる亀裂深さを有していることを特徴とする、請求項7記載のセラミック基板。
- 分離線又は目標破壊線はセラミック基板の複数の面に配置されていることを特徴とする、請求項7又は8記載のセラミック基板。
- セラミック基板は、例えば円筒形又は方形又はn角形の構造を備えた棒状部材の形態、又は例えばU字形又はH字形又はL字形の異形材の形態を有していることを特徴とする、請求項7から9までのいずれか一項記載のセラミック基板。
- 分離線又は目標破壊線は人間の目には不可視であり、前記表面の歪みと、分離線又は目標破壊線に沿った汚染とは認識できないことを特徴とする、請求項7から10までのいずれか一項記載のセラミック基板。
- 分離線又は目標破壊線を備えたセラミック基板に、抵抗を規定し、少なくとも1つの成分から成る適切な材料領域及び/又は構成素子が提供されていて、分離線又は目標破壊線に沿った分断により、後続の方法においてチップ抵抗器に製造される個々の構成部材及び/又は構成群がもたらされることを特徴とする、請求項7から11までのいずれか一項記載のセラミック基板。
- 請求項7から11までのいずれか一項記載のセラミック基板を備えるチップ抵抗器基板であって、分離線又は目標破壊線が設けられているセラミック基板に、抵抗を規定する少なくとも1つの成分から成る適切な材料領域及び/又は構成素子を提供し、分離線又は目標破壊線に沿った分断により、後続の方法においてチップ抵抗器となる個々の構成部材及び/又は構成群、又は、複数のつながっている構成部材及び/又は構成群を得ることを特徴とする、チップ抵抗器基板。
- 請求項12又は13記載の、後続の方法においてチップ抵抗器となる構成部材及び/又は構成群において、歪みのない表面及び/又は平滑な破壊エッジを特徴とする、チップ抵抗器となる構成部材及び/又は構成群。
- 少なくとも1つの面において、焼結された状態で少なくとも1つの目標破壊線及び/又は穿孔が、レーザ穿孔又はレーザスクライブ加工又はウォータジェット切断又は穿孔されていることを特徴とする、請求項7から12までのいずれか一項記載のセラミック基板。
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