EP2151149A1 - Chip-resistor-substrat - Google Patents

Chip-resistor-substrat

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Publication number
EP2151149A1
EP2151149A1 EP08736308A EP08736308A EP2151149A1 EP 2151149 A1 EP2151149 A1 EP 2151149A1 EP 08736308 A EP08736308 A EP 08736308A EP 08736308 A EP08736308 A EP 08736308A EP 2151149 A1 EP2151149 A1 EP 2151149A1
Authority
EP
European Patent Office
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ceramic substrate
separation
predetermined breaking
breaking lines
lines
Prior art date
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Ceased
Application number
EP08736308A
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English (en)
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Inventor
Claus Peter Kluge
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ceramtec GmbH
Original Assignee
Ceramtec GmbH
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Publication date
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    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0044Mechanical working of the substrate, e.g. drilling or punching
    • H05K3/0052Depaneling, i.e. dividing a panel into circuit boards; Working of the edges of circuit boards
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/22Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising
    • B28D1/221Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising by thermic methods
    • HELECTRICITY
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    • H01C1/00Details
    • H01C1/01Mounting; Supporting
    • H01C1/012Mounting; Supporting the base extending along and imparting rigidity or reinforcement to the resistive element
    • HELECTRICITY
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    • H01CRESISTORS
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    • H01C17/006Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for manufacturing resistor chips
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    • H05K1/00Printed circuits
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    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
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    • H05K2201/09009Substrate related
    • H05K2201/0909Preformed cutting or breaking line
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    • H05K2203/11Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
    • H05K2203/1121Cooling, e.g. specific areas of a PCB being cooled during reflow soldering
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/15Sheet, web, or layer weakened to permit separation through thickness

Definitions

  • the invention relates to a method for the targeted introduction of separation and / or predetermined breaking lines in ceramic substrates for subsequent separation, in which first in a thermal treatment or process step the separation and / or predetermined breaking line to be created locally and then heated with a Cooling medium is shock-like cooled so that in the ceramic substrate by this temperature change a targeted cracking or weakening material along the separation and / or predetermined breaking line.
  • Metal-ceramic substrates in the form of a multiple substrate are known, in which metallizations (metal areas) are provided on a common, for example large-area ceramic plate or layer, which are each assigned to individual substrates or which form metallizations of individual substrates.
  • metallizations metal areas
  • a common, for example large-area ceramic plate or layer which are each assigned to individual substrates or which form metallizations of individual substrates.
  • predetermined lines forming grooves are introduced by means of lasers, so that the multiple substrate along these predetermined breaking lines can be separated by mechanical breaking into the individual substrates.
  • a disadvantage here is that material, which evaporates when introducing the SoII- breaking lines forming grooves, again deposited on the substrate and so contamination of the multi-substrate, in particular the metal areas occurs, which can interfere with further processing.
  • DE 103 27 360 A1 discloses a method for producing a metal-ceramic substrate, in which (method) at least one metal surface is applied to at least one surface side of a ceramic, and after application of the at least one metal region, the metal-ceramic substrate. Substrate along at least one separation or break line in a thermal treatment or process step is heated and then cooled with a cooling medium shock-like so that in the metal-ceramic substrate by this temperature change targeted cracking or weakening occurs along the separation or predetermined breaking line.
  • the invention has for its object to improve a method according to the preamble of claim 1 so that the material which evaporates when introducing the separation and / or predetermined breaking lines, does not deposit on the multi-substrate, in particular not on the metallized areas or metal areas and so contamination of the multi-substrate, or their metal areas occurs, which would interfere with further processing.
  • a ceramic substrate produced by this method and a preferred use will be described. According to the invention this object is achieved with respect to the method by the features of claim 1.
  • the separation and / or predetermined breaking lines are introduced in the surface of the finished sintered ceramic substrate, i. Before the application of the metallized regions or metal regions, no material which evaporates when introducing the separation and / or predetermined breaking lines can deposit on the multi-substrate, in particular not on its metallized regions or metal regions, thus contaminating the multi-substrate or its metal regions cause.
  • a three-dimensional structure is used for the ceramic substrate.
  • a suitable geometry can be produced for each application.
  • Another inventive embodiment is characterized in that a planar structure is used for the ceramic substrate, preferably with lengths and widths of 1 to 30 cm and thicknesses of less than 2 mm. Especially with these dimensions, high-quality ceramic substrates can be achieved.
  • the energy input during the thermal treatment or process step is controlled so that the separation and / or predetermined breaking lines have a same or different Liehe depth of crack.
  • the crack depth By choosing the crack depth, the refractive power required for breaking can be set in a targeted manner.
  • the separation and / or predetermined breaking lines are introduced on at least two sides of the ceramic substrate.
  • the severance and / or break lines may face each other on two sides of the ceramic substrate, thereby enabling breakage from two sides.
  • the energy input during the thermal treatment or process step is controlled so that the separation and / or predetermined breaking lines do not run continuously from edge to edge of the ceramic substrate, but also have targeted interruptions. As a result, the strength of the ceramic substrate is improved before breaking.
  • rods are used for the ceramic substrate, for example, with cylindrical or rectangular or n-cornered structure or profiles with, for example U- or H- or L-shape. It can be so, depending on the application form, produce any three-dimensional ceramic substrates.
  • the energy input during the thermal treatment or process step is controlled so that the separation and / or predetermined breaking lines are almost invisible to the human eye and no deformation of the surface, as well as contamination along the separation or break line can be seen.
  • the external appearance of the ceramic substrate is flawless without visible separation and / or break lines.
  • the ceramic substrate according to the invention is a completely sintered ceramic on the entire surface, on the surface of which separation and / or predetermined breaking lines for singling are arranged.
  • the ceramic substrate has a three-dimensional structure, whereby the ceramic substrate is adaptable to all application forms.
  • the separation and / or predetermined breaking lines have the same or different crack depth, as a result of which the required refractive power can be selectively adjusted during break-off.
  • the separation and / or predetermined breaking lines are arranged on several sides of the ceramic substrate. This allows the ceramic substrate to be singulated at all imaginable places.
  • the separation and / or predetermined breaking lines do not run continuously from edge to edge of the ceramic substrate, but have targeted interruptions.
  • the separation can also be controlled. - A -
  • the ceramic substrate in the form of rods, for example, with cylindrical or rectangular or n-angular structure or profiles with, for example U- or H- or L-shape.
  • the ceramic substrate can be produced in all advantageous geometries.
  • the separation and / or predetermined breaking lines can also consist of a multiplicity of separation or predetermined breaking points arranged one behind the other, which thereby form a separating or predetermined breaking line. If the cutting lines and / or predetermined breaking lines are introduced with a laser, they always consist of a large number of shots, which in their entirety form a "line".
  • the separation and / or predetermined breaking lines are almost invisible to the human eye and there are no deformations of the surface, and to detect contamination along the separation or predetermined breaking line.
  • a preferred ceramic substrate is characterized in that suitable, a resistance defining, consisting of at least one component material areas and / or components are applied to the provided with separation and / or predetermined breaking lines ceramic substrate, and by breaking along the separation - And / or fracture lines individual components and / or component groups arise, which result in downstream methods chip resistors.
  • a resistive defining consisting of at least one component material areas and / or components are applied to the provided with separation and / or predetermined breaking lines ceramic substrate and By breaking along the separation and / or predetermined breaking lines, single or multiple contiguous components and / or component groups are produced, which result in chip resistors in downstream methods.
  • the components and / or component groups produced in this way which can be processed into chip resistors in downstream processes, are characterized by a rake-free surface and / or virtually smooth rupture edges.
  • At least one predetermined breaking line and / or perforation in the unsintered state by material displacement for example stamping or embossing or pressing, has been introduced on at least one side of the ceramic substrate on the ceramic substrate.
  • at least one predetermined breaking line and / or perforation for example by laser drilling or laser scribing or water jet cutting or drilling, has been introduced on the ceramic substrate on at least one side in the sintered state.
  • the predetermined breaking line and / or perforation can be introduced in the unsintered as well as in the sintered state with the mentioned methods.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum gezielten Einbringen von Trenn- und/oder Sollbruchlinien in Keramik-Substrate zur späteren Vereinzelung, bei dem zunächst in einem thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritt die zu schaffende Trenn- oder Sollbruchlinie lokal erhitzt und dann mit einem Kühlmedium schockartig derart abgekühlt wird, dass im Keramik-Substrat durch diesen Temperaturwechsel eine gezielte Rissbildung oder Materialschwächung entlang der Trenn- oder Sollbruchlinie erfolgt. Außerdem betrifft die Erfindung ein Keramik-Substrat und deren Verwendung. Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien in der Oberfläche des fertig gesinterten Keramik-Substrates eingebracht werden.

Description

Chip-Resistor-Substrat
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum gezielten Einbringen von Trenn- und/oder Sollbruchlinien in Keramik-Substrate zur späteren Vereinzelung, bei dem zunächst in einem thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritt die zu schaffende Trenn- und/oder Sollbruchlinie lokal er- hitzt und dann mit einem Kühlmedium schockartig derart abgekühlt wird, dass im Keramik- Substrat durch diesen Temperaturwechsel eine gezielte Rissbildung oder Materialschwächung entlang der Trenn- und/oder Sollbruchlinie erfolgt.
Bekannt sind Metall-Keramik-Substrate in Form eines Mehrfachsubstrates, bei dem auf einer gemeinsamen, beispielsweise großflächigen Keramikplatte oder -Schicht Metallisierungen (Me- tallbereiche) vorgesehen sind, die jeweils Einzelsubstraten zugeordnet sind bzw. die Metallisierungen von Einzelsubstraten bilden. In der Keramikschicht sind dann beispielsweise durch Lasern Sollbruchlinien bildende Nuten eingebracht, so dass das Mehrfachsubstrat entlang dieser Sollbruchlinien durch mechanisches Brechen in die Einzelsubstrate getrennt werden kann.
Ein Nachteil besteht hierbei darin, dass sich Material, welches beim Einbringen der die SoII- bruchlinien bildenden Nuten verdampft, auf dem Substrat wieder abscheidet und so eine Verschmutzung des Mehrfachsubstrates, insbesondere auch der Metallbereiche eintritt, was sich bei der weiteren Verarbeitung störend auswirken kann.
Aus der DE 103 27 360 A1 ist ein Verfahren zum Herstellen eines Metall-Keramik-Substrates, bei dem (Verfahren) auf wenigstens einer Oberflächenseite einer Keramik mindestens ein Me- tallbereich aufgebracht wird und nach dem Aufbringen des wenigstens einen Metallbereichs das Metall-Keramik-Substrat entlang zumindest einer Trenn- oder Sollbruchlinie in einem thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritt erhitzt und dann mit einem Kühlmedium schockartig derart abgekühlt wird, dass im Metall-Keramik-Substrat durch diesen Temperaturwechsel eine gezielte Rissbildung oder Materialschwächung entlang der Trenn- oder Sollbruchlinie erfolgt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 so zu verbessern, dass das Material, welches beim Einbringen der Trenn- und/oder Sollbruchlinien verdampft, sich nicht auf dem Mehrfachsubstrat, insbesondere nicht auf dessen metallisierten Bereiche oder Metallbereiche abscheidet und so eine Verschmutzung des Mehrfachsubstrates, bzw. deren Metallbereiche eintritt, was sich bei der weiteren Verarbeitung störend auswirken würde. Außerdem werden ein nach diesem Verfahren hergestelltes Keramik-Substrat und eine bevorzugte Verwendung beschrieben. Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe bezüglich des Verfahrens durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.
Dadurch, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien in der Oberfläche des fertig gesinterten Keramik-Substrates eingebracht werden, d.h. vor dem Aufbringen der metallisierten Bereiche oder Metallbereiche, kann kein Material, welches beim Einbringen der Trenn- und/oder Sollbruchlinien verdampft, sich auf dem Mehrfachsubstrat, insbesondere nicht auf dessen metallisierten Bereiche oder Metallbereiche abscheiden und so eine Verschmutzung des Mehrfachsubstrates, bzw. deren Metallbereiche herbeiführen.
Bei diesem Verfahren, bei dem entweder durch die thermische Behandlung ein thermisches Trennen oder Spalten der Keramikschicht entlang der jeweiligen Bearbeitungs- oder Trennlinie erfolgt oder aber durch die thermische Behandlung jeweils wenigstens eine Sollbruchlinie erzeugt wird, die ein späteres Trennen der Keramik durch mechanisches Brechen ermöglicht, erfolgt kein Verschmutzen des Substrates und insbesondere auch keine Ausbildung von Rändern oder Trichtern durch Abscheiden von verdampften Material auf dem Substrat entlang der jeweili- gen Trenn- und/oder Sollbruchlinie, so dass die weitere Verarbeitung des Substrates nicht beeinträchtigt ist.
In einer erfinderischen Ausgestaltung wird für das Keramik-Substrat eine dreidimensionale Struktur verwendet. Hierdurch kann für jede Anwendung eine passende Geometrie hergestellt werden.
Eine andere erfinderische Ausgestaltung zeichnet sich dadurch aus, dass für das Keramiksub- strat eine flächige Struktur verwendet wird, bevorzugt mit Längen und Breiten von 1 bis 30 cm und Dicken kleiner 2 mm. Gerade mit diesen Maßen sind qualitativ hochwertige Keramiksubstrate zu erreichen.
Bevorzugt wird die Energieeinbringung während des thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritts so gesteuert, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien eine gleiche oder unterschied- liehe Risstiefe aufweisen. Durch die Wahl der Risstiefe lässt sich die zum Abbrechen erforderliche Brechkraft gezielt einstellen.
In Weiterbildung der Erfindung werden die Trenn- und/oder Sollbruchlinien auf mindestens zwei Seiten des Keramik-Substrates eingebracht. Zum Beispiel können sich die Trenn- und/oder Sollbruchlinien auf zwei Seiten des Keramik-Substrates gegenüberliegen, wodurch das Abbrechen von zwei Seiten her möglich ist, bzw. erleichtert wird. In Weiterbildung der Erfindung wird die Energieeinbringung während des thermischen Behand- lungs- oder Verfahrensschritts so gesteuert, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nicht durchgängig von Rand zu Rand des Keramik-Substrates verlaufen, sondern auch gezielt Unterbrechungen aufweisen. Hierdurch ist die Festigkeit des Keramik-Substrates vor dem Abbrechen verbessert.
In einer Ausgestaltung der Erfindung werden für das Keramik-Substrat Stäbchen, beispielsweise mit zylinderförmiger oder rechteckiger oder n-eckiger Struktur oder Profile mit beispielsweise U- oder H- oder L-Form verwendet. Es lassen sich so, je nach Anwendungsform, beliebige dreidimensionale Keramik-Substrate herstellen.
Bevorzugt wird die Energieeinbringung während des thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritts so gesteuert, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nahezu unsichtbar für das menschliche Auge sind und keine Deformation der Oberfläche, sowie Kontaminationen entlang der Trenn- oder Sollbruchlinie zu erkennen sind. Hierdurch ist das äußere Erscheinungsbild des Keramik-Substrats makellos ohne sichtbare Trenn- und/oder Sollbruchlinien.
Das erfindungsgemäße Keramik-Substrat ist eine auf der gesamten Oberfläche fertig gesinterte Keramik, auf deren Oberfläche Trenn- und/oder Sollbruchlinien zur Vereinzelung angeordnet sind.
Bevorzugt weist das Keramik-Substrat eine dreidimensionale Struktur auf, wodurch das Keramik- Substrat an alle Anwendungsformen anpassbar ist.
In erfinderischer Ausgestaltung weisen die Trenn- und/oder Sollbruchlinien eine gleiche oder unterschiedliche Risstiefe auf, wodurch sich die erforderliche Brechkraft beim Abbrechen gezielt einstellbar ist.
In einer Ausgestaltung der Erfindung sind die Trenn- und/oder Sollbruchlinien auf mehreren Seiten des Keramik-Substrats angeordnet. Damit lässt sich das Keramik-Substrat an allen denkba- ren Stellen vereinzeln.
In einer anderen Ausführungsform verlaufen die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nicht durchgängig von Rand zu Rand des Keramik-Substrates, sondern weisen gezielt Unterbrechungen auf. Hierdurch kann ebenfalls die Vereinzelung gesteuert werden. - A -
In einer Ausgestaltung weist das Keramik-Substrat die Form von Stäbchen, beispielsweise mit zylinderförmiger oder rechteckiger oder n-eckiger Struktur oder Profile mit beispielsweise U- oder H- oder L-Form auf. Das Keramik-Substrat ist dadurch in allen vorteilhaften Geometrien herstellbar.
Es sei auch betont, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien auch aus einer Vielzahl an hintereinander angeordneten Trenn- oder Sollbruchstellen bestehen können, die hierdurch eine Trennoder Sollbruchlinie bilden. Werden die Trenn- und/oder Sollbruchlinien mit einem Laser eingebracht, so bestehen sie immer aus einer Vielzahl an Einschüssen, die in ihrer Gesamtheit eine „Linie" bilden.
In einer erfinderischen Ausgestaltung sind die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nahezu unsichtbar für das menschliche Auge und es sind keine Deformationen der Oberfläche, sowie Kontaminationen entlang der Trenn- oder Sollbruchlinie zu erkennen.
Ein bevorzugtes Keramik-Substrat ist dadurch gekennzeichnet, dass auf das mit Trenn- und/oder Sollbruchlinien versehene Keramik-Substrat geeignete, einen Widerstand definierende, aus min- destens einer Komponente bestehenden Materialbereiche und/oder Bauelemente aufgebracht sind, und durch Abbrechen entlang der Trenn- und/oder Sollbruchlinien einzelne Bauteile und / oder Bauteilgruppen entstehen, welche in nachgeschalteten Verfahren Chip-Resistoren ergeben.
Bei einer bevorzugten Verwendung eines Keramik-Substrats zur Herstellung eines Chip- Resistor-Substrats, werden auf das mit Trenn- und/oder Sollbruchlinien versehene Keramik- Substrat geeignete, einen Widerstand definierende, aus mindestens einer Komponente bestehende Material bereiche und/oder Bauelemente aufgebracht und durch Abbrechen entlang der Trenn- und/oder Sollbruchlinien entstehen einzelne oder mehrere zusammenhängende Bauteile und / oder Bauteilgruppen, welche in nachgeschalteten Verfahren Chip-Resistoren ergeben.
Die so hergestellten Bauteile und / oder Bauteilgruppen, welche in nachgeschalteten Verfahren zu Chip-Resistoren verarbeitet werden können, sind durch eine verwerfungsfreie Oberfläche und/oder nahezu glatte Bruchkanten gekennzeichnet.
Auf dem Keramik-Substrat ist in einer Ausführungsform auf mindestens einer Seite mindestens eine Sollbruchlinie und/oder Lochung im ungesinterten Zustand durch Materialverdrängung, beispielsweise Stanzen oder Prägen oder Pressen, eingebracht worden. Auf dem Keramik-Substrat ist in einer anderen Ausführungsform auf mindestens einer Seite im gesinterten Zustand mindestens eine Sollbruchlinie und/oder Lochung, beispielsweise durch Laserbohren oder Laserritzen oder Wasserstrahlschneiden oder Bohren eingebracht worden.
Die Sollbruchlinie und/oder Lochung kann sowohl im ungesinterten als auch im gesinterten Zustand mit den genannten Verfahren eingebracht werden.

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zum gezielten Einbringen von Trenn- und/oder Sollbruchlinien in Keramik- Substrate zur späteren Vereinzelung, bei dem zunächst in einem thermischen Behandlungsoder Verfahrensschritt die zu schaffende Trenn- und/oder Sollbruchlinie lokal erhitzt und dann mit einem Kühlmedium schockartig derart abgekühlt wird, dass im Keramik-Substrat durch diesen Temperaturwechsel eine gezielte Rissbildung oder Materialschwächung entlang der Trenn- und/oder Sollbruchlinie erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien in der Oberfläche des fertig gesinterten Keramik-Substrates eingebracht werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass für das Keramik-Substrat eine dreidimensionale Struktur verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass für das Keramiksubstrat eine flächige Struktur verwendet wird, bevorzugt mit Längen und Breiten von 1 bis 30 cm und Dicken kleiner 2 mm.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Energieeinbringung während des thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritts so gesteuert wird, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien eine gleiche oder unterschiedliche Risstiefe aufweisen.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien auf mindestens zwei Seiten des Keramik-Substrates eingebracht werden.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Energieeinbringung während des thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritts so gesteuert wird, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nicht durchgängig von Rand zu Rand des Keramik- Substrates verlaufen, sondern auch gezielt Unterbrechungen aufweisen.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass für das Keramik-Substrat Stäbchen, beispielsweise mit zylinderförmiger oder rechteckiger oder n-eckiger Struktur oder Profile mit beispielsweise U- oder H- oder L-Form verwendet werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Energieeinbringung während des thermischen Behandlungs- oder Verfahrensschritts so gesteuert wird, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nahezu unsichtbar für das menschliche Auge sind und keine Deformation der Oberfläche, sowie Kontaminationen entlang der Trenn- oder SoII- bruchlinie zu erkennen sind.
9. Keramik-Substrat hergestellt mit dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Keramik-Substrat eine auf der gesamten Oberfläche, fertig gesinterte Keramik ist, auf deren Oberfläche Trenn- und/oder Sollbruchlinien zur Vereinzelung angeordnet sind.
10. Keramik-Substrat nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Keramik-Substrat eine dreidimensionale Struktur aufweist.
11. Keramik-Substrat nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien eine gleiche oder unterschiedliche Risstiefe aufweisen.
12. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 9 bis 11 , dadurch gekennzeichnet, dass Trenn- und/oder Sollbruchlinien auf mehreren Seiten des Keramik-Substrats angeordnet sind.
13. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 9 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nicht durchgängig von Rand zu Rand des Keramik- Substrates verlaufen, sondern gezielt Unterbrechungen aufweisen.
14. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 9 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass das Keramik-Substrat die Form von Stäbchen, beispielsweise mit zylinderförmiger oder rechteckiger oder n-eckiger Struktur oder Profile mit beispielsweise U- oder H- oder L-Form aufweist.
15. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 9 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Trenn- und/oder Sollbruchlinien nahezu unsichtbar für das menschliche Auge sind und keine Deformationen der Oberfläche, sowie Kontaminationen entlang der Trenn- oder Sollbruchlinie zu erkennen sind.
16. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 9 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass auf das mit Trenn- und/oder Sollbruchlinien versehene Keramik-Substrat geeignete, einen Widerstand definierende, aus mindestens einer Komponente bestehenden Materialbereiche und/oder Bauelemente aufgebracht sind, und durch Abbrechen entlang der Trenn- und/oder Sollbruchlinien einzelne Bauteile und / oder Bauteilgruppen entstehen, welche in nachgeschalteten Verfahren Chip-Resistoren ergeben.
17. Verwendung eines Keramik-Substrats nach einem der Ansprüche 9 bis 15, zur Herstellung eines Chip-Resistor-Substrats, wobei auf das mit Trenn- und/oder Sollbruchlinien versehene
Keramik-Substrat geeignete, einen Widerstand definierende aus mindestens einer Komponente bestehenden Materialbereiche und/oder Bauelemente aufgebracht werden, und durch Abbrechen entlang der Trenn- und/oder Sollbruchlinien einzelne oder mehrere zusammenhängende Bauteile und / oder Bauteilgruppen entstehen, welche in nachgeschalteten Verfah- ren Chip-Resistoren ergeben.
18. Bauteile und / oder Bauteilgruppen, welche in nachgeschalteten Verfahren zu Chip- Resistoren verarbeitet werden nach Anspruch 16 oder 17, gekennzeichnet durch eine verwerfungsfreie Oberfläche und/oder nahezu glatten Bruchkanten.
19. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass auf mindestens einer Seite mindestens eine Sollbruchlinie und/oder Lochung im ungesinterten
Zustand durch Materialverdrängung, beispielsweise Stanzen oder Prägen oder Pressen, eingebracht worden ist.
20. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 19, dadurch gekennzeichnet, dass auf mindestens einer Seite im gesinterten Zustand mindestens eine Sollbruchlinie und oder Lo- chung beispielsweise durch Laserbohren oder Laserritzen oder Wasserstrahlschneiden oder
Bohren eingebracht worden ist.
21. Keramik-Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 20, dadurch gekennzeichnet dass, auf einem Keramiksubstrat auch die Kombination der Merkmale von Anspruch 19 und Anspruch 20 vorkommen kann.
EP08736308A 2007-04-25 2008-04-17 Chip-resistor-substrat Ceased EP2151149A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007019875 2007-04-25
PCT/EP2008/054638 WO2008132055A1 (de) 2007-04-25 2008-04-17 Chip-resistor-substrat

Publications (1)

Publication Number Publication Date
EP2151149A1 true EP2151149A1 (de) 2010-02-10

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ID=39731440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP08736308A Ceased EP2151149A1 (de) 2007-04-25 2008-04-17 Chip-resistor-substrat

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8496866B2 (de)
EP (1) EP2151149A1 (de)
JP (1) JP5637845B2 (de)
KR (1) KR101534124B1 (de)
CN (1) CN101690428B (de)
DE (1) DE102008001229A1 (de)
WO (1) WO2008132055A1 (de)

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