JP5631907B2 - 硝子質状のシリカ内層を有する溶融シリカ本体とその製造方法 - Google Patents
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Description
連邦支援の調査に関する記述
本発明の開示は、政府契約番号(Government contract number)5BRS290608700号に関する。米国政府は、本発明にある一定の権利を有する。
以下に、本願出願時の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
[1] 内面の少なくとも一部に隣接する硝子質状シリカの層を具備している溶融シリカ本体。
[2] 硝子質状シリカの前記層は自律的に前記本体の残りに融着されている前記[1]記載の本体。
[3] 硝子質状シリカの前記層は実質的に湿度に対して阻止する前記[1]記載の本体。
[4] 硝子質状シリカの前記層は論理的な最大密度に近い密度を有している前記[1]記載の本体。
[5] 前記内面は凹面状の空洞を規定する前記[1]記載の本体。
[6] 硝子質状シリカの前記層は実質的に前記本体の全ての前記内面にわたって延在している前記[1]記載の本体。
[7] 硝子質状シリカの前記層の前記厚さは約5000分の1インチ(0.000508cm)乃至約2万分の1インチ(0.000127cm)の範囲である前記[1]記載の本体。
[8] 前記本体は前記内面と連通する表面と、前記連通する表面の少なくとも一部に隣接する硝子質状シリカの層とを具備している前記[1]記載の本体。
[9] 前記本体はラドームとして使用するように構成されている前記[1]記載の本体。
[10] 前記本体は物質を混合するための容器として使用するように構成されている前記[1]記載の本体。
[11] 前記本体はスリップキャストにより形成されている前記[1]記載の本体。
[12] 内面の少なくとも一部に隣接する硝子質状のシリカの層を具備する溶融シリカ本体の製造方法において、前記内面の少なくとも一部を硝子質化点まで加熱するステップを含んでいる製造方法。
[13] 一時に前記内面の比較的小部分を加熱するように構成された熱源を前記内面の少なくとも一部の上方を通過させるステップを含んでいる前記[12]記載の方法。
[14] 前記熱源から発生する前記熱は2600℃乃至3200℃の範囲である前記[13]記載の方法。
[15] 前記熱源を実質的に一定のスタンドオフ距離で前記表面の上方を通過させるステップを含んでいる前記[13]記載の方法。
[16] 前記熱源から発生する熱のパターンは一つの方向で他の方向よりも長く、前記長い方向は前記表面に関する前記熱源の相対的な移動方向に対して直交して位置されている前記[13]記載の方法。
[17] 前記熱源の通過により粘性にされた前記表面の一部は前記熱源の以前の通過により先に粘性にされた部分とオーバーラップする前記[16]記載の方法。
[18] 前記オーバーラップの幅は前記熱源の前記前回の通過により先に粘性にされた前記部分の幅の約半分である前記[17]記載の方法。
[19] 前記熱源から発生する熱は実質的に前記表面に関する前記熱源の相対的な移動方向で方向変化される前記[13]記載の方法。
[20] 前記熱源は前記内面に関して螺旋状に移動される前記[13]記載の方法。
[21] 前記螺旋状の移動は前記本体の回転と前記熱源の線形移動により行われる前記[20]記載の方法。
[22] 前記本体の前記回転速度は変化する前記[21]記載の方法。
[23] 前記螺旋状の移動は前記本体の回転軸に関して内方向または外方向の前記熱源の移動を含んでおり、それによって前記熱源と前記内面の部分との間に、前記回転軸から可変の距離を有する実質的に一定のスタンドオフ距離を維持する前記[21]記載の方法。
[24] 前記本体の実質的な部分を硝子質化を生じる温度よりも低い温度へ加熱するバイアス加熱を含んでいる前記[13]記載の方法。
[25] 前記バイアス加熱は前記本体の前記実質的な部分の前記温度を約600℃乃至約1000℃の範囲の温度に上昇させる前記[24]記載の方法。
[26] 前記本体をアニールするステップを含んでいる前記[12]記載の方法。
Claims (13)
- 硝子質化された部分と硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分とを具備し、前記硝子質化された部分は、前記溶融シリカ本体の内面を自律的に硝子質化することによって形成され、前記硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分上に硝子質状溶融シリカの層が形成される、溶融シリカ本体であって、
ここにおいて、前記硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分は最大シリカ密度の約90%の密度を有し、
前記形成された硝子質状溶融シリカの層は前記最大シリカ密度に実質的に等しく、
前記溶融シリカ本体の厚さは約4分の1インチ(0.635cm)であり、
前記形成された硝子質状溶融シリカの層の厚さは5000分の1インチ(0.000508cm)乃至2万分の1インチ(0.000127cm)である、溶融シリカ本体。 - 前記形成された硝子質状溶融シリカの層は実質的に湿気を通さない請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記最大シリカ密度は約2.13gm/ccであり、前記硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分の密度は約1.92gm/ccである請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記内面は凹面状の空洞を規定する請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記形成された硝子質状溶融シリカの層は実質的に前記溶融シリカ本体の全ての前記内面にわたって延在している請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記溶融シリカ本体は前記内面と連通する表面と、前記連通する表面の少なくとも一部に隣接する前記形成された硝子質状溶融シリカの層とをさらに具備している請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記溶融シリカ本体はラドームとして使用するように構成されている請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記溶融シリカ本体は物質を混合するための容器として使用するように構成されている請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 前記溶融シリカ本体はスリップキャストにより形成されている請求項1記載の溶融シリカ本体。
- 硝子質化された部分と硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分とを具備し、前記硝子質化された部分は、前記溶融シリカ本体の内面を自律的に硝子質化することによって形成され、前記硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分上に硝子質状溶融シリカの層が形成される、溶融シリカ本体であって、
ここにおいて、硝子質化された部分と硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分との間には密度勾配が存在し、
また、ここにおいて、前記硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分は最大シリカ密度の約90%の密度を有し、
前記形成された硝子質状溶融シリカの層は前記最大シリカ密度に実質的に等しく、
前記溶融シリカ本体の厚さは約4分の1インチ(0.635cm)であり、
前記形成された硝子質状溶融シリカの層の厚さは5000分の1インチ(0.000508cm)乃至2万分の1インチ(0.000127cm)である、溶融シリカ本体。 - 前記密度勾配は、前記硝子質化されていない溶融シリカ本体の残りの部分中の変更のない溶融シリカから、前記硝子質状溶融シリカへ転移する、請求項10記載の溶融シリカ本体。
- 前記密度勾配は、前記形成された硝子質状溶融シリカの層の方向に増加する、請求項10記載の溶融シリカ本体。
- 前記密度勾配は、3万分の1インチ(0.0000845cm)から6万分の1インチ(0.0000423cm)の厚さを有する、請求項10記載の溶融シリカ本体。
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