JP5598467B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。

従来、液晶表示装置は、透明電極、液晶層、カラーフィルター等をガラス板で挟み込んだ液晶セルと、その両側に設けられた２枚の偏光板とで構成されており、それぞれの偏光板は、偏光子（偏光膜、偏光フィルムともいう）を２枚の光学フィルム（偏光板保護フィルムまたは光学補償フィルム）で挟んだ構成となっている。そして、このような液晶表示装置においては、液晶駆動方式としてＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードや、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど様々な方式が開発されており、これらの中でもＶＡモードは表示速度が速く、正面コントラストに優れるため、大画面液晶ＴＶなどに多く採用されている。

ここで、ＶＡモードの液晶表示装置では、電圧無印加時に液晶材料の長軸が基板面に対して垂直に配向するため、基板に対して垂直な方向から見た場合にほぼ完全な黒表示が可能となり、高コントラストが実現できる、という特長を有している。

一方、液晶材料が垂直配向されていると、斜め方向から見た場合に、光漏れによって黒表示に着色が生じたり、コントラストが低下したりするという問題がある。この問題には原因が主に２つあり、ひとつには、液晶セルに用いられている液晶層自体が厚み方向に位相差（リタデーションともいう）を有していることに起因する。また、ひとつには、液晶セルを挟んだ２枚の偏光子はクロスニコルに（透過軸が直交するように）配されているところ、これら偏光子の透過軸は正面から見ると直交するが、斜めから見ると見かけ上、９０度からずれることに起因する。

このような問題に対し、屈折率ｎｘ，ｎｙ，ｎｚ（但し、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚは厚さ方向の屈折率）をｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚとした２枚の二軸性フィルムを液晶セルの両側に配設して視野角拡大を図る技術が提案されている。但し、この構成では、同種のフィルムを２枚使用する分、コストメリットはあるものの、十分な視野角拡大の効果を得ることはできなかった。

そこで、近年、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚとしたネガティブＣプレートと呼ばれるフィルムと、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙとしたＺプレートと呼ばれるフィルムとを偏光板に配設して、更に視野角拡大を図る技術が開発されている（例えば、特許文献１、２参照。）
しかしながら、上記特許文献１、２記載の技術では視野角の拡大は図れるものの、近年特に重要視されている他の光学性能、具体的には正面コントラストと、斜め方向から見た場合のカラーシフトについては何ら考慮されておらず、更なる改善が望まれている。

特開２０００−３９６１０号公報 特開２００７−１４８０１６号公報

本発明の目的は、視野角を拡大し、正面コントラストを向上させ、斜め方向から見た場合のカラーシフトを防止することのできる液晶表示装置を提供することである。

上記の課題について本発明者等が鋭意研究したところ、従来のＺプレートはポリカーボネートやシクロオレフィン等の熱収縮で作成しているため、正波長分散（ＤＳＰ＞１）を持つものしか作成できなかったものの、逆波長分散（ＤＳＰ＜１）のセルロースを用いれば、逆波長分散のＺプレートを作成できることが分かった。そして、上記特許文献２では、波長分散値ＤＳＰに関してＣプレートが逆波長分散、Ｚプレートが正波長分散であることが好ましいと記載されているものの、本発明者等が鋭意研究したところ、逆波長分散のＺプレートと正波長分散のＣプレートとで液晶セルを挟んだ場合等には、斜め方向から見た場合のカラーシフトを低減でき、視野角及び正面コントラストを向上できることを見出した。更に、逆波長分散のＺプレートを用いる場合であっても、このＺプレートを単層で構成する場合には、視野角拡大効果を出す為にレターデーション値ＲｏをＲｏ≒２７５とする非常に大きな位相差をＺプレートに付与する必要が生じるため、Ｚプレートが面内の僅かな光軸のばらつきの影響を増幅してしまい、正面コントラスト低下の原因となってしまうところ、Ｚプレートを二軸性フィルムとポジティブＣプレートとして機能する液晶層との積層構成とする場合には、レターデーション値Ｒｏ＝５０〜１００という２分の１以下の位相差をＺプレート全体に付与すれば視野角拡大効果を出すことができ、かつ、位相差ムラを低減し、正面コントラストを高いまま維持できることを見出した。

以上の点に鑑み、本発明の第１の側面によれば、液晶表示装置において、
少なくとも第１の偏光子と、第１の光学補償層と、液晶セルと、第２の光学補償層と、
第２の偏光子とをこの順に有し、
前記第１及び第２の光学補償層は、下記式（１）〜（３）を満たし、
前記液晶セル中の液晶分子は、電圧無印加時に当該液晶セルの厚さ方向に配向することを特徴とする。

ｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１ （１）
ｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２ （２）
ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２） （３）
（但し、ｎｘ１は前記第１の光学補償層の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ１は前記第１の光学補償層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚ１は前記第１の光学補償層の厚み方向の屈折率をそれぞれ表し、ｎｘ２は前記第２の光学補償層の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ２は前記第２の光学補償層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚ２は前記第２の光学補償層の厚み方向の屈折率をそれぞれ表す。Ｒｏ１は以下の式（８−１）で表される前記第１の光学補償層の面内レターデーション値を表し、Ｒｔｈ２は以下の式（９−２）で表される前記第２の光学補償層の厚み方向のレターデーション値を表す。ＤＳＰ（Ｒｏ１）は、前記第１の光学補償層の面内レターデーション値Ｒｏ１の波長分散値であり、波長４８０ｎｍで測定した前記第１の光学補償層の面内レターデーション値Ｒｏ１を、波長６３０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｏ１で割った値である。ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）は前記第２の光学補償層の厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈ２の波長分散値であり、波長４８０ｎｍで測定した前記第２の光学補償層のレターデーション値Ｒｔｈ２を、波長６３０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｔｈ２で割った値である。

Ｒｏ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１ （８−１）
Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２） （９−２）
但し、ｄ１は前記第１の光学補償層の厚み（ｎｍ）を表し、ｄ２は前記第２の光学補償層の厚み（ｎｍ）を表し、Ｒｏ１及びＲｔｈ２はそれぞれ波長５９０ｎｍで測定した値である。）
本発明の液晶表示装置においては、
前記第１の光学補償層は、セルロース系樹脂層を含むことが好ましい。

また、本発明の液晶表示装置においては、
前記第１の光学補償層は、下記式（４），（５）を満たし、
前記第２の光学補償層は、下記式（６），（７）を満たすことが好ましい。

Ｒｏ１＝５０〜１００［ｎｍ］ （４）
｜Ｒｔｈ１｜＝０〜２０［ｎｍ］ （５）
Ｒｏ２＝０〜２０［ｎｍ］ （６）
Ｒｔｈ２＝２００〜３５０［ｎｍ］ （７）
（但し、Ｒｔｈ１は以下の式（９−１）で表される前記第１の光学補償層の厚み方向のレターデーション値を表し、Ｒｏ２は以下の式（８−２）で表される前記第２の光学補償層の面内レターデーション値を表し、Ｒｏ２及びＲｔｈ１はそれぞれ波長５９０ｎｍで測定した値である。

Ｒｏ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２ （８−２）
Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１） （９−１）
また、本発明の液晶表示装置においては、
前記第１の光学補償層は、セルロース系樹脂層と、液晶層とを少なくとも含み、
前記セルロース系樹脂層は、
前記液晶層よりも前記第１の偏光子側に配設されており、
面内位相差を有するとともに、前記第１の偏光子の吸収軸に対して遅相軸が直交することが好ましい。

また、本発明の液晶表示装置においては、
前記第１の光学補償層は、セルロース系樹脂層と、液晶層とを少なくとも含み、
前記セルロース系樹脂層は、
前記液晶層よりも前記液晶セル側に配設されており、
面内位相差を有するとともに、前記第１の偏光子の吸収軸に対して遅相軸が平行であることとしても良い。

また、本発明の液晶表示装置においては、
前記第２の光学補償層は、
ＤＳＰ値上昇剤を含有するセルロース系樹脂層からなることが好ましい。

本発明によれば、液晶セル中の液晶分子は電圧無印加時に当該液晶セルの厚さ方向に配向し、第１及び第２の光学補償層はｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１、ｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２、ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）を満たすので、視野角を拡大し、正面コントラストを向上させ、斜め方向から見た場合のカラーシフトを防止することができる（実施例参照）。

本発明に係る液晶表示装置の概略構成を示す概念図である。 本発明に係る液晶表示装置の変形例の概略構成を示す概念図である。

以下、図を参照して本発明の実施の形態を説明する。
［第１の実施の形態］
図１（ａ）は、第１の実施の形態における液晶表示装置１の一例を示す概念図である。

この図に示すように、液晶表示装置１は、ＶＡモードの液晶表示装置であり、視認側からバックライト側に向かって第１の偏光子２と、第１の光学補償層３と、液晶セル４と、第２の光学補償層５と、第２の偏光子６とを、この順に積層された状態で有している。より詳細には、第１，第２の偏光子２，６及び第１の光学補償層３は、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、第１の光学補償層３の遅相軸３Ｊとが直交し、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが直交し、第１の光学補償層３の遅相軸３Ｊと第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが平行となるように配設されている。なお、図１では、バックライトを図中の下側として図示しているが、上側としても良い。また、本明細書において、「平行」、「直交」とは、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味する。この範囲は厳密な角度との誤差は、±５°未満であることが好ましく、±２°未満であることがより好ましい。また、本明細書において遅相軸とは、屈折率が最大となる方向を意味する。
（１）液晶セル
このうち、液晶セル４は、液晶層４０を２枚のガラス基板４１で挟んで形成されている。

液晶層４０は棒状の液晶分子から構成されており、各液晶分子は電圧無印加時に液晶セル４の厚さ方向に配向するようになっている。ここで、液晶分子が電圧無印加時に液晶セル４の厚さ方向に配向するとは、ガラス基板４１の垂直方向に配向することと同義であり、液晶セル４がＶＡモードであることを意味する。このようなＶＡモードの液晶セル４における棒状液晶のレターデーション値Ｒｔｈは負であり、その波長分散は正である。

液晶層４０の液晶材料としては、誘電異方性が負で、屈折率異方性Δｎ＝０．０８１５、誘電率異方性Δε＝−４．５程度のネマチック液晶材料などを用いることができる。液晶層４０の厚さｄについては特に制限されないが、上述のネマチック液晶材料を用いる場合には、３．５μｍ程度に設定することができる。但し、白表示時の明るさは厚さｄと屈折率異方性Δｎの積Δｎ・ｄの大きさにより変化するので、最大の明るさを得るためには、Δｎ・ｄは０．２〜０．５μｍの範囲になるように設定するのが好ましい。

なお、ＶＡモードの液晶表示装置では、ＴＮモードの液晶表示装置で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性を劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加しても良い。

また、マルチドメイン構造とする場合には、各ドメイン間の境界領域の液晶分子の配向を調整するのに有利である。

ここで、マルチドメイン構造とは、液晶表示装置の一画素を複数の領域に分割した構造をいう。例えば、ＶＡモードにおいて、白表示時には液晶分子が傾斜しているので、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じるが、マルチドメイン構造にすると、輝度や色調の視野角特性が改善されるので好ましい。具体的には、画素のそれぞれを液晶分子の初期配向状態が互いに異なる２以上（好ましくは４又は８）の領域で構成して平均化することで、視野角に依存した輝度や色調の偏りを低減することができる。また、それぞれの画素を、電圧印加状態において液晶分子の配向方向が連続的に変化する互いに異なる２以上の領域から構成しても同様の効果が得られる。一画素内で液晶分子の配向方向が異なる領域を複数形成するには、例えば、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり、電界密度に偏りを持たせる等の方法を利用することができる。全方向で均等な視野角を得るにはこの分割数を多くすればよいが、４分割あるいは８分割以上とすることで、ほぼ均等な視野角が得られる。特に８分割時は偏光板吸収軸を任意の角度に設定できるので好ましい。各ドメインの領域境界では、液晶分子が応答し難い傾向がある。ＶＡモード等のノーマリーブラックモードでは、黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。そこで液晶材料にカイラル剤を添加してドメイン間の境界領域を小さくすることが可能である。一方、ノーマリーホワイトモードでは白表示状態が維持されるため、正面コントラストが低下する。そこで、その領域を覆うブラックマトリックスなどの遮光層を設けるとよい。
（２）第１，第２の偏光子
第１，第２の偏光子２，６は、一定方向の偏波面の光だけを通す光学素子であり、従来から公知の一般的な方法で作製されている。ここで、現在知られている代表的な偏光子としては、ポリビニルアルコール系偏光フィルムがあり、より詳細には、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものとがある。このような偏光子としては、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。

通常、偏光子は保護層としてＴＡＣフィルム等によって両側を挟持されている。ＴＡＣフィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、上記ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には該ＴＡＣフィルムを用いても、別の偏光板保護機能を有するフィルムを用いてもよい。市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＦＲ、以上コニカミノルタオプト（株）製）も好ましく用いられる。

本発明の構成において、第１，第２の偏光子２，６は、それぞれ２枚のＴＡＣフィルムにより挟持され、接着剤層を介して第１，第２の光学補償層３，５に張り合わされていても良いが、薄膜化、部材削減、光学補償の観点からは、ＴＡＣフィルムを介さずに直接、光学補償層３，５に張り合わされることが好ましい。
（３）第１，第２の光学補償層
第１及び第２の光学補償層３，５は、下記式（１）〜（３）を満たし、取り扱いの観点からフィルム状であることが好ましい（以下、光学補償フィルム３，５とも称する）。更に好ましくは更に下記式（４）〜（７）を満たすようになっている。

ｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１ （１）
ｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２ （２）
ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２） （３）
Ｒｏ１＝５０〜１００［ｎｍ］ （４）
｜Ｒｔｈ１｜＝０〜２０［ｎｍ］ （５）
Ｒｏ２＝０〜２０［ｎｍ］ （６）
Ｒｔｈ２＝２００〜３５０［ｎｍ］ （７）
ここで、「ｎｘ」は光学補償層の面内の遅相軸方向の屈折率、「ｎｙ」は光学補償層の面内の進相軸方向の屈折率、「ｎｚ」は光学補償層の厚み方向の屈折率をそれぞれ表し、「Ｒｏ」，「Ｒｔｈ」は下記式（８），（９）で求められるレターデーション値である。また、各式中、添え字の「１」，「２」は、第１の光学補償層３，第２の光学補償層５についての値であることを示す。なお、これらの値は、波長５９０ｎｍで測定した値である。また、各屈折率の値は、例えばＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））やＡｘｏ ｓｃａｎ（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で求めることができる。

Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （８）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ） （９）
なお、これらの式（８）、（９）によれば、屈折率がｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙの場合には、Ｒｏ＞０、かつ−Ｒｏ／２＜Ｒｔｈ＜Ｒｏ／２を満たし、逆にＲｏ＞０、かつ−Ｒｏ／２＜Ｒｔｈ＜Ｒｏ／２の場合には、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満たすことが分かる。また、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの場合には、Ｒｏ≧０かつ、Ｒｔｈ＞Ｒｏ／２を満たし、逆にＲｏ≧０かつ、Ｒｔｈ＞Ｒｏ／２の場合には、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚを満たすことがわかる。

また、上述の式（３）における「ＤＳＰ（Ｒｏ１）」は、第１の光学補償層３の面内位相差の波長分散値であり、具体的には、波長４８０ｎｍで測定した第１の光学補償層３のレターデーション値Ｒｏを、波長６３０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｏで割った値である。また、「ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）」は第２の光学補償層５の厚み方向位相差の波長分散値であり、具体的には、波長４８０ｎｍで測定した第２の光学補償層５のレターデーション値Ｒｔｈを、波長６３０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｔｈで割った値である。これらの波長分散値ＤＳＰは、正の波長分散の場合にはＤＳＰ＞１となり、負（逆）の波長分散の場合にはＤＳＰ＜１となる。
（３．１）第１の光学補償層
第１の光学補償層３は、上述のようにｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１、ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１を満たしており、いわゆる逆波長分散のＺプレートとなっている。また、この第１の光学補償層３は、好ましくは面内のレターデーション値Ｒｏ１が５０〜１００ｎｍであって、厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈ１の絶対値が０ｎｍ〜２０ｎｍとなっている。

ここで、第１の光学補償層３にｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１、ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１の性能を付与するには、後述するように、逆波長分散性を有するセルロース系樹脂フィルムに収縮性フィルムを貼りあわせ、延伸しながら収縮させることが好ましい。また、この樹脂を延伸した二軸性フィルムを基材とし、その上に液晶層を塗布して乾燥、固定化することも好ましい。これらは図２の説明とともに詳述する。

第１の光学補償層３は、その形態に制限はないがフィルムであることが好ましい。フィルムの厚さｄは４０〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは４０〜７０μｍである。
（３．１．１）第１の光学補償層に使用されるセルロース系樹脂
第１の光学補償層３に用いられるセルロースエステルとしては特に限定はないが、好ましくはセルロースエステルとして炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特に好ましくは炭素数が６以下の低級脂肪酸エステルである。また、特開２００８−１９７５６１号公報に開示されるような、ε−カプロラクトンをセルロースエステル樹脂にグラフト重合したセルロースエステル樹脂を使用しても良い。

水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数２〜６のアシル基の中で選択することが好ましい。前記セルロースエステルとしての炭素数が２〜４であることが好ましく、炭素数が２〜３であることがより好ましい。

具体的には、セルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることができる。

尚、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。本発明において好ましく用いられるセルロースエステルとしては、特にセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレートが好ましく用いられる。

本発明に好ましいセルロースアセテートフタレート以外のセルロースエステルとしては、下記式（１０１）および（１０２）を同時に満足するものが好ましい。

式（１０１） ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（１０２） ０≦Ｙ≦１．５
式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはその混合物の置換度である。

また、目的に叶う光学特性を得るために置換度の異なる樹脂を混合して用いても良い。混合比としては１０：９０〜９０：１０（質量比）が好ましい。

この中で特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートでは、１．０≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦１．５、２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０であることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

本発明に用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に７００００〜２０００００のものが好ましく用いられる。

セルロースエステルの重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定することができる。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用する）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

本発明に用いられるセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。

本発明のセルロースアセテートフタレート等のセルロースエステルは、公知の方法により製造することができる。具体的には特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参考にして合成することができる。
（３．２）第２の光学補償層
第２の光学補償層５は、上述のようにｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２、１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）を満たしており、いわゆる正波長分散のネガティブＣプレートとなっている。また、この第２の光学補償層５は、好ましくはＲｏ２＝０〜２０、Ｒｔｈ２＝２００〜３５０となっている。

ここで、第２の光学補償層５のレターデーション値を上記の数値範囲とするためには、二軸延伸処理を行うことが好ましい。また、この第２の光学補償層５がセルロースエステルを含有する場合は、加熱処理して延伸する処理において、残留歪を出来るだけ少なくするために、セルロースエステルのガラス転移点±１０℃程度の範囲で１．１倍〜１．５倍程度に搬送方向（長さ方向）と、その直交方向（幅方向）とに延伸するか、溶液流延にて作製したフィルムを、残留溶媒量が２〜１００質量％程度残った状態で、搬送方向と、その直交方向とに１．１〜１．７倍程度に延伸することが好ましい。

この第２の光学補償層５においては、面内のムラを制御することが好ましい。そのためには、延伸温度と延伸倍率のバランスを精密にコントロールし、延伸部分（テンターのクリップなど）を光学補償層５の両側で独立に制御することが好ましい。このような制御は、クリップ位置を調整するとともに、クリップの応力に対して延伸温度と延伸倍率とを調整することで達成できる。

第２の光学補償層５は、その形態に制限はないがフィルムであることが好ましい。フィルムの厚さは４０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１２０μｍである。
（３．２．１）第２の光学補償層に使用されるセルロース系樹脂
第２の光学補償層５に用いられるセルロースエステルとしては特に限定はなく、上記第１の光学補償層３に使用可能なセルロースエステルのうち、ε−カプロラクトンをセルロースエステル樹脂にグラフト重合したセルロースエステル樹脂以外の樹脂を用いることができる。
（３．２．２）ＤＳＰ値上昇剤
この第２の光学補償層５には、レターデーション値を上記の数値範囲とし、本発明の効果を得る上でＤＳＰ値上昇剤を用いることが好ましい。

ＤＳＰ上昇剤とは、１％添加によりＤＳＰ（Ｒｔｈ）が０．００１以上、好ましくは０．００２以上上昇する化合物をいう。

ＤＳＰ上昇剤としては、例えば特開２００７−２４９１８０号公報に開示される下記一般式（II）のトリアジン系化合物を用いることができる。
一般式（II）

（一般式（II）中、Ｒ^１２は、各々独立に、オルト位、メタ位およびパラ位の少なくともいずれかに置換基を有する芳香族環または複素環を表す。Ｘ^１１は、各々独立に、単結合または−ＮＲ^１３−を表す。ここで、Ｒ^１３は、各々独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基を表す。）
また、ＤＳＰ上昇剤としては、円盤状化合物を用いても良い。

円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。

本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。

芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。

芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が含まれる。

芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合物が円盤状化合物として好ましく用いられる。

前記円盤状化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、２〜６であることが最も好ましい。

二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。

（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。

（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。

（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−ｃ３：−アルキレン−Ｏ−ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−ｃ１０：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−ｃ１１：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ｃ１２：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−ｃ１３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−ｃ１４：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−ｃ１５：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。

置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。

アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヒドロキシエチル基、４−カルボキシブチル基、２−メトキシエチル基および２−ジエチルアミノエチル基が含まれる。

アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基および１−ヘキセニル基が含まれる。

アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、１−ブチニル基および１−ヘキシニル基が含まれる。

脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基およびブタノイル基が含まれる。

脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。

アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基およびメトキシエトキシ基が含まれる。

アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基およびエトキシカルボニル基が含まれる。

アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。

アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基およびオクチルチオ基が含まれる。

アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスルホニル基が含まれる。

脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミド基が含まれる。

脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基およびｎ−オクタンスルホンアミド基が含まれる。

脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基および２−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。

脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およびジエチルカルバモイル基が含まれる。

脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル基が含まれる。

脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。

非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリノ基が含まれる。

円盤状化合物からなるＤＳＰ上昇剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい。

本発明では前述の円盤状化合物の他に、直線的な分子構造を有する棒状化合物も好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト（例、ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００、富士通（株）製）を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が１４０度以上であることを意味する。

棒状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有するものが好ましく、少なくとも二つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式（１０３）で表される化合物が好ましい。

一般式（１０３）：Ａｒ^１−Ｌ^１−Ａｒ^２
上記一般式（１０３）において、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、芳香族基である。

本明細書において、芳香族基は、アリール基（芳香族性炭化水素基）、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基を含む。

アリール基および置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性へテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましい。芳香族性へテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原子がさらに好ましい。

芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環およびピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基（例、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基）、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基（例、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基（例、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基）、ウレイド基、アルキルウレイド基（例、Ｎ−メチルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルウレイド基）、アルキル基（例、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基）、アルケニル基（例、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基）、アルキニル基（例、エチニル基、ブチニル基）、アシル基（例、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基）、アシルオキシ基（例、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基）、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基）、アリールオキシ基（例、フェノキシ基）、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例、フェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニルアミノ基（例、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基）、アルキルチオ基（例、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基）、アリールチオ基（例、フェニルチオ基）、アルキルスルホニル基（例、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基）、アミド基（例、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基）および非芳香族性複素環基（例、モルホリル基、ピラジニル基）が含まれる。

置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル置換アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基およびアルキル基が好ましい。

アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、アルキルアミノ基、ニトロ、スルホ、カルバモイル、アルキルカルバモイル基、スルファモイル、アルキルスルファモイル基、ウレイド、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基およびアルコキシ基が好ましい。

一般式（１０３）において、Ｌ^１は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。

アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、１，４−シクロへキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。

アルキレン基の炭素原子数は、１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１５であり、さらに好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜８であり、最も好ましくは１〜６である。

アルケニレン基およびアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。

アルケニレン基およびアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは２〜１０であり、より好ましくは２〜８であり、さらに好ましくは２〜６であり、さらに好ましくは２〜４であり、最も好ましくは２（ビニレンまたはエチニレン）である。

アリーレン基は、炭素原子数は６〜２０であることが好ましく、より好ましくは６乃至１６であり、さらに好ましくは６〜１２である。

一般式（１０３）の分子構造において、Ｌ^１を挟んで、Ａｒ^１とＡｒ^２とが形成する角度は、１４０度以上であることが好ましい。

棒状化合物としては、下記式一般式（１０４）で表される化合物がさらに好ましい。

一般式（１０４）：Ａｒ^１−Ｌ^２−Ｘ−Ｌ^３−Ａｒ^２
上記一般式（１０４）において、Ａｒ^１およびＡｒ^２は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義および例は、一般式（１０３）のＡｒ^１およびＡｒ^２と同様である。

一般式（１０４）において、Ｌ^２およびＬ^３は、それぞれ独立に、アルキレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−およびそれらの組み合わせからなる基より選ばれる二価の連結基である。

アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。

アルキレン基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましく、より好ましくは１〜８であり、さらに好ましくは１〜６であり、さらに好ましくは１〜４であり、１または２（メチレンまたはエチレン）であることが最も好ましい。

Ｌ^２およびＬ^３は、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯ−Ｏ−であることが特に好ましい。

一般式（１０４）において、Ｘは、１，４−シクロへキシレン、ビニレンまたはエチニレンである。

一般式（１０３）又は（１０４）で表される化合物の具体例としては、特開２００４−１０９６５７号公報の〔化１〕〜〔化１１〕に記載の化合物が挙げられる。

その他、好ましい化合物を以下に示す。

溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長（λｍａｘ）が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。

棒状化合物は、文献記載の方法により合成できる。文献としては、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，５３巻、２２９ページ（１９７９年）、同８９巻、９３ページ（１９８２年）、同１４５巻、１１１ページ（１９８７年）、同１７０巻、４３ページ（１９８９年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１３巻、１３４９ページ（１９９１年）、同１１８巻、５３４６ページ（１９９６年）、同９２巻、１５８２ページ（１９７０年）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４０巻、４２０ページ（１９７５年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４８巻１６号、３４３７ページ（１９９２年）を挙げることができる。
（３．３）添加剤
以上の第１，第２の光学補償層３，５には、本発明の効果を得る上で必要に応じて添加剤を含有することができる。添加剤は特に限定されないが、好ましくは、芳香族末端ポリエステル系化合物、糖エステル化合物、（メタ）アクリル系化合物、多価カルボン酸エステル系化合物、グリコレート系化合物、フタル酸エステル系化合物、脂肪酸エステル系化合物及び多価アルコールエステル系化合物、ポリエステル系可塑剤、等から選択される。
（３．３．１）芳香族末端ポリエステル系化合物
本発明では、下記一般式（Ｉ）で表せる芳香族末端ポリエステル系化合物を使用することができる。

一般式（Ｉ） Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはアリールカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（Ｉ）中、Ｂで示されるアリールカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系化合物と同様の反応により得られる。

本発明で使用される芳香族末端ポリエステル系化合物のアリールカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。

本発明に用いることのできる芳香族末端ポリエステル系化合物の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。

特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。

また、上記芳香族末端ポリエステル系化合物の炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

芳香族末端ポリエステル系化合物の炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。

炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。

本発明で使用される芳香族末端ポリエステル系化合物は、ｎが１以上１００以下であることが好ましく、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。

また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。

本発明の一般式（Ｉ）に示す芳香族末端ポリエステル系化合物は、セルロースエステルに対して、０．５〜３０質量％含有させることが好ましい。

以下に、本発明に用いることのできる芳香族末端ポリエステル系化合物の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。

以下に説明する添加剤は適宜、本発明に係る第１及び第２の光学補償層に用いられる。
（３．３．２）糖エステル化合物
本発明の第１，第２の光学補償層３，５には、ピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１個以上１２個以下有しその構造のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化合物（糖エステル化合物）を含むこととしても良い。

エステル化の割合としては、ピラノース構造またはフラノース構造内に存在するＯＨ基の７０％以上であることが好ましい。

本発明においては、エステル化合物を総称して、糖エステル化合物とも称す。

本発明のエステル化合物の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース挙げられる。

この他、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。

これらの化合物の中で、特にピラノース構造とフラノース構造を両方有する化合物が好ましい。

例としてはスクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。

本発明のピラノース構造またはフラノース構造中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。

オリゴ糖のエステル化合物を、本発明におけるピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１〜１２個有する化合物として適用できる。

オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本発明に適用できるオリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。

また、前記エステル化合物は、下記一般式（Ａ）で表されるピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１個以上１２個以下縮合した化合物である。ただし、Ｒ_１１〜Ｒ_１５、Ｒ_２１〜Ｒ_２５は、炭素数２〜２２のアシル基または水素原子を、ｍ、ｎはそれぞれ０〜１２の整数、ｍ＋ｎは１〜１２の整数を表す。

Ｒ_１１〜Ｒ_１５、Ｒ_２１〜Ｒ_２５は、ベンゾイル基、水素原子であることが好ましい。ベンゾイル基は更に置換基Ｒ_２６（ｐは０〜５）を有していてもよく、例えばアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、フェニル基が挙げられ、更にこれらのアルキル基、アルケニル基、フェニル基は置換基を有していてもよい。オリゴ糖も本発明のエステル化合物と同様な方法で製造することができる。

以下に、本発明におけるエステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。

本発明のセルロースエステルフィルム（第１，第２の光学補償層３，５）は、位相差値の変動を抑制して、表示品位を安定化する為に、本発明の糖エステル化合物を、セルロースエステルフィルムの０．５〜３０質量％含むことが好ましく、特には、５〜３０質量％含むことが好ましい。
（３．３．３）（メタ）アクリル系化合物
本発明に用いられる（メタ）アクリル系化合物としては、光学補償フィルムに含有させた場合、機能として延伸方向に対して負の複屈折性を示すことが好ましく、特に構造が限定されるものではないが、エチレン性不飽和モノマーを重合して得られた重量平均分子量が５００以上３００００以下である重合体であることが好ましい。

（（メタ）アクリル系化合物の複屈折性試験法）
（メタ）アクリル系重合体（化合物）を溶媒に溶解しキャスト製膜した後、加熱乾燥し、透過率８０％以上のフィルムについて複屈折性の評価を行った。

アッベ屈折率計−４Ｔ（（株）アタゴ製）に多波長光源を用いて屈折率測定を行った。延伸方向の屈折率ｎｙ及び直交する面内方向の屈折率をｎｘとした。５５０ｎｍの各々の屈折率について（ｎｙ−ｎｘ）＜０であるフィルムについて、（メタ）アクリル系重合体は延伸方向に対して負の複屈折性であると判断する。

本発明に用いられる重量平均分子量が５００以上３００００以下である（メタ）アクリル系重合体は、芳香環を側鎖に有する（メタ）アクリル系重合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリル系重合体であってもよい。

該重合体の重量平均分子量が５００以上３００００以下のもので該重合体の組成を制御することにより、例えば光学補償フィルムが本発明において特に好ましいセルロースエステルフィルムである場合、該セルロースエステルと該重合体との相溶性を良好にすることができる。

芳香環を側鎖に有する（メタ）アクリル系重合体またはシクロヘキシル基を側鎖に有する（メタ）アクリル系重合体について、好ましくは重量平均分子量が５００以上１００００以下のものであれば、上記に加え、製膜後のセルロースエステルフィルムの透明性が優れ、透湿度も極めて低く、偏光板用保護フィルムとして優れた性能を示す。

該重合体は、重量平均分子量が５００以上３００００以下であるから、オリゴマーから低分子量重合体の間にあると考えられるものである。このような重合体を合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で、できるだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。

特に、本発明の光学補償フィルムに用いられる（メタ）アクリル系重合体としては、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂと、Ｘａ、Ｘｂを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量２０００以上３００００以下の重合体Ｘ、または、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａと、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下の重合体Ｙであることが好ましい。

［重合体Ｘ、重合体Ｙ］
本発明における光学補償フィルムのＲｏ及びＲｔｈを調整する方法としては、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂと、Ｘａ、Ｘｂを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量２０００以上３００００以下の高分子量の重合体Ｘ、そして、より好ましくは、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａと、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下の低分子量の重合体Ｙを含有することが好ましい。

本発明に用いられる重合体Ｘは、分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとＸａ、Ｘｂを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとを共重合して得られた重量平均分子量２０００以上、３００００以下の重合体である。

好ましくは、Ｘａは分子内に芳香環と水酸基を有しないアクリルまたはメタクリルモノマー、Ｘｂは分子内に芳香環を有せず水酸基を有するアクリルまたはメタクリルモノマーである。

本発明に用いられる重合体Ｘは、下記一般式（Ｘ）で表される。

一般式（Ｘ）
−［Ｘａ］ｍ−［Ｘｂ］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
上記一般式（Ｘ）において、Ｘａは分子内に芳香環と水酸基とを有しないエチレン性不飽和モノマーを表し、Ｘｂは分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーを表し、ＸｃはＸａ、Ｘｂを除く共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを表す。ｍ、ｎ及びｐは、各々モル組成比を表す。ただし、ｍ≠０、ｎ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。

更に、重合体Ｘとして好ましくは、下記一般式（Ｘ−１）で表される重合体である。

一般式（Ｘ−１）
−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ１）（−ＣＯ_２Ｒ２）］ｍ−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ３）（−ＣＯ_２Ｒ４−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
上記一般式（Ｘ−１）において、Ｒ１、Ｒ３は、それぞれ水素原子またはメチル基を表す。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｒ４は−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−または−Ｃ_３Ｈ_６−を表す。Ｘｃは、［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ１）（−ＣＯ_２Ｒ２）］または［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ３）（−ＣＯ_２Ｒ４−ＯＨ）−］に重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ及びｐは、モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００である。

本発明に用いられる重合体Ｘを構成するモノマー単位としてのモノマーを下記に挙げるが、これに限定されない。

Ｘにおいて、水酸基とは、水酸基のみならずエチレンオキシド連鎖を有する基をいう。

分子内に芳香環と水酸基を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａは、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、等、または上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたものを挙げることができる。中でも、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）であることが好ましい。

分子内に芳香環を有せず、水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂは、水酸基を有するモノマー単位として、アクリル酸またはメタクリル酸エステルが好ましく、例えば、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、またはこれらアクリル酸をメタクリル酸に置き換えたものを挙げることができ、好ましくは、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）及びメタクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）である。

Ｘｃとしては、Ｘａ、Ｘｂ以外のモノマーで、かつ共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば、特に制限はないが、芳香環を有していないものが好ましい。

Ｘａ及びＸｂのモル組成比ｍ：ｎは９９：１〜６５：３５の範囲が好ましく、更に好ましくは９５：５〜７５：２５の範囲である。Ｘｃのｐは０〜１０である。Ｘｃは複数のモノマー単位であってもよい。

Ｘａのモル組成比が多いと、セルロースエステルとの相溶性が良化するがフィルム厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈが大きくなる。Ｘｂのモル組成比が多いと上記相溶性が悪くなるが、Ｒｔｈを低減させる効果が高い。

また、Ｘｂのモル組成比が上記範囲を超えると製膜時にヘイズが出る傾向があり、これらの最適化を図りＸａ、Ｘｂのモル組成比を決めることが好ましい。

高分子量の重合体Ｘの分子量は、重量平均分子量が５０００以上３００００以下であることがより好ましく、更に好ましくは８０００以上２５０００以下である。

重量平均分子量を５０００以上とすることにより、光学補償フィルムの高温高湿下における寸法変化が少ない、偏光板保護フィルムとしてカールが少ない等の利点が得られ好ましい。

重量平均分子量が３００００以下とした場合は、セルロースエステルとの相溶性がより向上し、高温高湿下においてのブリードアウト、更に製膜直後でのヘイズの発生が抑制される。

本発明に用いられる重合体Ｘの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば、四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。

また、重合温度は、通常、室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われるが、この温度または重合反応時間を調整することで可能である。

平均分子量の測定方法は、（３．１．１）において上述した方法を用いることができる。

本発明に用いられる低分子量の重合体Ｙは、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００以上３０００以下の重合体である。重量平均分子量５００以上であれば重合体の残存モノマーが減少し好ましい。

また、３０００以下とすることは、レターデーション値Ｒｔｈ低下性能を維持するために好ましい。Ｙａは、好ましくは芳香環を有さないアクリルまたはメタクリルモノマーである。

本発明に用いられる重合体Ｙは、下記一般式（Ｙ）で表される。

一般式（Ｙ）
−［Ｙａ］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
上記一般式（Ｙ）において、Ｙａは芳香環を有しないエチレン性不飽和モノマーを表し、ＹｂはＹａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーを表す。ｋ及びｑは、各々モル組成比を表す。ただし、ｋ≠０、ｑ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。

本発明に用いられる重合体Ｙにおいて、更に好ましくは下記一般式（Ｙ−１）で表される重合体である。

一般式（Ｙ−１）
−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ５）（−ＣＯ_２Ｒ６）］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
上記一般式（Ｙ−１）において、Ｒ５は、それぞれ水素原子またはメチル基を表す。Ｒ６は炭素数１〜１２のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Ｙｂは、［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ５）（−ＣＯ_２Ｒ６）］と共重合可能なモノマー単位を表す。ｋ及びｑは、それぞれモル組成比を表す。ただしｋ≠０、ｑ≠０、ｋ＋ｑ＝１００である。

Ｙｂは、Ｙａである［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒ５）（−ＣＯ_２Ｒ６）］と共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はない。Ｙｂは複数であってもよい。ｋ＋ｑ＝１００、ｑは好ましくは１〜３０である。

芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーを重合して得られる重合体Ｙを構成するエチレン性不飽和モノマーＹａは、アクリル酸エステルとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル（ｉ−、ｎ−）、アクリル酸ブチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−、ｔ−）、アクリル酸ペンチル（ｎ−、ｉ−、ｓ−）、アクリル酸ヘキシル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ヘプチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸オクチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ノニル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸ミリスチル（ｎ−、ｉ−）、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸（２−エチルヘキシル）、アクリル酸（ε−カプロラクトン）、アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（３−ヒドロキシプロピル）、アクリル酸（４−ヒドロキシブチル）、アクリル酸（２−ヒドロキシブチル）、メタクリル酸エステルとして、上記アクリル酸エステルをメタクリル酸エステルに変えたもの；不飽和酸として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸等を挙げることができる。

Ｙｂは、Ｙａと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーであれば特に制限はないが、ビニルエステルとして、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、オクチル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル等が好ましい。Ｙｂは複数であってもよい。

重合体Ｘ、Ｙを合成するには、通常の重合では分子量のコントロールが難しく、分子量を余り大きくしない方法で、かつ出来るだけ分子量を揃えることのできる方法を用いることが望ましい。

かかる重合方法としては、クメンペルオキシドやｔ−ブチルヒドロペルオキシドのような過酸化物重合開始剤を使用する方法、重合開始剤を通常の重合より多量に使用する方法、重合開始剤の他にメルカプト化合物や四塩化炭素等の連鎖移動剤を使用する方法、重合開始剤の他にベンゾキノンやジニトロベンゼンのような重合停止剤を使用する方法、更に特開２０００−１２８９１１号または同２０００−３４４８２３号公報にあるような一つのチオール基と２級の水酸基とを有する化合物、或いは、該化合物と有機金属化合物を併用した重合触媒を用いて塊状重合する方法等を挙げることができ、何れも本発明において好ましく用いられる。

特に、重合体Ｙは、分子中にチオール基と２級の水酸基とを有する化合物を連鎖移動剤として使用する重合方法が好ましい。この場合、重合体Ｙの末端には、重合触媒及び連鎖移動剤に起因する水酸基、チオエーテルを有することとなる。この末端残基により、Ｙとセルロースエステルとの相溶性を調整することができる。

重合体Ｘ及びＹの水酸基価は、３０〜１５０［ｍｇＫＯＨ／ｇ］であることが好ましい。

（水酸基価の測定方法）
水酸基価の測定は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（１９９２）に準ずる。この水酸基価は、試料１ｇをアセチル化させたとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに必要とする水酸化カリウムのｍｇ数と定義される。

具体的には試料Ｘｇ（約１ｇ）をフラスコに精秤し、これにアセチル化試薬（無水酢酸２０ｍｌにピリジンを加えて４００ｍｌにしたもの）２０ｍｌを正確に加える。フラスコの口に空気冷却管を装着し、９５〜１００℃のグリセリン浴にて加熱する。１時間３０分後、冷却し、空気冷却管から精製水１ｍｌを加え、無水酢酸を酢酸に分解する。

次に電位差滴定装置を用いて０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液で滴定を行い、得られた滴定曲線の変曲点を終点とする。

更に空試験として、試料を入れないで滴定し、滴定曲線の変曲点を求める。水酸基価は、次の式によって算出する。

水酸基価＝｛（Ｂ−Ｃ）×ｆ×２８．０５／Ｘ｝＋Ｄ
式中、Ｂは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、Ｃは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍｌ）、ｆは０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液のファクター、Ｄは酸価、また、２８．０５は水酸化カリウムの１ｍｏｌ量５６．１１の１／２を表す。

上述の重合体Ｘ、重合体Ｙは何れもセルロースエステルとの相溶性に優れ、蒸発や揮発もなく生産性に優れ、偏光板用保護フィルムとしての保留性がよく、透湿度が小さく、寸法安定性に優れている。

重合体Ｘと重合体Ｙの光学補償フィルム中での含有量は、重合体Ｘの含有量をＸｇ（質量％＝（重合体Ｘの質量／セルロースエステルの質量）×１００）、重合体Ｙの含有量をＹｇ（質量％）とすると、下記式（ｉ）、式（ii）を満足する範囲であることが好ましい。

式（ｉ） ５≦Ｘｇ＋Ｙｇ≦３５（質量％）
式（ii） ０．０５≦Ｙｇ／（Ｘｇ＋Ｙｇ）≦０．４
式（ｉ）の（Ｘｇ＋Ｙｇ）の好ましい範囲は、１０〜３５質量％である。重合体Ｘと重合体Ｙは、セルロースエステル全質量に対し、総量として５質量％以上であれば、レターデーション値Ｒｔｈの調整に十分な作用をする。また、総量として３５質量％以下であれば、偏光子ＰＶＡとの接着性が良好である。

重合体Ｘと重合体Ｙは、後述するドープ液を構成する素材として直接添加、溶解するか、もしくはセルロースエステルを溶解する有機溶媒に予め溶解した後ドープ液に添加することができる。
（３．４）紫外線吸収剤
また、第１，第２の光学補償層３，５は、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。

例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・ジャパン（株）社製の市販品であり好ましく使用できる。

本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。

例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式（ｄ）で示される化合物を用いることができる。

式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ_４とＲ_５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。

また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。

以下に本発明に用いられるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９）
更に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式（ｅ）で表される化合物が好ましく用いられる。

式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。

上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。

以下に一般式（ｅ）で表されるベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。

本発明における第１，第２の光学補償層３，５は紫外線吸収剤を２種以上を含有することが好ましい。

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、光学補償フィルム（光学補償層３，５）の乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、光学補償フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。
（３．５）酸化防止剤
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた場合には、光学補償フィルムとしての第１，第２の光学補償層３，５の劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えば、光学補償フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系添加剤のリン酸等により光学補償フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記光学補償フィルム中に含有させるのが好ましい。

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。

これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。
（３．６）微粒子
本発明における第１，第２の光学補償層３，５は、微粒子を含有することが好ましい。

本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍが好ましく、更に好ましいのは１０〜３００ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの２次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径１００〜４００ｎｍの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。光学補償フィルム３，５中のこれらの微粒子の含有量は０．０１〜１質量％であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成の光学補償フィルム３，５の場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でもでアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが光学補償フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる光学補償フィルム３，５においては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。

各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部で、より好ましくは、３〜５質量部である。

本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。
（３．７）光学補償フィルムの製造方法
次に、本発明における第１，第２の光学補償層３，５としての光学補償フィルムの製造方法について説明する。

光学補償フィルムは溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。

本発明の光学補償フィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。

ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度（アセチル基置換度）によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。回収溶剤中に、セルロースエステルに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。

もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。

輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ^２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ^２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ^２以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ^２以下である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。

ここで、ドープの流延について説明する。

流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度は０〜４０℃であり、５〜３０℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。

光学補償フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。

また、光学補償フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。

このとき、第１の光学補償層３としての光学補償フィルムを製造する場合には、乾燥されるセルロース系樹脂フィルムに収縮性フィルムを貼りあわせ、延伸しながら収縮させることが好ましい。

また、第２の光学補償層５としての光学補償フィルムを製造する場合には、二軸延伸処理を行うことが好ましい。

本発明の光学補償フィルムを作製するためには、ウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。剥離張力は３００Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましい。

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２００℃で段階的に高くしていくことが好ましい。

光学補償フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは２０〜６０μｍである。

本発明の光学補償フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。

以上の液晶表示装置１によれば、液晶セル４中の液晶分子は電圧無印加時に当該液晶セル４の厚さ方向に配向し、第１及び第２の光学補償層３，５はｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１、ｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２、ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）を満たすので、視野角を拡大し、正面コントラストを向上させ、斜め方向から見た場合のカラーシフトを防止することができる（実施例参照）。

なお、上記第１の実施形態においては、本発明に係る液晶表示装置を、図１（ａ）に示す液晶表示装置１として説明したが、図１（ｂ）に示す液晶表示装置１Ａとしても良い。ここで、図１（ｂ）の液晶表示装置１Ａにおいては、視認側からバックライト側に向かって第１の偏光子２と、第１の光学補償層３と、液晶セル４と、第２の光学補償層５と、第２の偏光子６とがこの順に積層されており、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、第１の光学補償層３の遅相軸３Ｊとが平行となり、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが直交し、第１の光学補償層３の遅相軸３Ｊと第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが直交するように配設されている。但し、この図１（ｂ）においては、バックライトを図中の下側として図示しているが、上側としても良い。
［第２の実施の形態］
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。なお、上記第１の実施の形態と同様の構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。

図２（ａ）は、本発明に係る他の液晶表示装置１Ｄの概略構成を示す概念図である。

この図に示すように、液晶表示装置１Ｄは、視認側からバックライト側に向かって第１の偏光子２と、第１の光学補償層３Ｄと、液晶セル４と、第２の光学補償層５と、第２の偏光子６とを、この順に積層された状態で有している。また、第１の光学補償層３Ｄは、視認側からバックライト側に向かって二軸性フィルム（基材フィルム）３０と、液晶層３１とを、この順に有している。

より詳細には、第１の偏光子２、第２の偏光子６及び二軸性フィルム３０は、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、二軸性フィルム３０の遅相軸３０Ｊとが直交し、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが直交し、二軸性フィルム３０の遅相軸３０Ｊと、第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが平行となるように配設されている。なお、図２では、バックライトを図中の下側として図示しているが、上側としても良い。

（第１の光学補償層）
本実施形態における第１の光学補償層３Ｄは、二軸性フィルム３０及び液晶層３０を有して積層構成され、全体としてｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１、ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１を満たしており、いわゆる逆波長分散のＺプレートとなっている。また、この第１の光学補償層３Ｄは、好ましくは面内のレターデーション値Ｒｏ１が５０〜１００ｎｍであって、厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈ１の絶対値が０ｎｍ〜２０ｎｍとなっている。

この第１の光学補償層３Ｄは、その形態に制限はないがフィルムであることが好ましい。フィルムの厚さｄは４０〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは４０〜７０μｍである。

＜二軸性フィルム＞
二軸性フィルム３０は、屈折率がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満たすフィルムである。このような二軸性フィルム３０としては、上記第１の実施形態における第１の光学補償層３と同様のセルロース系樹脂フィルムに対して延伸処理を施したものを用いることができる。

＜中間層＞
本発明の光学補償層３Ｄにおいては、二軸性フィルム３０と液晶層３１との間に液晶の垂直配向を補助するような中間層（配向膜。図示せず）を設けることができる。

本発明の中間層は、透明樹脂で構成される。透明樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが更に好ましい。

特に好ましくは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂、あるいは架橋剤と反応部位を有する樹脂との混合組成物である。

硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等の紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましく用いられる。

紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物をさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。

例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のものを用いることができる。例えば、紫光ＵＶ−７５１０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。

これら硬化性樹脂の光重合開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができる。光増感剤と共に使用してもよい。

また、エポキシアクリレート系の光重合開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。

硬化性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜２５質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。

アクリレート系樹脂としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることができる。

これらの市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣＸ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）、ＮＫハードＢ−４２０、ＮＫエステルＡ−ＤＯＧ、ＮＫエステルＡ−ＩＢＤ−２Ｅ（新中村化学工業（株）製）等を適宜選択して利用できる。

また、その他として、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジオキサングリコールアクリレート、エトキシ化アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。

本発明の架橋剤と反応部位を有する樹脂の混合組成物としては、例えばポリビニルアルコールとグリオキザール、ゼラチンとグリオキザール等が挙げられる。

また、中間層には、フッ素−アクリル共重合体樹脂を含有しても良い。フッ素−アクリル共重合体樹脂とは、フッ素単量体とアクリル単量体とからなる共重合体樹脂で、特にフッ素単量体セグメントとアクリル単量体セグメントとから成るブロック共重合体が好ましい。

（中間層の製造方法）
中間層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、中間層を形成する塗布組成物を二軸性フィルム３０上に塗布後、加熱乾燥し、ＵＶ硬化処理することが好ましい。

塗布量はウェット膜厚として０．１〜４０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３０μｍである。

また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０２〜０．７μｍである。

上記ＵＶ硬化処理の光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用できる。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、通常５〜５００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５〜１５０ｍＪ／ｃｍ^２である。

また、活性線を照射する際には、二軸性フィルム３０の搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、さらに好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。

張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、または２軸方向に張力を付与してもよい。これによってさらに平面性優れたフィルムを得ることができる。

中間層を形成する塗布組成物には溶媒が含まれていてもよい。塗布組成物に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒からも適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。

有機溶媒としては、プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等が好ましい。また、有機溶媒の含有量としては塗布組成物中、５〜８０質量％が好ましい。

＜液晶層＞
液晶層３１は、屈折率がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙを満たしており、いわゆるポジティブＣプレートとなっている。この液晶層３１は、下記特性を有することが好ましい。

０≦Ｒｏ≦１０
−５００≦Ｒｔｈ≦−１００
液晶層３１は、液晶材料もしくは液晶の溶液を二軸性フィルム３０上に直接、または前記中間層上に塗布し、乾燥と熱処理（配向処理ともいう）を行い紫外線硬化もしくは熱重合などで液晶配向の固定化を行って形成されており、垂直方向に配向した棒状液晶による位相差を有している。

ここで垂直方向に配向するとは、棒状液晶が支持体としての二軸性フィルム３０のフィルム面に対して７０〜９０°（垂直方向を９０°とする）の範囲内にあることをいう。

棒状液晶は、二軸性フィルム３０に対して斜めに配向しても、配向角を徐々に変化させて配向してもよい。好ましくは８０〜９０°の範囲である。

この液晶層３１は、Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔｈが−５００〜−１００ｎｍの範囲にある垂直方向に配向した棒状液晶による位相差層である。更にＲｏは０〜５ｎｍの範囲がより好ましい。

棒状液晶を配向させて液晶層３１を形成する際には、いわゆる液晶材料が垂直方向に配列するような垂直配向剤を塗布した上述の中間層（配向膜）を用い、液晶材料を垂直配向したのち固定する方法をとることができる。

液晶材料自身が空気界面で垂直方向に配向する場合には、その配向規制力が空気界面と反対の界面まで及び、配向膜は特に必要ではなく、構成が簡素化できる観点からもその方が好ましい。

液晶材料を垂直に配向する具体的な方法としては、特開２００５−１４８４７３号公報などに記載のように、（メタ）アクリル系ブロックポリマーを含有するブロックポリマー組成物の架橋体からなる配向膜等を用いる方法、同２００５−２６５８８９号公報に記載のように、垂直配向膜を使用する方法、空気界面垂直配向剤を使用する方法等、公知の方法を使用することができる。

液晶層３１を上記Ｒｏ，Ｒｔｈの特性の範囲とするためには、棒状液晶層の配向、膜厚制御、紫外線硬化時の温度、チルト角制御、および支持体（二軸性フィルム３０）と空気界面でのプレチルト角の制御を行うことが好ましい。

液晶層３１は、所定の温度で液晶相となり得る液晶材料が、所定の液晶規則性を有して硬化することにより形成されたものである。液晶相を示す温度の上限は、例えば基材のセルロースエステルフィルムがダメージを受けない温度であれば特に限定されるものはない。

具体的には、プロセス温度のコントロールの容易性と寸法精度維持の観点から１２０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下の温度で液晶相となる液晶材料が好適に用いられる。一方、液晶相を示す温度の下限は、偏光板として用いる際に、液晶材料が配向状態を保持し得る温度であるといえる。

液晶層３１に用いられる液晶材料としては、重合性液晶材料を用いることが好ましい。重合性液晶材料は、所定の活性放射線を照射することにより重合させて用いることができ、重合させた状態では垂直の配向状態は固定化される。

重合性液晶材料としては、重合性液晶モノマー、重合性液晶オリゴマー、もしくは重合性液晶ポリマーのいずれかを用いることができ、相互に混合して用いることもできる。

重合性液晶材料としては、上記のうちでも、配向に際しての感度が高く垂直に配向させることが容易であることから重合性液晶モノマーが好適に用いられる。

具体的な重合性液晶モノマーとしては、下記の一般式（１）で表される棒状液晶性化合物（Ｉ）、および下記の一般式（２）で表される棒状液晶性化合物（II）を挙げることができる。化合物（Ｉ）としては、一般式（１）に包含される化合物の２種以上を混合して使用することもでき、同様に、化合物（II）としては、一般式（２）に包含される化合物の２種以上を混合して使用することもできる。また、化合物（Ｉ）の１種以上と、化合物（II）の１種以上とを混合して使用することもできる。

化合物（Ｉ）を表す一般式（１）において、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ水素またはメチル基を示すが、液晶相を示す温度範囲の広さからＲ^１およびＲ^２は共に水素であることが好ましい。

Ｘは水素、塩素、臭素、ヨウ素、炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、シアノ基、もしくはニトロ基のいずれであっても差し支えないが、塩素またはメチル基であることが好ましい。

また、化合物（Ｉ）の分子鎖両端の（メタ）アクリロイロキシ基と、芳香環とのスペーサであるアルキレン基の鎖長を示すａおよびｂは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数を取り得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。

以上の他、本発明においては、重合性液晶オリゴマーや重合性液晶ポリマーとして、従来提案されている公知の材料を適宜選択して用いることが可能である。

例えば、重合性棒状液晶性化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、同５６２２６４８号明細書、同５７７０１０７号明細書、国際公開ＷＯ９５／２２５８６号公報、同９５／２４４５５号公報、同９７／００６００号公報、同９８／２３５８０号公報、同９８／５２９０５号公報、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、特開２００１−３２８９７３号公報、特開２００４−２４０１８８号公報、特開２００５−９９２３６号公報、特開２００５−９９２３７号公報、特開２００５−１２１８２７号公報、特開２００２−３００４２号公報などに記載の化合物を用いることができる。

本発明においては、重合性液晶材料に加え、必要に応じて光重合開始剤を使用する。電子線照射により重合性液晶材料を重合させる際には、光重合開始剤が不要な場合があるが、一般的に用いられている例えば紫外線（ＵＶ）照射による硬化の場合においては、通常光重合開始剤が重合促進のために用いられる。

光重合開始剤としては、ベンジル（ビベンゾイルとも言う）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、もしくは１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等を挙げることができる。

光重合開始剤の添加量としては、一般的には０．０１％〜２０％が好ましく、より好ましくは０．１％〜１０％であり、もっと好ましくは０．５％〜５％の範囲で、本発明の重合性液晶材料に添加することができる。

尚、光重合開始剤の他に、本発明の目的が損なわれない範囲で増感剤を添加することも可能である。

本発明における液晶層３１の膜厚は０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、０．２〜５μｍの範囲内であることがより好ましい。

重合性液晶材料は、必要に応じて光重合開始剤、増感剤等を配合して液晶層形成用組成物を調製して用い、基材（二軸性フィルム３０）上に塗工し、液晶層形成用層を形成する。

液晶の配向を固定した層を形成する方法としては、例えばドライフィルム等を予め形成してこれを液晶の配向を固定した層としたものを基材上に積層する方法や、液晶組成物を溶解あるいは融解させて基材上に塗工する方法等をとることも可能であるが、本発明においては、液晶組成物としては溶媒を加えて、その他の成分を溶解した塗工用組成物を用いて基材上に塗工し、溶媒を除去することにより液晶の配向を固定した層を形成することが好ましい。これは、他の方法と比較して工程上簡便である。

溶媒としては、上述した重合性液晶材料等を溶解することが可能な溶媒であり、かつ透明樹脂フィルムの性状を低下させない溶媒であれば特に限定されるものではなく、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ブチルベンゼン、ジエチルベンゼン、テトラリン等の炭化水素類；メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、もしくは２，４−ペンタンジオン等のケトン類；酢酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、もしくはγ−ブチロラクトン等のエステル類；２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、もしくはジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、もしくはオルソジクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、グリセリン、モノアセチン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチルセルソルブ、もしくはブチルセルソルブ等のアルコール類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類等の１種または２種以上が使用可能である。

単一種の溶媒を使用しただけでは、重合性液晶材料等の溶解性が不充分であったり、上述したように基材（二軸性フィルム３０）が侵食される場合がある。しかし２種以上の溶媒を混合使用することにより、この不都合を回避することができる。

上記した溶媒のなかにあって、単独溶媒として好ましいものは、炭化水素系溶媒とグリコールモノエーテルアセテート系溶媒であり、混合溶媒として好ましいのは、エーテル類またはケトン類と、グリコール類との混合系である。

溶液の濃度は、重合性液晶材料等の溶解性や製造しようとする液晶層の膜厚に依存するため一概には規定できないが、通常は１％〜６０％が好ましく、より好ましくは３％〜４０％の範囲で調整される。

本発明に用いられる液晶層形成用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲内で、上記以外の化合物を添加することができる。

添加できる化合物としては、例えば、多価アルコールと１塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレート；ポリオール基と２個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に（メタ）アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族もしくは脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート等の光重合性化合物、またはアクリル基もしくはメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物、特開２００７−４５９９３号公報に記載のオニウム塩、フッ化アクリレートポリマー等が挙げられる。

本発明の液晶層形成用組成物に対するこれら化合物の添加量は、本発明の目的が損なわれない範囲で選択され、一般的には、本発明の液晶層形成用組成物の４０％以下であることが好ましく、より好ましくは２０％以下である。

これらの化合物の添加により、本発明における液晶材料の硬化性が向上し、得られる液晶層の機械強度が増大し、またその安定性が改善される。

また、溶剤を配合した液晶層形成用組成物には、塗工を容易にするために界面活性剤等を加えることができる。

添加可能な界面活性剤を例示すると、イミダゾリン、第四級アンモニウム塩、アルキルアミンオキサイド、ポリアミン誘導体等の陽イオン系界面活性剤；ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物、第一級あるいは第二級アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、ポリエチレングリコールおよびそのエステル、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム、ラウリル硫酸アミン類、アルキル置換芳香族スルホン酸塩、アルキルリン酸塩、脂肪族あるいは芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン系界面活性剤；ラウリルアミドプロピルベタイン、ラウリルアミノ酢酸ベタイン等の両性系界面活性剤；ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンアルキルアミン等の非イオン系界面活性剤；パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル・親油基含有オリゴマーパーフルオロアルキル基含有ウレタン等のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。

界面活性剤の添加量は、界面活性剤の種類、液晶材料の種類、溶媒の種類、さらには溶液を塗工する配向膜の種類にもよるが、通常は溶液に含まれる重合性液晶材料の１０ｐｐｍ〜１０％が好ましく、より好ましくは１００ｐｐｍ〜５％であり、もっと好ましくは０．１〜１％の範囲である。

液晶層形成用組成物を塗工する方法としては、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、ブレードコート法、スプレーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、もしくは押し出しコート法等が挙げられる。

液晶層形成用組成物を塗工した後、溶媒を除去する方法としては、例えば、風乾、加熱除去、もしくは減圧除去、さらにはこれらを組み合わせる方法等により行われる。溶媒が除去されることにより、液晶の配向を固定した層が形成される。

重合性液晶材料を硬化させる工程では、重合性液晶材料を硬化させるためのエネルギーが与えられ、熱エネルギーでもよいが、通常は、重合を起こさせる能力がある電離放射線の照射によって行う。

必要であれば重合性液晶材料内に重合開始剤が含まれていてもよい。電離放射線としては、重合性液晶材料を重合せさることが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光線が使用され、波長が１５０〜５００ｎｍの光が好ましく、より好ましくは２５０〜４５０ｎｍであり、より好ましくは３００〜４００ｎｍの波長の紫外線である。

本発明においては、紫外線（ＵＶ）を活性放射線として照射し、紫外線で重合開始剤からラジカルを発生させ、ラジカル重合を行わせる方法が好ましい。活性放射線としてＵＶを用いる方法は、既に確立された技術であることから、用いる重合開始剤を含めて、本発明への応用が容易である。

この紫外線を照射するための光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、もしくはショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等を挙げることができる。

なかでもメタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等の使用が推奨される。照射強度は、液晶の配向を固定した層の形成に用いられる重合性液晶材料の組成や光重合開始剤の多寡によって適宜に調整すればよい。

活性放射線の照射による配向固定化工程は、上述した液晶層形成用層を形成する工程における処理温度、すなわち重合性液晶材料が液晶相となる温度条件で行ってもよく、また液晶相となる温度より低い温度で行ってもよい。

以上の液晶表示装置１Ｄによれば、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができるのは勿論のこと、第１の光学補償層３Ｄが二軸性フィルム３０と、ポジティブＣプレートの液晶層３１とを有する積層構成となっているので、第１の光学補償層が単層で構成される場合と比較して、視野角拡大効果を出すために光学補償層に付与すべき位相差の大きさを顕著に小さくすることができる。具体的には、第１の光学補償層が単層で構成される場合には、視野角拡大効果を出すために当該光学補償層に対してレターデーション値Ｒｏ≒２７５という非常に大きな位相差を付与する必要があるところ、第１の光学補償層３Ｄでは、光学補償層３Ｄの全体に対してレターデーション値Ｒｏ＝５０〜１００という２分の１以下の位相差を付与すれば視野角拡大効果を出すことができる。従って、第１の光学補償層を単層で構成する場合と異なり、光学補償層が面内の僅かな光軸のばらつきの影響を増幅してしまうのを防止することができるため、位相差ムラを低減し、正面コントラストを高いまま維持することができる（実施例参照）。

なお、上記第２の実施形態においては、本発明に係る液晶表示装置を、図２（ａ）に示す液晶表示装置１Ｄとして説明したが、図２（ｂ）に示す液晶表示装置１Ｅとしても良い。ここで、図２（ｂ）の液晶表示装置１Ｅにおいては、視認側からバックライト側に向かって第１の偏光子２と、第１の光学補償層３Ｄの液晶層３１及び二軸性フィルム３０と、液晶セル４と、第２の光学補償層５と、第２の偏光子６とがこの順に積層されており、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、二軸性フィルム３０の遅相軸３０Ｊとが平行となり、第１の偏光子２の吸収軸２Ｊと、第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが直交し、二軸性フィルム３０の遅相軸３０Ｊと、第２の偏光子６の吸収軸６Ｊとが直交するように配設されている。但し、この図２（ｂ）においては、バックライトを図中の下側として図示しているが、上側としても良い。

また、本発明は上記第１，第２の実施形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。

例えば、本発明の液晶表示装置は図１、図２の構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよく、例えば、液晶セル４と偏光子２，６との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、偏光子２，６の保護膜の表面に反射防止処理やハードコートを施しても良い。また、構成部材に導電性を付与したものを使用してもよい。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。この場合、バックライトの配置は図１，図２の上側であっても下側であっても良い。また、液晶セル４とバックライトとの間に、反射型偏光板や拡散板、プリズムシートや導光板を配置することもできる。また、上記した様に、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は視認側に１枚配置したのみでよく、液晶セル４の背面あるいは液晶セル４の下側ガラス基板４１の内面に反射膜を配置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル視認側に設けることも可能である。

以下に実施例，比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
≪光学補償フィルムＺ１〜Ｚ９の作製≫
上記実施形態における第１の光学補償フィルム３のサンプルとして、以下の表１に示すような光学補償フィルムＺ１〜Ｚ９を作製した。

（セルロースエステル混合物の調製）
セルロースエステルＡ（セルロースアセテートプロピオネート）
１００質量部
添加剤１ １０質量部
メチレンクロライド ３００質量部
エタノール ５２質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱撹拌しながら、完全に溶解した後、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、セルロースエステル混合物を調製した。この混合物を日本精線（株）製のファインメットＮＦによって濾過した。

但し、上述のセルロースエステルＡとは、以下の表２に示すように、アセチル基置換度１．６、プロピオニル基置換度０．９のセルロースエステルである。また、上述の添加剤１とは、以下の表３に示すように、下記の化合物３で示される糖エステル化合物である。

（二酸化珪素分散希釈液の調製）
アエロジル９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製） １０質量部
（一次粒子の平均径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）
エタノール ８０質量部
以上をディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化珪素分散液を調製した。分散後の液濁度は２００ｐｐｍであった。この二酸化珪素分散液に８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合し、二酸化珪素分散希釈液を作製した。

（ドープ液１の調製）
以上のようにして得られたセルロースエステル混合物１００質量部に対し、二酸化珪素分散希釈液を１０質量部添加し、よく攪拌してドープ液１とした。

（光学補償フィルムＺ１の基材フィルムＡ１の作製）
ベルト流延装置を用い、温度３５℃、１８００ｍｍ幅でステンレスバンド支持体にドープ液１を均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルフィルムのウェブの溶媒を５５℃で蒸発させ、１４０℃〜１６０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に１．４０倍に延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。その後、１３０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、フィルム両端に幅１５ｍｍ、平均高さ１０μｍのナーリング加工を施し、巻き取り初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍでコアに巻き取り、乾燥膜厚６０μｍの光学補償フィルムＺ１の基材フィルム（二軸性フィルム）Ａ１を得た。

（光学補償フィルムＺ２〜５，８，９の基材フィルムＡ２〜５，８，９の作製）
また、上述の表１に示すように、セルロースエステル種、添加剤種、添加剤量、膜厚、幅方向への延伸倍率を変更した以外はほぼ基材フィルムＡ１と同様にしてドープ液を調製した後、光学補償フィルムＺ２〜５，８，９の基材フィルムＡ２〜５，８，９を作製した。

但し、表１中、「樹脂」欄における「Ｂ」，「Ｃ」とは、上記表２におけるセルロースエステルＢ，Ｃを示し、Ｃは具体的に、グルコース単位１モルあたりにグラフトしたε−カプロラクトンの平均モル数（ＭＳ）が０．７２、グラフト鎖（グラフトしたカプロラクトン）の平均置換度（ＤＳ）が０．３、グラフト鎖のε−カプロラクトンの平均重合度（ＤＰｎ）が５．４、ヒドロキシル基の平均置換度ＤＳ（ＯＨ）が０．３であるものを使用した。また、「添加剤種」欄における「添加剤２」とは、上記表３における添加剤２（アクリル系化合物）を示し、具体的には、下記のように合成されるアクリル系化合物を示す。

（アクリル系化合物の合成）
攪拌機、２個の滴下ロート、ガス導入管及び温度計の付いたガラスフラスコに、下記表４記載の種類及び比率（モル組成比）のモノマーＸａ、Ｘｂ混合液４０ｇ、連鎖移動剤のメルカプトプロピオン酸２ｇ及びトルエン３０ｇを仕込み、９０℃に昇温した。その後、一方の滴下ロートから、表４記載の種類及び比率（モル組成比）のモノマーＸａ、Ｘｂ混合液６０ｇを３時間かけて滴下すると同時に、もう一方のロートからトルエン１４ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．４ｇを３時間かけて滴下した。その後更に、トルエン５６ｇに溶解したアゾビスイソブチロニトリル０．６ｇを２時間かけて滴下した後、更に２時間反応を継続させ、ポリマーＸを得た。得られたポリマーＸは常温で固体であった。ポリマーＸの重量平均分子量は下記測定法により表４に示した。

なお、表４記載の、ＭＭＡ、ＨＥＡはそれぞれ以下の化合物の略称である。

ＭＭＡ：メタクリル酸メチル
ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート
（重量平均分子量測定）
重量平均分子量の測定は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
＜光学補償フィルムＺ１の作製＞
以上のようにして得られた基材フィルムＡ１上に中間層、液晶層を形成することで、上述の表１に示すように、光学補償フィルムＺ１を作成した。

（中間層の形成）
ウレタンアクリレートオリゴマー ２５質量部
（ＵＶ−７５１０Ｂ 日本合成化学（株））
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２９０質量部
イソプロピルアルコール ６８５質量部
光重合開始剤 ０．０５質量部
（ルシリンＴＰＯ（バスフ（株）製））
この塗布液を基材フィルムＡ１上にワイヤーバー＃３で塗布し、８０℃で３０秒乾燥した後、紫外線を１２０ｍＪ／ｍｍを１０秒照射して硬化し、中間層を形成した。乾燥後の中間層の膜厚は、０．５μｍであった。

（液晶層（異方性層）の形成）
紫外線重合性液晶材料 ２０質量部
（ＵＣＬ０１８ 大日本インキ化学工業（株）製）
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ８０質量部
光重合開始剤 ０．０４質量部
（ルシリンＴＰＯ（バスフ（株）製））
ヒンダードアミン ０．０２質量部
ＬＳ−７６５（三共ライフテック株式会社製）
垂直配向剤 ０．０３質量部
（信越シリコーン（株）製Ｘ−２２−１６１Ａ）
この重合性液晶層塗布液をダイコータにより前記中間層上に塗布した。液晶層の温度が６５℃になるまで８０℃雰囲気下で１分間加熱乾燥し、その後２８℃まで急速に冷却して、液晶材料を配向させた。

なお、紫外線重合性液晶化合物の固体−液晶相転移温度は２３℃であり、液晶相−等方性液体相転移温度は７０℃であることを予め確認しておいた。

液晶材料を配向させた後、液晶層に酸素濃度０．２％、温度２８℃にて２５０ｍＪ／ｍｍの紫外線を１０秒照射して、重合性液晶組成物を硬化させ、液晶層を形成した。液晶層の厚みは、１．２μｍであった。
＜光学補償フィルムＺ２〜４，８，９の作製＞
上述の表１に示すように、基材フィルムＡ２〜４，８，９を用い、液晶膜厚を変更した以外はほぼ光学補償フィルムＺ１と同様にして、光学補償フィルムＺ２〜４、８，９を作製した。
＜光学補償フィルムＺ５の作製＞
上述の表１に示すように、基材フィルムＡ５をそのまま光学補償フィルムＺ５として用いた。
＜光学補償フィルムＺ６の作製＞
幅方向への延伸倍率を１．０１倍、膜厚を１５０ｕｍとした以外は基材フィルムＡ２と同様にして作製したフィルムＡ６の両側に、アクリル系粘着剤層（厚み１５μｍ）を介して収縮性フィルム（東レ（株）製、商品名「トレファンＢＯ２８７３）を貼り合わせた。その後、ロール延伸機でフィルム長手方向を保持して、１８０℃の空気循環式オーブン内で長手方向に１．５倍に延伸した後、上記収縮性フィルムを上記アクリル系粘着剤層と共に剥離して光学補償フィルムＺ６を作製した。
＜光学補償フィルムＺ７の作製＞
ゼオノアＺＦ−１４−１００（平均屈折率＝１．５２、Ｔｇ＝１３６℃、Ｒｏ＝３．０ｎｍ、Ｒｔｈ＝５．０ｎｍ （株）オプテス製）の両側に、アクリル系粘着剤層（厚み１５μｍ）を介して収縮性フィルム（東レ（株）製、商品名「トレファンＢＯ２８７３」）を貼り合わせた。その後、ロール延伸機でフィルム長手方向を保持して、１４６℃の空気循環式オーブン内で長手方向に１．３８倍に延伸し、延伸後、上記収縮性フィルムを上記アクリル系粘着剤層と共に剥離して、光学補償フィルムＺ７を作製した。
≪光学補償フィルムＣ１〜Ｃ８の作製≫
上記実施形態における第２の光学補償フィルム５のサンプルとして、以下の表５に示すような光学補償フィルムＣ１〜Ｃ８を作製した。

具体的には、セルロースエステル種、添加剤種、添加剤量、膜厚を変更し、テンターでの幅手方向延伸後に搬送張力をかけて長手方向にも延伸すること以外は基材フィルムＡ１の作成と同様にして、光学補償フィルムＣ１〜Ｃ８を作成した。表５中の添加材種は表３に示した通りであり、ＤＳＰ値上昇剤１は芳香族末端ポリエステル系化合物１８を、ＤＳＰ値上昇剤はトリアジン系化合物を示す。
≪光学補償フィルムの評価≫
＜レターデーション値Ｒｏ，Ｒｔｈの測定＞
自動複屈折率計（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いて光学補償フィルムＺ１〜Ｚ９，Ｃ１〜Ｃ８のレターデーション値を測定した。

具体的には、光学補償フィルムを２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において１０カ所で３次元の屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの平均値を求めた後、下記式に従って面内方向のレターデーション値Ｒｏ，厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈを算出した。結果を下記の表６に示す。

Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
なお、式中、Ｒｏはフィルム面内レターデーション値、Ｒｔｈはフィルム厚み方向レターデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。

上記表６の第１の光学補償層のレターデーション値Ｒｏ１、Ｒｔｈ１の値から、本発明に係る光学補償フィルムＺ１〜Ｚ４、Ｚ６、Ｚ８、Ｚ９は、Ｒｏ＞０、かつ−Ｒｏ／２＜Ｒｔｈ＜Ｒｏ／２であることから、ｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１（：式（１））を満たすことが分かる。

また、第２の光学補償層のレターデーション値Ｒｏ２、Ｒｔｈ２の値から、本発明に係る光学補償フィルムＣ１〜Ｃ６は、Ｒｏ≧０かつ、Ｒｔｈ＞Ｒｏ／２であることから、ｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２（：式（２））を満たすことがわかる。

更に、上記本発明の液晶表示装置１〜８に用いられる光学補償層は、波長分散性として、ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）（：式（３））を満たすことが分かる。
≪偏光板の作製≫
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥して偏光子を得た。

次いで、下記の工程１〜５に従って、偏光子の表面側には光学補償フィルムＺ１〜９または光学補償フィルムＣ１〜８を、裏面側にはコニカミノルタタックＫＣ４ＵＹ（コニカミノルタオプト（株）製セルロースエステルフィルム）を、それぞれ偏光板保護フィルムとして貼り合わせ、偏光板Ｚ１１〜１９，Ｃ１１〜１８を作製した。ただし、光学補償フィルムＺ１〜４、８，９については、基材フィルム側が偏光子側（液晶層側が偏光子の反対側）になるようにして偏光子に貼り合わせた。

工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液にフィルム（光学補償フィルム，セルロースエステルフィルム）を９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したフィルムを得た。

工程２：前記偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。

工程３：工程２で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理した光学補償フィルムと、セルロースエステルフィルムとの間に挟んで積層した。

工程４：工程３で積層した積層物を圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピード約２ｍ／分で貼合した。

工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で貼合せた試料を２分間乾燥し、偏光板Ｚ１１〜１９、Ｃ１１〜１８を作製した。
≪液晶表示装置の作製≫
市販の３２型ＭＶＡ型液晶テレビ（シャープ製「アクオス３２ＡＤ５」。但し、「アクオス」は登録商標）の両面の偏光板を剥がして、上記作製の偏光板Ｚ１１〜１９、Ｃ１１〜１８を表６の組み合わせになるように各々両面に貼りつけて液晶表示装置（１）〜（１１）を作製した。その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム側（コニカミノルタタックＫＣ４ＵＹとは反対の側）が、液晶セル側となるように、且つ、購入時に予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くようにした。

以上のようにして作製した液晶表示装置（１）〜（１１）を用い、以下の評価を行った。
≪液晶表示装置の評価≫
＜視野角の評価＞
２３℃５５％ＲＨの環境で各々の液晶表示装置のバックライトを１週間連続点灯した後、視野角の測定を行った。測定にはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて、方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°、倒れ角７０°の方向での黒表示と白表示との輝度の比Ａを測定し、平均した値を採用した。測定結果を以下の基準に従って評価したところ、上記の表６に示す通りとなった。なお、この評価基準において、「△」は実用上、許容範囲内にあることを意味し、「×」は実用上、許容範囲外にあることを意味する。

◎：１００＜Ａ
△：５０＜Ａ≦１００
×：Ａ≦５０
＜正面コントラスト＞
２３℃５５％ＲＨの環境で各々の液晶表示装置のバックライトを点灯し、白表示と黒表示の表示画面の法線方向からの輝度を測定し、その比を正面コントラストとし下記の基準に従い評価したところ、上記の表６に示す通りとなった。測定には、コニカミノルタセンシング社製ＣＳ−２０００を用いた。なお、正面コントラストが１０００を超えると、優れた液晶表示装置である。また、この評価基準において、「△」は実用上、許容範囲内にあることを意味し、「×」は実用上、許容範囲外にあることを意味する。

正面コントラスト＝（表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度）
／（表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度）
◎：１０００＜正面コントラスト
○：７５０＜正面コントラスト≦１０００
△：５００＜正面コントラスト≦７５０
×：正面コントラスト≦５００
＜斜めのカラーシフトの評価＞
各液晶表示装置について、暗室内での黒表示状態を斜め方向から複数人数による目視で確認し、下記の基準に従って評価したところ、上記の表６に示す通りとなった。なお、この評価基準において、「△」は実用上、許容範囲内にあることを意味し、「×」は実用上、許容範囲外にあることを意味する。

◎：１０人中０人が着色を認めた
○：１０人中１〜２人が着色を認めた
△：１０人中３〜５人が着色を認めた。

×：１０人中５〜１０人が着色を認めた。
＜総合評価＞
以上の結果より、本発明の実施例としての液晶表示装置（１）〜（８）では、比較例としての液晶表示装置（９）〜（１１）と異なり、視野角の拡大、正面コントラストの向上、斜め方向から見た場合のカラーシフトの防止が同時に達成され、優れていることが分かった。

この点を考察すると、まず、ＶＡモードの液晶セル中の棒状液晶の持つＲｔｈは負であり、その波長分散は正であるところ、このような液晶セルの光漏れ（液晶セルが厚み方向に位相差を有することに起因する光漏れ）を打ち消すためには、正のＲｔｈを持ち、かつ液晶セルと同様に正の波長分散を持つＣプレートの光学補償層が必要であると考えられる。一方、偏光子の光漏れ（２枚の偏光子の透過軸が斜め方向から見ると直交しないことに起因する光漏れ）を補償するには、各波長で同じ補償効果を得ることが好ましく、波長が大きくなるに伴って位相差も大きくなる逆波長分散のＺプレートの光学補償層が適していると考えられる。そのため、正の波長分散を持つＣプレートの光学補償層と、逆波長分散のＺプレートの光学補償層とを組み合わせた本発明の構成によれば、液晶セル及び偏光板に起因する光漏れの補償がともに最適化され、斜めのカラーシフト、視野角、正面コントラストの両立が可能になったと推測される。

１，１Ａ，１Ｄ，１Ｅ 液晶表示装置
２ 第１の偏光子
３，３Ｄ 第１の光学補償層
４ 液晶セル
５ 第２の光学補償層
６ 第２の偏光子
３０ 二軸性フィルム（セルロース系樹脂層）
３１ 液晶層

Claims (6)

1. 少なくとも第１の偏光子と、第１の光学補償層と、液晶セルと、第２の光学補償層と、第２の偏光子とをこの順に有し、
   前記第１及び第２の光学補償層は、下記式（１）〜（３）を満たし、
   前記液晶セル中の液晶分子は、電圧無印加時に当該液晶セルの厚さ方向に配向することを特徴とする液晶表示装置。
   ｎｘ１＞ｎｚ１＞ｎｙ１ （１）
   ｎｘ２≧ｎｙ２＞ｎｚ２ （２）
   ＤＳＰ（Ｒｏ１）＜１＜ＤＳＰ（Ｒｔｈ２） （３）
   （但し、ｎｘ１は前記第１の光学補償層の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ１は前記第１の光学補償層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚ１は前記第１の光学補償層の厚み方向の屈折率をそれぞれ表し、ｎｘ２は前記第２の光学補償層の面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙ２は前記第２の光学補償層の面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚ２は前記第２の光学補償層の厚み方向の屈折率をそれぞれ表す。Ｒｏ１は以下の式（８−１）で表される前記第１の光学補償層の面内レターデーション値を表し、Ｒｔｈ２は以下の式（９−２）で表される前記第２の光学補償層の厚み方向のレターデーション値を表す。ＤＳＰ（Ｒｏ１）は、前記第１の光学補償層の面内レターデーション値Ｒｏ１の波長分散値であり、波長４８０ｎｍで測定した前記第１の光学補償層の面内レターデーション値Ｒｏ１を、波長６３０ｎｍで測定した面内レターデーション値Ｒｏ１で割った値である。ＤＳＰ（Ｒｔｈ２）は前記第２の光学補償層の厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈ２の波長分散値であり、波長４８０ｎｍで測定した前記第２の光学補償層のレターデーション値Ｒｔｈ２を、波長６３０ｎｍで測定したレターデーション値Ｒｔｈ２で割った値である。
   Ｒｏ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）×ｄ１ （８−１）
   Ｒｔｈ２＝｛（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２−ｎｚ２｝×ｄ２） （９−２）
   但し、ｄ１は前記第１の光学補償層の厚み（ｎｍ）を表し、ｄ２は前記第２の光学補償層の厚み（ｎｍ）を表し、Ｒｏ１及びＲｔｈ２はそれぞれ波長５９０ｎｍで測定した値である。）
2. 前記第１の光学補償層は、セルロース系樹脂層を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記第１の光学補償層は、下記式（４），（５）を満たし、
   前記第２の光学補償層は、下記式（６），（７）を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
   Ｒｏ１＝５０〜１００［ｎｍ］ （４）
   ｜Ｒｔｈ１｜＝０〜２０［ｎｍ］ （５）
   Ｒｏ２＝０〜２０［ｎｍ］ （６）
   Ｒｔｈ２＝２００〜３５０［ｎｍ］ （７）
   （但し、Ｒｔｈ１は以下の式（９−１）で表される前記第１の光学補償層の厚み方向のレターデーション値を表し、Ｒｏ２は以下の式（８−２）で表される前記第２の光学補償層の面内レターデーション値を表し、Ｒｏ２及びＲｔｈ１はそれぞれ波長５９０ｎｍで測定した値である。
   Ｒｏ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）×ｄ２ （８−２）
   Ｒｔｈ１＝｛（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２−ｎｚ１｝×ｄ１） （９−１））
4. 前記第１の光学補償層は、セルロース系樹脂層と、液晶層とを少なくとも含み、
   前記セルロース系樹脂層は、
   前記液晶層よりも前記第１の偏光子側に配設されており、
   面内位相差を有するとともに、前記第１の偏光子の吸収軸に対して遅相軸が直交することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の液晶表示装置。
5. 前記第１の光学補償層は、セルロース系樹脂層と、液晶層とを少なくとも含み、
   前記セルロース系樹脂層は、
   前記液晶層よりも前記液晶セル側に配設されており、
   面内位相差を有するとともに、前記第１の偏光子の吸収軸に対して遅相軸が平行であることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の液晶表示装置。
6. 前記第２の光学補償層は、
   ＤＳＰ値上昇剤を含有するセルロース系樹脂層からなることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の液晶表示装置。