JP5587573B2 - 樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 252
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 252
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 222
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 218
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 181
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 111
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 111
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 75
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 35
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 137
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 103
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 103
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 87
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 80
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 39
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 22
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 claims description 22
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 21
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 19
- NXBXJOWBDCQIHF-UHFFFAOYSA-N 2-[hydroxy-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]phosphoryl]oxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(=O)OCCOC(=O)C(C)=C NXBXJOWBDCQIHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 14
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 13
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 10
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 9
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 9
- -1 β-carboxyethyl Chemical group 0.000 claims description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 8
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 8
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 7
- ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C=C ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethyl)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCOC(=O)C=C IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NQUXRXBRYDZZDL-UHFFFAOYSA-N 1-(2-prop-2-enoyloxyethyl)cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1(CCOC(=O)C=C)C(O)=O NQUXRXBRYDZZDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- YUTHQCGFZNYPIG-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC1(C(O)=O)CCCCC1C(O)=O YUTHQCGFZNYPIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LBNDGEZENJUBCO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]butanedioic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(C(O)=O)CC(O)=O LBNDGEZENJUBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QISZCVLALJOROC-UHFFFAOYSA-N 3-(2-hydroxyethyl)-4-(2-prop-2-enoyloxyethyl)phthalic acid Chemical compound OCCC1=C(CCOC(=O)C=C)C=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O QISZCVLALJOROC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UXTGJIIBLZIQPK-UHFFFAOYSA-N 3-(2-prop-2-enoyloxyethyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(CCOC(=O)C=C)=C1C(O)=O UXTGJIIBLZIQPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 3
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000539 dimer Substances 0.000 claims description 3
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 3
- DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CCl DDKMFQGAZVMXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-1-ol Chemical compound C1OC1COC(CO)COCC1CO1 IVIDDMGBRCPGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DNVXWIINBUTFEP-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-phenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 DNVXWIINBUTFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RQZUWSJHFBOFPI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxy]propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COC(C)COCC1CO1 RQZUWSJHFBOFPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HIGURUTWFKYJCH-UHFFFAOYSA-N 2-[[1-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)cyclohexyl]methoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC1(COCC2OC2)CCCCC1 HIGURUTWFKYJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(O)CO UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229940105990 diglycerin Drugs 0.000 claims description 2
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 claims description 2
- HUAMSMSKIADVTE-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-methyl-2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)butoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(CC)COCC1CO1 HUAMSMSKIADVTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 52
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 50
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 22
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 21
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 17
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 16
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 14
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000002585 base Substances 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 9
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 238000002242 deionisation method Methods 0.000 description 6
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 6
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 6
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 5
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 4
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 4-heptanone Chemical compound CCCC(=O)CCC HCFAJYNVAYBARA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 4
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 3
- IOUCSUBTZWXKTA-UHFFFAOYSA-N dipotassium;dioxido(oxo)tin Chemical compound [K+].[K+].[O-][Sn]([O-])=O IOUCSUBTZWXKTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSESIFLAYVLPQJ-UHFFFAOYSA-N C(C(=C)C)(=O)OC(COCCOCCOC(C(=C)C)=O)OC Chemical compound C(C(=C)C)(=O)OC(COCCOCCOC(C(=C)C)=O)OC CSESIFLAYVLPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001089 [(2R)-oxolan-2-yl]methanol Substances 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- UMLBRVHDTUJDHM-UHFFFAOYSA-N [O-2].[Zr+4].O.O.O.O.O.O.O.O.O(Cl)Cl.[Zr+4].[O-2].[O-2].[O-2] Chemical compound [O-2].[Zr+4].O.O.O.O.O.O.O.O.O(Cl)Cl.[Zr+4].[O-2].[O-2].[O-2] UMLBRVHDTUJDHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 2
- 238000010559 graft polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 2
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofurfuryl alcohol Chemical compound OCC1CCCO1 BSYVTEYKTMYBMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- YYJIYUNJTKCRHL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC(=O)C=C YYJIYUNJTKCRHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N (dimethylamino)methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)COC(=O)C(C)=C UUGXDEDGRPYWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUGVQHLGVGPAIZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-henicosafluorodecan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KUGVQHLGVGPAIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUQJISPCBFLEDB-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanatohexane;ethyl carbamate Chemical compound CCOC(N)=O.O=C=NCCCCCCN=C=O QUQJISPCBFLEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFWOFRICKCJBGV-UHFFFAOYSA-N 1-butoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CCCCOC(O)COCCO IFWOFRICKCJBGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(F)(F)F QTKPMCIBUROOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutyl acetate Chemical compound CCC(CC)COC(C)=O HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKLGZQIUTOYSBB-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-ethyl-2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)hexoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(CC)(CCCC)COCC1CO1 XKLGZQIUTOYSBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYFFNAVAMIJUIP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)CO HYFFNAVAMIJUIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCOC(=O)C=C CYUZOYPRAQASLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZHPOJPIGFWDTD-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C=C HZHPOJPIGFWDTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- GGVYZEFIJAPLDA-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)O.C1(=CC=CC=C1)OCC1CO1 Chemical compound C(C)(=O)O.C1(=CC=CC=C1)OCC1CO1 GGVYZEFIJAPLDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIDUTICZMCSMKP-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCC(CC)O.P(=O)(O)(O)O Chemical compound C(C=C)(=O)OCC(CC)O.P(=O)(O)(O)O QIDUTICZMCSMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- GNULGOSSPWDTMD-UHFFFAOYSA-N NC(=O)OCC.C(CCCCCN=C=O)N=C=O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO Chemical compound NC(=O)OCC.C(CCCCCN=C=O)N=C=O.C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)(COC(C=C)=O)CO GNULGOSSPWDTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000027418 Wounds and injury Diseases 0.000 description 1
- LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N [(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(CC(C)CC(C)(C)C)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC LFOXEOLGJPJZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N [2-[2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)butoxymethyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CC)COCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C XRMBQHTWUBGQDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- BMFYCFSWWDXEPB-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(phenyl)methanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1CCCCC1 BMFYCFSWWDXEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- KPGRTCPQLMJHFQ-UHFFFAOYSA-N diethylaminomethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)COC(=O)C(C)=C KPGRTCPQLMJHFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 208000014674 injury Diseases 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 238000003921 particle size analysis Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005650 polypropylene glycol diacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Glanulating (AREA)
Description
本発明は、高濃度でも分散性、安定性に優れた樹脂で被覆した金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材に関する。
従来より、ガラス、プラスチックシート、プラスチックレンズ等の基材表面の耐擦傷性を向上させるため、基材表面にハードコート機能を有する透明被膜を形成することが知られており、このような透明被膜として有機樹脂膜あるいは無機膜をガラスやプラスチック等の表面に形成することが行われている。さらに、有機樹脂膜あるいは無機膜中に樹脂粒子あるいはシリカ等の無機粒子を配合してさらに耐擦傷性を向上させることが行われている。
しかしながら、透明被膜を形成するための透明被膜形成用塗布液に微粒子を分散させると、マトリックス成分または分散媒と粒子の親和性が低い場合は粒子が凝集したり、塗布液の安定性が低下し、得られる透明被膜の透明性、ヘーズ等の他、耐擦傷性、強度、スクラッチ強度等が不充分となることがあった。
このため、粒子の分散性を向上させて凝集を防止したり、塗布液の安定性を向上させるために粒子をシランカップリング剤で表面処理して用いることが公知である。また、粒子にメカノケミカル法、グラフト重合法等で樹脂を被覆してマトリックス成分または分散媒との親和性を高めることが行われている。（特開平３−１６３１７２号公報（特許文献１）、特開平６−３３６５５８号公報（特許文献２）、特開平６−４９２５１号公報（特許文献３）、特開２０００−１４３２３０号公報（特許文献４））
さらに、特開平７−１１８１２３号公報（特許文献５）および特開２００３−６３９３２号公報（特許文献６）には樹脂で被覆した化粧料用粉体が開示されている。
さらに、特開平７−１１８１２３号公報（特許文献５）および特開２００３−６３９３２号公報（特許文献６）には樹脂で被覆した化粧料用粉体が開示されている。
しかしながら、シランカップリング剤で表面処理した粒子は、シランカップリング剤処理の際に好適な分散媒（通常水および／またはアルコール）と、透明被膜形成用塗布液に用いる分散媒と異なることが多く、このため塗布液用の分散媒に溶媒置換する必要があった。また、塗布液に用いる分散媒によってはシランカップリング剤が脱離することがあり、このため粒子が凝集したり、塗布液の安定性が不充分となることがあった。
また、従来のメカノケミカル法、グラフト重合法等では、個々の粒子に均一に樹脂を被覆することが困難で、数個以上の凝集した粒子に樹脂が被覆され、得られた樹脂被覆粒子
では樹脂が塗布液の溶媒に溶解することがあり、このため得られる透明被膜は、透明性の低下、ヘーズの上昇、耐擦傷性の低下等の問題があった。
では樹脂が塗布液の溶媒に溶解することがあり、このため得られる透明被膜は、透明性の低下、ヘーズの上昇、耐擦傷性の低下等の問題があった。
本発明者らは、このような問題点に鑑み鋭意検討した結果、加熱処理した金属酸化物粒子のケトン類有機溶媒分散液に、アクリル系樹脂を添加し、ついで、メカノケミカル処理すると個々の粒子に均一に樹脂を被覆することができ、高濃度でも分散性、安定性に優れた樹脂被覆金属酸化物粒子が得られることを見出して本発明を完成するに至った。
[1]予め100〜800℃で加熱処理した平均一次粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあり、平均
二次粒子径が５ｎｍ〜１０μｍの範囲にある金属酸化物粒子の有機溶媒分散液に、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂からなる樹脂被覆材を添加し、ついで、メカノケミカル処理する樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[2]前記有機溶媒がエーテル類、エステル類、ケトン類から選ばれる1種以上である[1]の
樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[3]前記樹脂被覆材の固形分としての濃度（ＣR）と金属酸化物微粒子の固形分としての濃度（ＣMO）の濃度比（ＣR）／（ＣMO）が０．００５〜０．５の範囲にある[1]または[2]
の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[4]前記メカノケミカル処理時の金属酸化物粒子と樹脂被覆材とをあわせた全固形分濃度
が１〜５０重量％の範囲にある[1]〜[3]の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。[5]前記金属酸化物粒子が、ＴiＯ2、ＳiＯ2、ＺrＯ2、Ａl2Ｏ3、Ｓb2Ｏ5、ＺnＯおよびこれらの複合酸化物、酸化錫、ＳbまたはＰがドープされた酸化錫、酸化インジウム、Ｓｎ
またはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタンから選ばれる1種以上である[1]〜[4]の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[6]前記樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある[1]〜[5]の
樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[7]マトリックス形成成分と、[1]〜[6]の方法で得られた樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾ
ルと有機溶媒とを含んでなる透明被膜形成用塗布液。
[8]基材と、基材上に、[7]の透明被膜形成用塗布液を塗布・乾燥して形成された透明被膜とを有する透明被膜付基材。
[9]前記透明被膜が他の被膜とともに設けられている[8]の透明被膜付基材。
[1]予め100〜800℃で加熱処理した平均一次粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあり、平均
二次粒子径が５ｎｍ〜１０μｍの範囲にある金属酸化物粒子の有機溶媒分散液に、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂からなる樹脂被覆材を添加し、ついで、メカノケミカル処理する樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[2]前記有機溶媒がエーテル類、エステル類、ケトン類から選ばれる1種以上である[1]の
樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[3]前記樹脂被覆材の固形分としての濃度（ＣR）と金属酸化物微粒子の固形分としての濃度（ＣMO）の濃度比（ＣR）／（ＣMO）が０．００５〜０．５の範囲にある[1]または[2]
の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[4]前記メカノケミカル処理時の金属酸化物粒子と樹脂被覆材とをあわせた全固形分濃度
が１〜５０重量％の範囲にある[1]〜[3]の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。[5]前記金属酸化物粒子が、ＴiＯ2、ＳiＯ2、ＺrＯ2、Ａl2Ｏ3、Ｓb2Ｏ5、ＺnＯおよびこれらの複合酸化物、酸化錫、ＳbまたはＰがドープされた酸化錫、酸化インジウム、Ｓｎ
またはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタンから選ばれる1種以上である[1]〜[4]の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[6]前記樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある[1]〜[5]の
樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
[7]マトリックス形成成分と、[1]〜[6]の方法で得られた樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾ
ルと有機溶媒とを含んでなる透明被膜形成用塗布液。
[8]基材と、基材上に、[7]の透明被膜形成用塗布液を塗布・乾燥して形成された透明被膜とを有する透明被膜付基材。
[9]前記透明被膜が他の被膜とともに設けられている[8]の透明被膜付基材。
本発明によれば、予め加熱処理した、特定の平均粒子径にある金属酸化物粒子の有機溶媒分散液に、特定の樹脂被覆材を添加してメカノケミカル処理しているので、溶剤を用いた透明被膜形成用塗布液に凝集することなく安定に分散可能であり、高濃度にしても分散性、安定性に優れた樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルが製造される。この樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液は、被覆樹脂と塗布液中のマトリックス形成成分とが結合性を有しており、このため透明性、ヘーズ、基材との密着性に優れるとともに膜強度、耐擦傷性等に優れた透明被膜の形成の好適に用いることのできる透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材を提供することができる。なお、本発明のような有機溶媒中でのメカノケミカル処理は従来、全く知られておらず、かかるメカノケミカル処理で達成される上記効果も、当然知られていなかった。
以下、先ず、樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法について説明する。
［樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法］
本発明に係る樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法は、平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある金属酸化物粒子の有機溶媒分散液に特定の樹脂被覆剤を添加し、ついで、メカノケミカル処理する。
金属酸化物粒子
本発明に用いる金属酸化物粒子としては、従来、透明被膜に用いられる公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
［樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法］
本発明に係る樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法は、平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある金属酸化物粒子の有機溶媒分散液に特定の樹脂被覆剤を添加し、ついで、メカノケミカル処理する。
金属酸化物粒子
本発明に用いる金属酸化物粒子としては、従来、透明被膜に用いられる公知の金属酸化物粒子を用いることができる。
具体的にはＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＺnＯ、およびこれらの複合酸化物、酸化錫、ＳｂまたはＰがドープされた酸化錫、酸化インジウム、ＳｎまたはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタンから選ばれる1
種以上であることが好ましい。
種以上であることが好ましい。
金属酸化物粒子は透明被膜の用途によって適宜選択して用いることができ、例えば、反射防止膜に用いる金属酸化物粒子としては通常屈折率が１．４５以下、好ましくは１．４０以下の金属酸化物粒子が用いられ、具体的にはＳiＯ2、内部に空洞を有するＳiＯ2、あるいはこれらに導電性を有する金属酸化物を被覆した粒子等が挙げられる。内部に空洞を有するＳiＯ2粒子としては本願出願人の出願による特開２００１−２３３６１１号公報に開示した内部に空洞を有するシリカ系微粒子は好適に採用することができる。
透明被膜をハードコート膜に用いる場合、金属酸化物粒子としては、ＺrＯ2、ＴiＯ2、Ｓb2Ｏ5、ＺnＯ、Ａl2Ｏ3、ＳnＯ2、あるいは前記した屈折率が１．４５以下のシリカ系
微粒子等が挙げられる。
微粒子等が挙げられる。
透明被膜が、高屈折率膜である場合、用いる金属酸化物粒子としては、通常屈折率が１．６０以上、さらには１．８０以上の微粒子が用いられ、具体的にはＺrＯ2、ＴiＯ2、Ｓb2Ｏ5、ＺnＯ2、Ａl2Ｏ3、ＳnＯ2、アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）等が挙げられる。例えば、屈折率の高いＰＥＴ基材の場合は透明被膜と基材との屈折率を近似させるために屈折率の高い酸化チタン粒子等は好適に用いることができる。
透明被膜に導電性を付与する場合、金属酸化物粒子としては、通常Ｓb2Ｏ5、ＳnＯ2、
アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、あるいはこれら導電性材料で表面を被覆したシリカ系微粒子あるいは内部に空洞を有するシリカ系微粒子等が挙げられる。
アンチモンドープ酸化錫、錫ドープ酸化インジウム、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、あるいはこれら導電性材料で表面を被覆したシリカ系微粒子あるいは内部に空洞を有するシリカ系微粒子等が挙げられる。
本発明で用いる金属酸化物粒子は、後述するメカノケミカル処理する前に、予め加熱処理（すなわち乾燥および／または焼成）されている。加熱処理温度は１００〜８００℃、さらには１０５〜７５０℃の範囲にあることが好ましい。
なお、金属酸化物粒子を調製する際に、すでに、前記温度範囲の加熱履歴のある場合は、別途、加熱処理を行う必要はない。また、前記温度範囲の加熱履歴があってもその後に水分散履歴のある場合は加熱処理することが好ましい。
本発明では、溶媒除去のための乾燥を行なった後、加熱処理することが好ましい。
かかる加熱処理によって、樹脂被覆量を高く、かつ均一にでき、その結果、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性を高めることが可能となる。
その理由は明確ではないものの、加熱処理によって、樹脂との反応を阻害する付着水が除去され、樹脂との反応を促進する活性なOHが生じるため、樹脂による粒子の均一な被覆が促進されるもののと考えられる。
加熱処理温度が低すぎると、付着水が残存する等のために金属酸化物粒子の表面が活性なためか、粒子と樹脂との結合が不充分となり、樹脂被覆量が不充分となる場合があり、
得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性が不充分となることがある。
得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性が不充分となることがある。
また加熱処理温度が高すぎても金属酸化物粒子が過度に凝集したり、金属酸化物粒子の種類によっては焼結し、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性が不充分となることがある。
その結果、いずれも透明被膜形成用塗料の安定性が低下し、最終的に得られる透明被膜の透明性、ヘーズ、膜強度、耐擦傷性、基材との密着性等が不充分となることがある。
金属酸化物粒子の平均粒子径は、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が概ね５〜３００ｎｍとなるような平均粒子径の金属酸化物粒子を用いる。
金属酸化物粒子は、一次粒子のみからなるものであっても、複数の一次粒子からなる二次粒子であってもよい。具体的には、平均一次粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある金属酸化物粒子であり、二次粒子の場合、平均二次粒子径が５ｎｍ〜１０μｍの範囲にある金属酸化物粒子（但し、平均一次粒子径を超えることはない）を用いる。
平均一次粒子径が５〜３００ｎｍ、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲にあり、平均二次粒子径が５ｎｍ超〜１０μｍ、好ましくは１０〜５μｍの範囲にある。
なお、二次粒子は一次粒子が凝集した粒子であっても、また一部結合して粒子成長した粒子であっても、平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある樹脂被覆金属酸化物粒子が最終的に得られれば特に制限なく用いることができる。
本発明では、平均一次粒子径は粒子の透過型電子顕微鏡写真（ＴＥＭ）を撮影し、１００個の粒子について粒子径を測定し、その平均値として求める。また、平均二次粒子径は、動的光散乱法「マイクロトラック粒度分布測定装置」によって求めることができる。
金属酸化物粒子の平均一次粒子径が小さすぎると、過度に凝集した樹脂被覆金属酸化物粒子が得られ、透明被膜の透明性、強度、耐擦傷性、基材との密着性等が不充分となる。
平均一次粒子径が大きすぎると、最終的に得られる樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が300nm以下のものを得ることが困難であり、また強力に粉砕しても結晶性の金属酸化
物粒子の場合結晶性が低下する場合がある。平均二次粒子径が大きすぎると金属酸化物粒子凝集体の塊砕あるいは結晶性金属酸化物粒子の粉砕効率が低下したり、粉砕が困難となる。その結果、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が大きくなり、樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性が不充分となることがある。そして、これらの樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルを用いた透明被膜形成用塗料の安定性が低下し、最終的に得られる透明被膜の透明性、ヘーズ、膜強度、耐擦傷性、基材との密着性等が不充分となることがある。
物粒子の場合結晶性が低下する場合がある。平均二次粒子径が大きすぎると金属酸化物粒子凝集体の塊砕あるいは結晶性金属酸化物粒子の粉砕効率が低下したり、粉砕が困難となる。その結果、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が大きくなり、樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性が不充分となることがある。そして、これらの樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルを用いた透明被膜形成用塗料の安定性が低下し、最終的に得られる透明被膜の透明性、ヘーズ、膜強度、耐擦傷性、基材との密着性等が不充分となることがある。
なお、本発明では使用する金属酸化物粒子の平均二次粒子径が上記上限を越えて大きい場合は、従来公知の塊砕、粉砕方法で１０μｍ以下にして使用することができる。
樹脂被覆材
樹脂被覆材としては、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂が使用される。
樹脂被覆材としては、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂が使用される。
アクリル系樹脂としては、アクリル酸、２-ヒドロキシエチルアクリレート、２-ヒドロキシプロピルアクリレート、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルコハク酸、２-アクリロイロキシエチルフタル酸、２-アクリロイロ
キシエチル２-ヒドロキシエチル-フタル酸、モノ２-アクリロイルオキシエチルアシッド
フォスフェート、ジ２-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート２-ヒドロキシブチルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、グリセリンジ
グリシジルエーテル、２-ヒドロキシ-３フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、Ｏ-フェニルフェノールグリシジルエーテ
ルアクリレート、１，４-ブタンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、１，６-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルアクリレート、２-チル２エチル１，３プロパンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、シ
クロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルアクリレート、１，６ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、２-ヒドロキシ、１-アクリロキシ、３-メタクリロキシプロパン、β-カルボキシエチルアクリレート等のアクリル系モノマー、これらアクリル系モノマーのホモ重合体、アクリル系モノマーとスチレン、シリコン、ポリエステル等との共重合体が挙げられる。
キシエチル２-ヒドロキシエチル-フタル酸、モノ２-アクリロイルオキシエチルアシッド
フォスフェート、ジ２-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート２-ヒドロキシブチルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、グリセリンジ
グリシジルエーテル、２-ヒドロキシ-３フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、Ｏ-フェニルフェノールグリシジルエーテ
ルアクリレート、１，４-ブタンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、１，６-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルアクリレート、２-チル２エチル１，３プロパンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、シ
クロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルアクリレート、１，６ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、２-ヒドロキシ、１-アクリロキシ、３-メタクリロキシプロパン、β-カルボキシエチルアクリレート等のアクリル系モノマー、これらアクリル系モノマーのホモ重合体、アクリル系モノマーとスチレン、シリコン、ポリエステル等との共重合体が挙げられる。
メタクリル系樹脂としては、メタクリル酸、２-ヒドロキシエチルメタクリレート、２-ヒドロキシプロピルメタクリレート、２-ヒドロキシブチルメタクリレート、２-メタクリロイロキシエチルコハク酸、２-メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、モノ
２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、グリセリンジメタクリレート、２-ヒドロキシ-３-アクリロイロキ
シプロピルメタクリレート、２-ヒドロキシ-３アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物、ジグリセリンポリグリシジルエーテルメタクレート、３-クロロ-２-ヒドロキシプロピルメタクレート等のメタク
リル系モノマー、これらメタクリル系モノマーのホモ重合体、メタクリル系モノマーとスチレン、シリコン、ポリエステル等との共重合物が挙げられる。さらに、ジ２-メタクリ
ロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-アクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェートなどの（メタ）アクリル基を含むリン酸エステル、（メタ）アクリル酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、エステルなどを使用することも可能である。
２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、グリセリンジメタクリレート、２-ヒドロキシ-３-アクリロイロキ
シプロピルメタクリレート、２-ヒドロキシ-３アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物、ジグリセリンポリグリシジルエーテルメタクレート、３-クロロ-２-ヒドロキシプロピルメタクレート等のメタク
リル系モノマー、これらメタクリル系モノマーのホモ重合体、メタクリル系モノマーとスチレン、シリコン、ポリエステル等との共重合物が挙げられる。さらに、ジ２-メタクリ
ロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-アクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェートなどの（メタ）アクリル基を含むリン酸エステル、（メタ）アクリル酸のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、エステルなどを使用することも可能である。
なお、これら樹脂被覆材が好ましい理由は明らかではないが、（メタ）アクリル系樹脂は親水性であるため、金属酸化物粒子表面に結合しやすく、特に、特に水酸基を有する場合、この水酸基が金属酸化物粒子表面への樹脂被覆材の結合を容易にしているものと推測される。
樹脂被覆材は、通常、モノマーであっても、ある程度重合したオリゴマーやダイマーであっても、さらに重合が進んだポリマーであってもよい。重合が進んでいなくとも、メカノケミカル処理や加熱処理によって、重合は進行する。
有機溶媒
有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒を用いることができる。
有機溶媒
有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒を用いることができる。
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル等のエーテル類；酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセタート等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類；トルエン、キシレン等が挙げられる。
エーテル等のエーテル類；酢酸プルピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、酢酸イソペンチル、酢酸ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレングリコールモノアセタート等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル等のケトン類；トルエン、キシレン等が挙げられる。
なかでも、前記エーテル類、エステル類、ケトン類は樹脂の被覆効率がよく、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子に凝集粒子が少なく、分散性に優れ、沈降も起きず安定であるので好ましい。
また、前記エーテル類、エステル類、ケトン類は透明被膜形成用塗布液の溶媒として用いた場合、塗工性が良く、外観異常が起こりにくいことから多用され、このため得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルを塗布液用の溶媒に置換する必要が無いことから生産効率、経済性の点からも好ましい。
特にエーテル類はメカノケミカル処理において金属酸化物粒子が凝集しにくく、均一に樹脂被覆できるので好適に用いることができる。
混合比
メカノケミカル処理する際の樹脂被覆材の固形分としての濃度（ＣR）と金属酸化物粒
子の固形分としての濃度（ＣMO）の濃度比（ＣR）／（ＣMO）は０．００５〜０．５、さ
らには０．０１〜０．３の範囲にあることが好ましい。
メカノケミカル処理する際の樹脂被覆材の固形分としての濃度（ＣR）と金属酸化物粒
子の固形分としての濃度（ＣMO）の濃度比（ＣR）／（ＣMO）は０．００５〜０．５、さ
らには０．０１〜０．３の範囲にあることが好ましい。
濃度比（ＣR）／（ＣMO）が小さすぎると、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾル
およびこれを用いた透明被膜形成用塗布液での分散性、安定性が不充分となり、さらに得られる透明被膜も透明性が低く、ヘーズが高くなる場合がある。濃度比（ＣR）／（ＣMO
）が大きすぎると、さらに分散性、安定性、透明被膜の透明性、ヘーズが向上することもなく、用いる金属酸化物粒子の屈折率あるいは導電性等の特性が充分発揮できない場合がある。
およびこれを用いた透明被膜形成用塗布液での分散性、安定性が不充分となり、さらに得られる透明被膜も透明性が低く、ヘーズが高くなる場合がある。濃度比（ＣR）／（ＣMO
）が大きすぎると、さらに分散性、安定性、透明被膜の透明性、ヘーズが向上することもなく、用いる金属酸化物粒子の屈折率あるいは導電性等の特性が充分発揮できない場合がある。
また、メカノケミカル処理時の金属酸化物粒子と樹脂被覆材との全固形分濃度が１〜５０重量％、さらには２〜４５重量％の範囲にあることが好ましい。全固形分濃度が低すぎると、処理に長時間を要し、また全部の粒子を均一に処理することが困難となり、樹脂被覆が不均一になり、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルおよびこれを用いた透明被膜形成用塗布液での分散性、安定性が不充分となり、さらに得られる透明被膜も透明性が低く、ヘーズが高くなる場合がある。全固形分濃度が高すぎると、金属酸化物粒子の種類、溶媒、樹脂の種類によっては処理の進行に伴い急激に粘度が上昇したり、粒子が凝集することがあり、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルおよびこれを用いた透明被膜形成用塗布液での分散性、安定性が不充分となり、さらに得られる透明被膜も透明性が低く、ヘーズが高くなる場合がある。
メカノケミカル処理方法
本発明のメカノケミカル処理方法は、前記金属酸化物粒子、樹脂被覆材、比率および濃度を採用する以外は従来公知の方法を採用することができる。
メカノケミカル処理方法
本発明のメカノケミカル処理方法は、前記金属酸化物粒子、樹脂被覆材、比率および濃度を採用する以外は従来公知の方法を採用することができる。
例えば、ヘンシェルミキサー、ホモミキサー、ホモジナイザー、ビーズミル等に有機溶媒、金属酸化物粒子および樹脂被覆材を所定量計量し、高速で撹拌する。メカノケミカル処理では、粒子径が大きい方が効率的に処理できるので、比較的に大きな二次粒子となっている方が望ましいが、この限りではない。
撹拌速度は使用する装置、方式等によって異なるが、あまりに低速であると、金属酸化物粒子が二次粒子の場合には塊砕あるいは粉砕が不充分となり、得られる樹脂被覆金属酸化物粒子の粒子径が大きすぎたり、樹脂被覆量が不足したり、粒子と樹脂との結合が不充分となるためか樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの安定性が不充分となることがあり、このような樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルを用いた透明被膜形成用塗料の安定性が低下し、最終的に得られる透明被膜の透明性、ヘーズ、膜強度、耐擦傷性、基材との密着性等が不充分となることがある。
なお、従来、上記のような方法で樹脂を被覆する際に重合開始剤を添加したり、紫外線照射、プラズマ照射することが行われるが、重合開始剤を添加したり、紫外線照射すると被覆用樹脂が粒子表面に積層して被覆しない場合や、被覆しても樹脂の重合、硬化が進みすぎるためか、後述する透明被膜形成用塗布液に用いた場合、マトリックス成分との結合が起きないために透明被膜の強度、耐擦傷性、耐擦傷性、基材との密着性が低下するため好ましくない。
このようにして得られる樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径は５〜３００ｎｍ、さらには５〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
被覆層は少しで付着していれば良く、実質的に樹脂被覆前と後の金属酸化物粒子の平均粒子径は同じであってもよく、当然被覆後の平均粒子径は大きくなっていても良い。得られた粒子の平均粒子径が、上記範囲であれば、透明性やヘーズ、膜強度、耐擦傷性、基材との密着性が高く、所望の特性および用途の点で好適となる。
得られる樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの濃度は固形分として概ね１〜５０重量％、好ましくは２〜４５重量％の範囲にある。
なお濃度が薄いと透明被膜形成用塗布液の濃度が低くなりすぎて厚膜の透明被膜を形成できない場合があり、厚膜にするために塗布、乾燥、硬化を繰り返し行う必要が生じ、濃度が高すぎると、ゾルの安定性が不充分になる傾向がある。本発明では、得られた樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルは必要に応じて濃縮または希釈して用いることができる。
［透明被膜形成用塗布液］
本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、マトリックス形成成分と前記樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルと有機溶媒とを含んでなることを特徴としている。
樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾル
本発明の透明被膜形成用塗布液には前記した樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルを用いる。樹脂被覆金属酸化物粒子の透明被膜形成用塗布液中の固形分としての濃度は０．１〜５０重量％、さらには０．２〜４０重量％の範囲にあることが好ましい。この範囲あればゾルが塗布液中にマトリックス成分とともに均一に分散できるとともに、粒子の特性も充分に発揮でき、目的とする透明被膜を形成できる。
［透明被膜形成用塗布液］
本発明に係る透明被膜形成用塗布液は、マトリックス形成成分と前記樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルと有機溶媒とを含んでなることを特徴としている。
樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾル
本発明の透明被膜形成用塗布液には前記した樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルを用いる。樹脂被覆金属酸化物粒子の透明被膜形成用塗布液中の固形分としての濃度は０．１〜５０重量％、さらには０．２〜４０重量％の範囲にあることが好ましい。この範囲あればゾルが塗布液中にマトリックス成分とともに均一に分散できるとともに、粒子の特性も充分に発揮でき、目的とする透明被膜を形成できる。
なお、前記濃度が低すぎると、粒子の量が少ないために粒子の特性（耐擦傷性、低屈折率、高屈折率、導電性等）による耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合があり、高すぎても、マトリックス成分が少なく、基材との密着性、透明性、ヘーズ、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。
マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としては、有機樹脂系マトリックス形成成分が好適に用いられる。
マトリックス形成成分
マトリックス形成成分としては、有機樹脂系マトリックス形成成分が好適に用いられる。
有機樹脂系マトリックス形成成分として、具体的には塗料用樹脂として公知の熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂等のいずれも採用することができる。たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂などが挙げられる。さらにはこれら樹脂の２種以上の共重合体や変性体であってもよい。熱可塑性樹脂の場合、マトリックス形成成分はそのままマトリックス成分となり、硬化性樹脂の場合、一般にマトリックス形成成分は未硬化（重合）のモノマーがマトリックス形成成分となり、硬化（重合）物がマトリックス成分となる。
樹脂、熱可塑性樹脂等のいずれも採用することができる。たとえば、従来から用いられているポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、熱可塑性アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、酢酸ビニル樹脂、シリコーンゴムなどの熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、ブチラール樹脂、反応性シリコーン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性アクリル樹脂などの熱硬化性樹脂などが挙げられる。さらにはこれら樹脂の２種以上の共重合体や変性体であってもよい。熱可塑性樹脂の場合、マトリックス形成成分はそのままマトリックス成分となり、硬化性樹脂の場合、一般にマトリックス形成成分は未硬化（重合）のモノマーがマトリックス形成成分となり、硬化（重合）物がマトリックス成分となる。
これらの樹脂は、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂であってもよい。さらに、熱硬化性樹脂、あるいは紫外線硬化型のものであっても、電子線硬化型のものであってもよく、熱硬化性樹脂の場合、硬化触媒が含まれていてもよい。
本発明では、樹脂被覆金属酸化物粒子に用いた樹脂とマトリックス形成成分との結合性を有し、膜強度、耐擦傷性が向上することから有機樹脂系マトリックス形成成分として、具体的には水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基等の官能基を有する多官能(メ
タ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的には２−ヒドロキシ−３−アクリロイロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールポログリシジルエーテルアクリレート、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、２アクロイロキシエチルコハク酸、２アクロイロキシエチルフタル酸およびこれらの混合物あるいはこれら樹脂の２種以上の共重合体や変性体であってもよい。
タ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的には２−ヒドロキシ−３−アクリロイロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールポログリシジルエーテルアクリレート、ジエチルアミノメチルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、ブトキシジエチレングリコールメタクリレート、２アクロイロキシエチルコハク酸、２アクロイロキシエチルフタル酸およびこれらの混合物あるいはこれら樹脂の２種以上の共重合体や変性体であってもよい。
また、ビニル基、ウレタン基、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基、ＣＦ2基等の官
能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルアクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルアクリレート、２ブチル−２エチル−１，３プロパンジオールジグリシジルエーテルアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
能基を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル樹脂が挙げられ、具体的にはペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、トリフロロエチルメタクリレート、フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルアクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルアクリレート、２ブチル−２エチル−１，３プロパンジオールジグリシジルエーテルアクリレート等およびこれらの混合物が挙げられる。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分の濃度は、固形分として１〜６０重量％、さらには２〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。マトリックス形成成分の濃度が少なすぎると一回の塗布では所定の膜厚が得られないことがあり、塗布、乾燥を繰り返すと密着性等が不充分となったり、経済性において不利である。マトリックス形成成分の
濃度が高すぎると、得られる透明被膜の厚さが不均一になる傾向がある。
有機溶媒
本発明に用いる有機溶媒としては前記マトリックス形成成分、必要に応じて用いる重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともに前記した樹脂被覆金属酸化物粒子を均一に分散することができれば特に制限はなく、従来公知の溶媒を用いることができる。
濃度が高すぎると、得られる透明被膜の厚さが不均一になる傾向がある。
有機溶媒
本発明に用いる有機溶媒としては前記マトリックス形成成分、必要に応じて用いる重合開始剤を溶解あるいは分散できるとともに前記した樹脂被覆金属酸化物粒子を均一に分散することができれば特に制限はなく、従来公知の溶媒を用いることができる。
具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール類；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類、トルエン、キシレン等が挙げられる。
これらは単独で使用してもよく、また２種以上混合して使用することもできる。本発明では、樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造に好適に用いることのできる前記したエーテル類、エステル類、ケトン類が好ましい。これらエーテル類、エステル類、ケトン類を有機溶媒として用いると透明被膜形成用塗布液はマトリックス成分との相溶性に優れ、これを用いて得られる透明被膜は表面の均一性が高く、透明性、ヘーズ、耐擦傷性等に優れている。
透明被膜形成用塗布液中のマトリックス形成成分と樹脂被覆金属酸化物粒子、あるいは表面処理樹脂被覆金属酸化物粒子との合計濃度は、固形分として１〜６０重量％、さらには２〜５０重量％の範囲にあることが好ましい。前記合計濃度が少なすぎると、一回の塗布では所定の膜厚が得られないことがあり、塗布、乾燥を繰り返すと密着性等が不充分となったり、経済性において不利である。前記合計濃度が高すぎると得られる透明被膜の厚さが不均一になる場合がある。
重合開始剤
本発明では、上記樹脂被覆金属酸化物粒子、マトリックス形成成分とともに必要に応じて、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤としては、公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、例えば、ビス（2、4、6−トリメチルベンゾイル）フェニル
フォスフィンオキサイド、ビス（2、6−ジメトキシベンゾイル）2、4、4−トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ-メチル-2-メチル-フェニル-プロパン-1-ケトン、2、2-ジメトキシ-1、2-ジフェニルエタン-１-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-メチル-1-［4-(メチルチオ)フェニル］-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。重合開始剤の使用量は特に制限されない。
重合開始剤
本発明では、上記樹脂被覆金属酸化物粒子、マトリックス形成成分とともに必要に応じて、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤としては、公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、例えば、ビス（2、4、6−トリメチルベンゾイル）フェニル
フォスフィンオキサイド、ビス（2、6−ジメトキシベンゾイル）2、4、4−トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド、2−ヒドロキシ-メチル-2-メチル-フェニル-プロパン-1-ケトン、2、2-ジメトキシ-1、2-ジフェニルエタン-１-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-メチル-1-［4-(メチルチオ)フェニル］-2-モルフォリノプロパン-1-オン等が挙げられる。重合開始剤の使用量は特に制限されない。
上記した透明被膜形成用塗布液をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、硬化性樹脂の場合は、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。
形成される透明被膜の膜厚は、３０ｎｍ〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。
［透明被膜付基材］
本発明に係る透明被膜付基材は、基材と、基材上に形成された透明被膜とからなり、該
透明被膜が前記塗布液から形成された樹脂被覆金属酸化物粒子とマトリックス成分とからなることを特徴としている。
基材
本発明に用いる基材としては、従来公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、ガラス、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロポリオレフィン、ノルボルネン等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等があげられる。中でも樹脂系基材を好適に用いることができる。また、このような基材上に、他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。他の被膜としては従来公知のプライマー膜、ハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜等が挙げられる。
樹脂被覆金属酸化物粒子
樹脂被覆金属酸化物粒子としては前記したとおりである。
［透明被膜付基材］
本発明に係る透明被膜付基材は、基材と、基材上に形成された透明被膜とからなり、該
透明被膜が前記塗布液から形成された樹脂被覆金属酸化物粒子とマトリックス成分とからなることを特徴としている。
基材
本発明に用いる基材としては、従来公知のものを特に制限なく使用することが可能であり、ガラス、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロポリオレフィン、ノルボルネン等のプラスチックシート、プラスチックフィルム等、プラスチックパネル等があげられる。中でも樹脂系基材を好適に用いることができる。また、このような基材上に、他の被膜が形成された被膜付基材を用いこともできる。他の被膜としては従来公知のプライマー膜、ハードコート膜、高屈折率膜、導電性膜等が挙げられる。
樹脂被覆金属酸化物粒子
樹脂被覆金属酸化物粒子としては前記したとおりである。
透明被膜中の樹脂被覆金属酸化物微粒子の含有量は固形分として０．２〜９０重量％、さらには０．５〜８０重量％の範囲にあることが好ましい。含有量が少なすぎると、粒子の量が少ないために粒子の特性（耐擦傷性向上、低屈折率、高屈折率、導電性等）による耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合があり、多すぎてもマトリックス成分が少なく、基材との密着性、透明性、ヘーズ、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。
マトリックス成分
マトリックス成分は、前記有機樹脂系マトリックス形成成分に由来するものであり、詳細は前記したとおりである。
マトリックス成分
マトリックス成分は、前記有機樹脂系マトリックス形成成分に由来するものであり、詳細は前記したとおりである。
透明被膜中のマトリックス成分の含有量は固形分として１０〜９９．８重量％、さらには２０〜９９．５重量％の範囲にあることが好ましい。
透明被膜中のマトリックス成分の含有量が少なすぎると、基材との密着性、透明性、ヘーズ、耐擦傷性等が不充分となる場合がある。含有量が多すぎると、粒子の量が少ないために粒子の特性（耐擦傷性、低屈折率、高屈折率、導電性等）による耐擦傷性、反射防止性能、帯電防止性能等が不充分となる場合がある。
本発明に係る透明被膜の膜厚は、用途によっても異なるが概ね３０ｎｍ〜２０μｍ、さらには、７０ｎｍ〜１５μｍの範囲にあることが好ましい。
透明被膜の膜厚が薄すぎると、用途によっては膜強度、耐擦傷性が不充分となる場合がある。透明被膜の膜厚が厚すぎると、透明被膜にクラックを生じたり、プラスチック等の基材ではカーリング（湾曲あるいは反り）を生じる場合がある。
本発明に係る透明被膜付基材は、前記した透明被膜形成用塗布液を基材上に塗布し、乾燥し、硬化させることによって製造することができる。
具体的には、透明被膜形成用塗料をディップ法、スプレー法、スピナー法、ロールコート法、バーコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法等の周知の方法で基材に塗布し、乾燥し、紫外線照射、加熱処理等常法によって硬化させることによって透明被膜を形成することができる。防弦性を有する透明被膜付基材を製造する場合はロールコート法、スリットコーター印刷法、グラビア印刷法、マイクログラビア印刷法が推奨される。
さらに、本発明の透明被膜付基材には、基材と前記透明被膜との間に前記透明被膜と異なる他の被膜を設けることができる。他の被膜としては、従来公知のプライマー膜、ハー
ドコート膜、高屈折率膜、導電性膜、低屈折率膜、アンチグレア膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜等が挙げられる。
ドコート膜、高屈折率膜、導電性膜、低屈折率膜、アンチグレア膜、赤外線遮蔽膜、紫外線遮蔽膜等が挙げられる。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[実施例１]
樹脂被覆粒子(1)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(1)の調製
純水８０６０ｇに硝酸アンモニウム１３ｇと１５％アンモニア水２０ｇを入れ攪拌し、５０℃に昇温した。この中に純水４２９０ｇに錫酸カリウム１５１９ｇを溶解した液を１０時間かけてローラーポンプで添加した。このときｐＨコントローラーでｐＨを８．８に保つよう濃度１０重量％の硝酸を添加して調整した。添加終了後１時間５０℃をキープした後、濃度１０重量％の硝酸を添加しｐＨを３．０まで下げた。次に限外濾過膜で濾水電導度が１０μＳ／ｃｍになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は６０００ｇで固形分（ＳｎＯ2）濃度は１２重量％であった。こ
のスラリーの中に濃度１６重量％のリン酸水溶液２６４ｇを添加し、０．５時間攪拌した。これを１０５℃で２時間乾燥し、ついで７００℃で２時間焼成して、Ｐドープ酸化錫微粒子(1)粉末を調製した。
[実施例１]
樹脂被覆粒子(1)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(1)の調製
純水８０６０ｇに硝酸アンモニウム１３ｇと１５％アンモニア水２０ｇを入れ攪拌し、５０℃に昇温した。この中に純水４２９０ｇに錫酸カリウム１５１９ｇを溶解した液を１０時間かけてローラーポンプで添加した。このときｐＨコントローラーでｐＨを８．８に保つよう濃度１０重量％の硝酸を添加して調整した。添加終了後１時間５０℃をキープした後、濃度１０重量％の硝酸を添加しｐＨを３．０まで下げた。次に限外濾過膜で濾水電導度が１０μＳ／ｃｍになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は６０００ｇで固形分（ＳｎＯ2）濃度は１２重量％であった。こ
のスラリーの中に濃度１６重量％のリン酸水溶液２６４ｇを添加し、０．５時間攪拌した。これを１０５℃で２時間乾燥し、ついで７００℃で２時間焼成して、Ｐドープ酸化錫微粒子(1)粉末を調製した。
得られたＰドープ酸化錫微粒子(1)の平均一次粒子径は１５ｎｍ、平均二次粒子径は０
．４５μｍ、体積抵抗値は５０００Ω・ｃｍであった。
樹脂被覆
Ｐドープ酸化錫微粒子粉末２０１ｇ、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）３７４ｇ、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシ
ッドホスフェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇを、ガラスビーズ（０．４ｍｍ）１１３５ｇを入れたビーズミルに充填し、１７００ｒｐｍの回転数で1時間処理した後、ガラスビーズを分離し、ついでＰＧＭＥを加えて固形分濃度３０重
量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾルを調製した。
．４５μｍ、体積抵抗値は５０００Ω・ｃｍであった。
樹脂被覆
Ｐドープ酸化錫微粒子粉末２０１ｇ、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）３７４ｇ、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシ
ッドホスフェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇを、ガラスビーズ（０．４ｍｍ）１１３５ｇを入れたビーズミルに充填し、１７００ｒｐｍの回転数で1時間処理した後、ガラスビーズを分離し、ついでＰＧＭＥを加えて固形分濃度３０重
量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾルを調製した。
樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
なお、安定性は下記の方法、評価基準により評価した。また平均粒子径は大塚電子製：レーザー粒径解析システム（ＰＡＲ-III）で測定した。
安定性評価
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾルを透明性容器に充
填して静置し、容器の下部に沈降粒子の状況を観察し、以下の基準で評価し、結果を表１に示した。
安定性評価
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾルを透明性容器に充
填して静置し、容器の下部に沈降粒子の状況を観察し、以下の基準で評価し、結果を表１に示した。
１週間以上粒子の沈降層が認められなかった。：◎
３〜６日で粒子の沈降層が認められた。 ：○
１〜２日で粒子の沈降層が認められた。 ：△
１日以内に粒子の沈降層が認められた。 ：×
透明被膜形成用塗布液(1)の調製
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾル２３３．３ｇに、
グリコール系アクリレート樹脂としてポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学(株)製：ＮＫエステルＡ−４００）６ｇと、非グリコール系２官能アクリレート樹脂として１,６−ヘサンジオールジアクリレート（日本化薬(株)製：カヤラッドＫＳ−ＨＤＤ
Ａ）３ｇと、非グリコール系６官能アクリレート樹脂としてジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ-６Ａ）２４ｇと、イソ
プロピルアルコール４０ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇと光開始剤２．４．６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ビ−エーエスジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）１．５ｇとを混合して透明被膜形成用塗布液(1)を調
製した。
透明被膜付基材(F-1)の製造
透明被膜形成用塗布液(1)をＰＥＴフィルム（厚さ：１８８μｍ、屈折率：１．６５全
光線透過率９０．０％、ヘーズ０．６％）にバーコーター法（バー＃１４）で塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を搭載した紫外線照射装置（日本電池製ＵＶ照射装置ＣＳ３０Ｌ２１−３）で６００ｍＪ/ｃｍ2照射して硬化させ、透明被膜付基材(F-1)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透
明被膜の表面抵抗を、表面抵抗計（三菱化学（株）製：ハイレスタ）にて測定し、結果を表１に示す。
３〜６日で粒子の沈降層が認められた。 ：○
１〜２日で粒子の沈降層が認められた。 ：△
１日以内に粒子の沈降層が認められた。 ：×
透明被膜形成用塗布液(1)の調製
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(1)分散ゾル２３３．３ｇに、
グリコール系アクリレート樹脂としてポリエチレングリコールジアクリレート（新中村化学(株)製：ＮＫエステルＡ−４００）６ｇと、非グリコール系２官能アクリレート樹脂として１,６−ヘサンジオールジアクリレート（日本化薬(株)製：カヤラッドＫＳ−ＨＤＤ
Ａ）３ｇと、非グリコール系６官能アクリレート樹脂としてジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ-６Ａ）２４ｇと、イソ
プロピルアルコール４０ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇと光開始剤２．４．６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ビ−エーエスジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）１．５ｇとを混合して透明被膜形成用塗布液(1)を調
製した。
透明被膜付基材(F-1)の製造
透明被膜形成用塗布液(1)をＰＥＴフィルム（厚さ：１８８μｍ、屈折率：１．６５全
光線透過率９０．０％、ヘーズ０．６％）にバーコーター法（バー＃１４）で塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を搭載した紫外線照射装置（日本電池製ＵＶ照射装置ＣＳ３０Ｌ２１−３）で６００ｍＪ/ｃｍ2照射して硬化させ、透明被膜付基材(F-1)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透
明被膜の表面抵抗を、表面抵抗計（三菱化学（株）製：ハイレスタ）にて測定し、結果を表１に示す。
また、全光線透過率およびヘーズをヘーズメーター（スガ試験機（株）製）により測定し、結果を表１に示す。さらに、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表１に示す。
鉛筆硬度の測定
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
耐擦傷性の測定
＃００００スチールウールを用い、荷重５００ｇ／ｃｍ2で５０回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表１に示す。
＃００００スチールウールを用い、荷重５００ｇ／ｃｍ2で５０回摺動し、膜の表面を
目視観察し、以下の基準で評価し、結果を表１に示す。
評価基準：
筋条の傷が認められない ：◎
筋条に傷が僅かに認められる：○
筋条に傷が多数認められる ：△
面が全体的に削られている ：×
密着性
透明被膜付基材(F-1)の表面にナイフで縦横１ｍｍの間隔で１１本の平行な傷を付け１
００個の升目を作り、これにセロハンテープ（登録商標）を接着し、ついで、セロハンテープ（登録商標）を剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の４段階に分類することによって密着性を評価した。結果を表１に示す。
筋条の傷が認められない ：◎
筋条に傷が僅かに認められる：○
筋条に傷が多数認められる ：△
面が全体的に削られている ：×
密着性
透明被膜付基材(F-1)の表面にナイフで縦横１ｍｍの間隔で１１本の平行な傷を付け１
００個の升目を作り、これにセロハンテープ（登録商標）を接着し、ついで、セロハンテープ（登録商標）を剥離したときに被膜が剥離せず残存している升目の数を、以下の４段階に分類することによって密着性を評価した。結果を表１に示す。
残存升目の数９５個以上 ：◎
残存升目の数９０〜９４個：○
残存升目の数８５〜８９個：△
残存升目の数８４個以下 ：×
[実施例２]
樹脂被覆粒子(2)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）７．３ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(2)分散ゾルを調製した。固形
分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(2)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐド
ープ酸化錫微粒子(2)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
残存升目の数９０〜９４個：○
残存升目の数８５〜８９個：△
残存升目の数８４個以下 ：×
[実施例２]
樹脂被覆粒子(2)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）７．３ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(2)分散ゾルを調製した。固形
分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(2)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐド
ープ酸化錫微粒子(2)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(2)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(2
)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(2)を調製した。
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(2
)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(2)を調製した。
透明被膜付基材(F-2)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-2)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-2)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例３]
樹脂被覆粒子(3)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）２９．０ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)分散ゾルを調製した。
樹脂被覆粒子(3)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）２９．０ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)分散ゾルの安定性、樹脂被
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(3)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)分散液
を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(3)を調製した。
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(3)分散液
を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(3)を調製した。
透明被膜付基材(F-3)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-3)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例４]
樹脂被覆粒子(4)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート１４．５ｇの代わりに、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート（新
中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）１４．５ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)分散ゾルを調製した。
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-3)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例４]
樹脂被覆粒子(4)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート１４．５ｇの代わりに、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート（新
中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）１４．５ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)分散ゾルの安定性、樹脂被
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(4)の調製
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)分散ゾル２３３．３ｇに、
グリコール系アクリレート樹脂としてポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学(株)製：ＮＫエステルＡＰＧ−７００）６ｇと、非グリコール系２官能アクリレート樹脂としてジメチロールトリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ）３ｇと、非グリコール系４官能アクリレート樹脂としてペンタエリスリトールテトラアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ-４Ａ
）２４ｇと、イソプロピルアルコール４０ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇと光開始剤２．４．６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ビ−エーエスジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）１．５ｇとを混合して透明被膜形成用塗布液(4)を調製した。
透明被膜付基材(F-4)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-4)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例５]
樹脂被覆粒子(5)分散ゾルの調製
実施例４において、被覆用樹脂２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート（
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）７．３ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(4)分散ゾル２３３．３ｇに、
グリコール系アクリレート樹脂としてポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学(株)製：ＮＫエステルＡＰＧ−７００）６ｇと、非グリコール系２官能アクリレート樹脂としてジメチロールトリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ）３ｇと、非グリコール系４官能アクリレート樹脂としてペンタエリスリトールテトラアクリレート（共栄社化学(株)製：ライトアクリレートＤＰＥ-４Ａ
）２４ｇと、イソプロピルアルコール４０ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル３０ｇと光開始剤２．４．６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ビ−エーエスジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）１．５ｇとを混合して透明被膜形成用塗布液(4)を調製した。
透明被膜付基材(F-4)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-4)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例５]
樹脂被覆粒子(5)分散ゾルの調製
実施例４において、被覆用樹脂２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート（
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）７．３ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)分散ゾルの安定性、樹脂被
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(5)の調製
実施例４において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(5)を調製した。
透明被膜付基材(F-5)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-5)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例６]
樹脂被覆粒子(6)分散ゾルの調製
実施例４において、被覆用樹脂２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート（
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）２９ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)分散ゾルを調製した。
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(5)の調製
実施例４において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(5)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(5)を調製した。
透明被膜付基材(F-5)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-5)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例６]
樹脂被覆粒子(6)分散ゾルの調製
実施例４において、被覆用樹脂２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート（
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）２９ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)分散ゾルの安定性、樹脂被
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(6)の調製
実施例４において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(6)を調製した。
透明被膜付基材(F-6)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-6)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例７]
樹脂被覆粒子(7)分散ゾルの調製
実施例１において、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）３７４ｇの代わりにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）３７４ｇを用い、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（共栄社化学（株）製：
ライトエステルＰ-2Ｍ）７．３ｇと、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレー
ト（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）７．３ｇとを混合して使用した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)分散ゾルを調
製した。
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(6)の調製
実施例４において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(6)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(6)を調製した。
透明被膜付基材(F-6)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-6)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例７]
樹脂被覆粒子(7)分散ゾルの調製
実施例１において、有機溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）３７４ｇの代わりにメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）３７４ｇを用い、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（共栄社化学（株）製：
ライトエステルＰ-2Ｍ）７．３ｇと、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレー
ト（新中村化学工業（株）製：ＮＫエステル７０２Ａ）７．３ｇとを混合して使用した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)分散ゾルを調
製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)分散ゾルの安定性、樹脂被
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(7)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(7)を調製した。
透明被膜付基材(F-7)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-7)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例８]
樹脂被覆粒子(8)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート１４．５ｇの代わりに２-アクリロイロキシエチルコハク酸（共栄社（株）製：ラ
イトアクリレートＨＯＡ−ＭＳ）１４．５ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)分散ゾルを調製した。
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(7)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(7)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(7)を調製した。
透明被膜付基材(F-7)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-7)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例８]
樹脂被覆粒子(8)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート１４．５ｇの代わりに２-アクリロイロキシエチルコハク酸（共栄社（株）製：ラ
イトアクリレートＨＯＡ−ＭＳ）１４．５ｇを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)分散ゾルの安定性、樹脂被
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(8)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(8)を調製した。
透明被膜付基材(F-8)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(8)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-4)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例９]
樹脂被覆粒子(9)分散ゾルの調製
実施例１において、金属酸化物粒子としてアンチモンドープ酸化錫（ATO）微粒子（日
揮触媒化成（株）製：ＴＬ−９８ＦＤＡＲ、固形分２０重量％、平均粒子径８ｎｍ）を１０５℃で２時間乾燥し、ついで、２００℃で２時間加熱処理した。この時、平均一次粒子径は８ｎｍ、平均二次粒子径は０．２５μｍであった。
覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(8)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(8)分散ゾ
ルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(8)を調製した。
透明被膜付基材(F-8)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(8)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-4)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例９]
樹脂被覆粒子(9)分散ゾルの調製
実施例１において、金属酸化物粒子としてアンチモンドープ酸化錫（ATO）微粒子（日
揮触媒化成（株）製：ＴＬ−９８ＦＤＡＲ、固形分２０重量％、平均粒子径８ｎｍ）を１０５℃で２時間乾燥し、ついで、２００℃で２時間加熱処理した。この時、平均一次粒子径は８ｎｍ、平均二次粒子径は０．２５μｍであった。
この加熱処理した粒子２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆アンチモンドープ酸化錫微粒子(9)分散ゾルを調製した。固形分濃度３０重量％の樹
脂被覆アンチモンドープ酸化錫微粒子(9)分散ゾルの安定性、樹脂被覆アンチモンドープ
酸化錫微粒子(9)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(9)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆アンチモンドープ酸化錫微粒子(9)分散液を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(9)を調製した。
透明被膜付基材(F-9)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(9)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-9)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例１０]
樹脂被覆粒子(10)分散ゾルの調製
実施例１において、金属酸化物粒子としてスズドープ酸化インジウム（ＩTＯ）微粒子
（日揮触媒化成（株）製：ＥＬＣＯＭ ＴＬ−１３１、平均粒子径２０ｎｍ）を２００℃で２時間加熱処理した。この時、平均一次粒子径は２０ｎｍ、平均二次粒子径は０．８μｍであった。
脂被覆アンチモンドープ酸化錫微粒子(9)分散ゾルの安定性、樹脂被覆アンチモンドープ
酸化錫微粒子(9)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(9)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆アンチモンドープ酸化錫微粒子(9)分散液を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(9)を調製した。
透明被膜付基材(F-9)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(9)を用いた以外は同様にして透明被膜付基
材(F-9)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の
全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[実施例１０]
樹脂被覆粒子(10)分散ゾルの調製
実施例１において、金属酸化物粒子としてスズドープ酸化インジウム（ＩTＯ）微粒子
（日揮触媒化成（株）製：ＥＬＣＯＭ ＴＬ−１３１、平均粒子径２０ｎｍ）を２００℃で２時間加熱処理した。この時、平均一次粒子径は２０ｎｍ、平均二次粒子径は０．８μｍであった。
この加熱処理した粒子２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆スズドープ酸化インジウム微粒子(10)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆スズドープ酸化インジウム微粒子(10)分散ゾルの安定性、樹脂被覆スズドープ酸化インジウム微粒子(10)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(10)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆スズドープ酸化インジウム微粒子(10)分散液を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(10)を調製した。
透明被膜付基材(F-10)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(10)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-10)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
透明被膜形成用塗布液(10)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆スズドープ酸化インジウム微粒子(10)分散液を用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(10)を調製した。
透明被膜付基材(F-10)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(10)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-10)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例１１]
樹脂被覆粒子(11)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(2)の調製
純水８０６０ｇに硝酸アンモニウム１３ｇと１５％アンモニア水２０ｇを入れ攪拌し、５０℃に昇温した。この中に純水４２９０ｇに錫酸カリウム１５１９ｇを溶解した液を１０時間かけてローラーポンプで添加した。このときｐＨコントローラーでｐＨを８．２に保つよう濃度１０重量％の硝酸を添加して調整した。添加終了後１時間５０℃をキープした後、濃度１０重量％の硝酸を添加しｐＨを３．０まで下げた。次に限外濾過膜で濾水電導度が１０μＳ／ｃｍになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は４８００ｇで固形分（ＳｎＯ2）濃度は１５重量％であった。こ
のスラリーの中に濃度１６重量％のリン酸水溶液２６４ｇを添加し、０．５時間攪拌した。これを乾燥し、７００℃で２時間焼成して、Ｐドープ酸化錫微粒子(2)粉末を調製した
。
[実施例１１]
樹脂被覆粒子(11)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(2)の調製
純水８０６０ｇに硝酸アンモニウム１３ｇと１５％アンモニア水２０ｇを入れ攪拌し、５０℃に昇温した。この中に純水４２９０ｇに錫酸カリウム１５１９ｇを溶解した液を１０時間かけてローラーポンプで添加した。このときｐＨコントローラーでｐＨを８．２に保つよう濃度１０重量％の硝酸を添加して調整した。添加終了後１時間５０℃をキープした後、濃度１０重量％の硝酸を添加しｐＨを３．０まで下げた。次に限外濾過膜で濾水電導度が１０μＳ／ｃｍになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は４８００ｇで固形分（ＳｎＯ2）濃度は１５重量％であった。こ
のスラリーの中に濃度１６重量％のリン酸水溶液２６４ｇを添加し、０．５時間攪拌した。これを乾燥し、７００℃で２時間焼成して、Ｐドープ酸化錫微粒子(2)粉末を調製した
。
得られたＰドープ酸化錫微粒子(2)の平均一次粒子径は２５ｎｍ、平均二次粒子径は１
．２μｍ、体積抵抗値は４０００Ω・ｃｍであった。
．２μｍ、体積抵抗値は４０００Ω・ｃｍであった。
Ｐドープ酸化錫微粒子(2)２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の
樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(11)分散ゾルを調製した。
樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(11)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(11)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(11)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(11)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(11)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(11)を調製した。
透明被膜付基材(F-11)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(11)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-11)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
透明被膜形成用塗布液(11)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(11)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(11)を調製した。
透明被膜付基材(F-11)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(11)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-11)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例１２] （原料金属酸化物粒子の種類：酸化チタン）
樹脂被覆粒子(12)分散ゾルの調製
酸化チタン微粒子(1)の調製
７３２ｇの４塩化チタンを純水で希釈してＴｉＯ2として１．０重量％含有する水溶液
を得た。これを撹拌しながら、濃度１５重量％のアンモニア水を添加し、ｐＨ９．５の白色スラリーを得た。このスラリーを濾過洗浄し、ＴｉＯ2として濃度１０．２重量％の水
和酸化チタンゲルのケーキを得た。このケーキと濃度５％過酸化水素液１６０００ｇを混合し、ついで８０℃で２時間加熱して溶解し、ＴｉＯ2として濃度１．０重量％のペルオ
キソチタン酸水溶液を得た。ついで、オートクレーブにて、１５０℃で１０時間処理して酸化チタンコロイド粒子分散液を調製した。ついで、限外濾過膜にて洗浄し、濃縮した後、これを乾燥し、６００℃で２時間焼成して、酸化チタン微粒子(1)粉末を調製した。
[実施例１２] （原料金属酸化物粒子の種類：酸化チタン）
樹脂被覆粒子(12)分散ゾルの調製
酸化チタン微粒子(1)の調製
７３２ｇの４塩化チタンを純水で希釈してＴｉＯ2として１．０重量％含有する水溶液
を得た。これを撹拌しながら、濃度１５重量％のアンモニア水を添加し、ｐＨ９．５の白色スラリーを得た。このスラリーを濾過洗浄し、ＴｉＯ2として濃度１０．２重量％の水
和酸化チタンゲルのケーキを得た。このケーキと濃度５％過酸化水素液１６０００ｇを混合し、ついで８０℃で２時間加熱して溶解し、ＴｉＯ2として濃度１．０重量％のペルオ
キソチタン酸水溶液を得た。ついで、オートクレーブにて、１５０℃で１０時間処理して酸化チタンコロイド粒子分散液を調製した。ついで、限外濾過膜にて洗浄し、濃縮した後、これを乾燥し、６００℃で２時間焼成して、酸化チタン微粒子(1)粉末を調製した。
酸化チタン微粒子(1)の平均一次粒子径は６０ｎｍ、平均二次粒子径は３．０μｍであ
った。
った。
酸化チタン微粒子(1)２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂
被覆酸化チタン微粒子(12)分散ゾルを調製した。
被覆酸化チタン微粒子(12)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(12)分散ゾルの安定性、樹脂被覆酸化チタン微粒子(12)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(12)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(12)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(12)を調製した。
透明被膜付基材(F-12)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(12)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-12)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
透明被膜形成用塗布液(12)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(12)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(12)を調製した。
透明被膜付基材(F-12)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(12)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-12)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[実施例１３]
樹脂被覆粒子(13)分散ゾルの調製
酸化ジルコニウム微粒子の調製
純水２４３２０オキシ塩化ジルコニウム８水塩（ＺrＯＣｌ2・８Ｈ2Ｏ）６５５ｇを溶
解し、これにリンゴ酸２７ｇを添加し、ついで、濃度１０重量％のＫＯＨ水溶液３１３０ｇを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）を調製した。このときの分散液のｐＨは１０.５、温度は１９℃であった。
[実施例１３]
樹脂被覆粒子(13)分散ゾルの調製
酸化ジルコニウム微粒子の調製
純水２４３２０オキシ塩化ジルコニウム８水塩（ＺrＯＣｌ2・８Ｈ2Ｏ）６５５ｇを溶
解し、これにリンゴ酸２７ｇを添加し、ついで、濃度１０重量％のＫＯＨ水溶液３１３０ｇを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）を調製した。このときの分散液のｐＨは１０.５、温度は１９℃であった。
ついで、限外濾過膜法で電導度が２８０μＳ／ｃｍになるまで洗浄した。つぎに、このジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）に陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ＳＫ１−ＢＨ）９５０ｇを加え脱イオンした。ついで陽イオン交換樹脂を分離した後、陰イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ＳＡＮＵＰＣ）５００ｇを加え脱イオンした。
このようにして得られた洗浄ジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）の電導度は１０μＳ／ｃｍ、ｐＨは６であった。
ついで、洗浄ジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）に、超音波を１時間照射してヒドロゲルの分散処理をした後、オートクレーブに充填し、２００℃で２ 時間熟成した。このとき、電導度は６４０μＳ／ｃｍ、ｐＨは２.５３であった。
ついで、陰イオン交換樹脂（ 三菱化学（株）製：ＳＡＮＵＰＣ）１１００ｇを加えて
脱イオンを行い、ついで純水３７５００ｇを供給しながら限外濾過膜法で洗浄した。このときの電導度は１６μＳ／ｃｍ 、ｐＨは３．９であった。
脱イオンを行い、ついで純水３７５００ｇを供給しながら限外濾過膜法で洗浄した。このときの電導度は１６μＳ／ｃｍ 、ｐＨは３．９であった。
ついで、上記熟成し、洗浄した分散液をＺrＯ2濃度１重量％に調整し、これに濃度２重量％ のリンゴ酸水溶液１３４０ｇを加え、超音波を１ 時間照射してヒドロゲルの分散処理をした後、オートクレーブに充填し、２００℃で２時間水熱処理をした。このとき、電導度は６４０μＳ／ｃｍ、ｐＨは２.５３であった。
水熱処理した分散液に陰イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ＳＡＮＵＰＣ）１１００ｇを加えて脱イオンを行い、ついで純水３７５００ｇを供給しながら限外濾過膜法で洗浄した。このときの電導度は４７μＳ／ｃｍ、ｐＨは３.４であった。
ついで、限外濾過膜にて濃縮した後、これを１０５℃で乾燥し、さらに２００℃で２時間加熱処理して、酸化ジルコニウム微粒子粉末を調製した。
酸化ジルコニウム微粒子の平均一次粒子径は２０ｎｍ、平均二次粒子径は１．５μｍであった。
酸化ジルコニウム微粒子２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(13)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(13)分散ゾルの安定性、樹脂被覆酸化チタン微粒子(13)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(13)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(13)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(13)を調製した。
透明被膜付基材(F-13)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(13)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-13)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
透明被膜形成用塗布液(13)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(13)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(13)を調製した。
透明被膜付基材(F-13)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(13)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(F-13)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[比較例１]
カップリング剤処理粒子(R1)分散ゾルの調製
実施例１と同様にして調製したＰドープ酸化錫微粒子粉末２１７ｇ、イオン交換水３３５ｇを２Ｌガラスビーカーに入れ、濃度２０重量％のＫＯＨ水溶液５０ｇを加えた後、石英ビーズ（０．１５ｍｍ）１０００ｇを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、３２５メッシュ（目開き４４ミクロン）のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水１５６０ｇで洗浄した液を充分に混合し、この液を９０℃１時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂９６ｇ
を入れ1時間攪拌した後、陽イオン樹脂を分離してＰドープ酸化錫微粒子水分散液（濃度
１０重量％）を得た。
[比較例１]
カップリング剤処理粒子(R1)分散ゾルの調製
実施例１と同様にして調製したＰドープ酸化錫微粒子粉末２１７ｇ、イオン交換水３３５ｇを２Ｌガラスビーカーに入れ、濃度２０重量％のＫＯＨ水溶液５０ｇを加えた後、石英ビーズ（０．１５ｍｍ）１０００ｇを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、３２５メッシュ（目開き４４ミクロン）のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水１５６０ｇで洗浄した液を充分に混合し、この液を９０℃１時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂９６ｇ
を入れ1時間攪拌した後、陽イオン樹脂を分離してＰドープ酸化錫微粒子水分散液（濃度
１０重量％）を得た。
固形分濃度１０重量％のＰドープ酸化錫微粒子水分ゾル２０００ｇにカップリング剤として正珪酸エチル（ＴＥＯＳ）（多摩化学製：エチルシリケート２８、ＳiＯ2成分２８．８重量％）２０．８ｇ（Ｐドープ酸化錫微粒子との重量比＝３／１００）とメタノール２０００ｇを入れ５０℃で１８時間攪拌した。
ついで、γ-アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学（株）製：ＫＢＭ
−５１０３、ＳｉO2成分８１．２重量％）７．４ｇを入れ、再び５０℃で１８時間攪拌して表面処理を行った。このあと、エタノールに溶媒置換して固形分濃度３０重量％のシランカップリング剤で表面処理したＰドープ酸化錫微粒子(R1)分散ゾルを調製した。
−５１０３、ＳｉO2成分８１．２重量％）７．４ｇを入れ、再び５０℃で１８時間攪拌して表面処理を行った。このあと、エタノールに溶媒置換して固形分濃度３０重量％のシランカップリング剤で表面処理したＰドープ酸化錫微粒子(R1)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％のシランカップリング剤で表面処理したＰドープ酸化錫微粒子(R1)分散ゾルの安定性、Ｐドープ酸化錫微粒子(R1)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R1)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％のシランカップリング剤で表面処理したＰドープ酸化錫微粒子(R1)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R1)を調製した。
透明被膜付基材(RF-1)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-1)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例２]
樹脂被覆粒子(R2)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇの代わりに非アクリル系樹脂ポリビニルピロリドン（関東化学製：K-30、平均分子量10000）１４．５ｇを混合
した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)分散ゾルを調製した。
透明被膜形成用塗布液(R1)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％のシランカップリング剤で表面処理したＰドープ酸化錫微粒子(R1)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R1)を調製した。
透明被膜付基材(RF-1)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-1)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例２]
樹脂被覆粒子(R2)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇの代わりに非アクリル系樹脂ポリビニルピロリドン（関東化学製：K-30、平均分子量10000）１４．５ｇを混合
した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)分散ゾルの安定性、Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R2)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R2)を調製した。
透明被膜付基材(RF-2)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-2)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例３]
樹脂被覆粒子(R3)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇの代わりに非アクリル系樹脂ポリビニルアルコール（関東化学製：平均分子量10000）１４．５ｇを混合した以
外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R3)分散ゾルを調製した。
透明被膜形成用塗布液(R2)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R2)を調製した。
透明被膜付基材(RF-2)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R2)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-2)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例３]
樹脂被覆粒子(R3)分散ゾルの調製
実施例１において、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフ
ェート（共栄社化学（株）製：ライトエステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇの代わりに非アクリル系樹脂ポリビニルアルコール（関東化学製：平均分子量10000）１４．５ｇを混合した以
外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R3)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R3)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R3)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R3)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R3)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R3)を調製した。
透明被膜付基材(RF-3)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-3)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
透明被膜形成用塗布液(R3)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R3)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R3)を調製した。
透明被膜付基材(RF-3)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R3)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-3)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。
得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[比較例４]
樹脂被覆粒子(R4)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(R1)の調製
実施例１において、８０℃で２時間乾燥した後、７００℃で２時間焼成しなかった以外は同様にしてＰドープ酸化錫微粒子(R1)を調製した。
[比較例４]
樹脂被覆粒子(R4)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(R1)の調製
実施例１において、８０℃で２時間乾燥した後、７００℃で２時間焼成しなかった以外は同様にしてＰドープ酸化錫微粒子(R1)を調製した。
得られたＰドープ酸化錫微粒子(R1)の平均一次粒子径は１５ｎｍ、平均二次粒子径は０．０３５μ、体積抵抗値は６０００Ω・ｃｍであった。
ついで、Ｐドープ酸化錫微粒子(1)２１７ｇ、イオン交換水３３５ｇを２Ｌガラスビー
カーに入れ、濃度２０重量％のＫＯＨ水溶液５０ｇを加えた後、石英ビーズ（０．１５ｍ
ｍ）１０００ｇを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、３２５メッシュ（目開き４４ミクロン）のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水１５６０ｇで洗浄した液を充分に混合し、この液を９０℃１時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪
拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪拌した
後、陽イオン樹脂を分離してＰドープ酸化錫微粒子水分散液（濃度１０重量％）を得た。
カーに入れ、濃度２０重量％のＫＯＨ水溶液５０ｇを加えた後、石英ビーズ（０．１５ｍ
ｍ）１０００ｇを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、３２５メッシュ（目開き４４ミクロン）のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水１５６０ｇで洗浄した液を充分に混合し、この液を９０℃１時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪
拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪拌した
後、陽イオン樹脂を分離してＰドープ酸化錫微粒子水分散液（濃度１０重量％）を得た。
つぎに、Ｐドープ酸化錫微粒子水分散液をプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）に溶媒置換した。この時固形分濃度は３５重量％であった。ついで、固形分濃度は３５重量％のＰドープ酸化錫微粒子ＰＧＭＥ分散液５７５ｇと、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（共栄社化学（株）製：ライトエス
テルＰ-2Ｍ）１４．５ｇを、ガラスビーズ（０．４ｍｍ）１１３５ｇを入れたビーズミルに充填し、１７００ｒｐｍの回転数で1時間処理した後、ガラスビーズを分離し、ついで
ＰＧＭＥを加えて固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R4)分散ゾルを調製した。
テルＰ-2Ｍ）１４．５ｇを、ガラスビーズ（０．４ｍｍ）１１３５ｇを入れたビーズミルに充填し、１７００ｒｐｍの回転数で1時間処理した後、ガラスビーズを分離し、ついで
ＰＧＭＥを加えて固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R4)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R4)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R4)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R4)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R4)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R4)を調製した。
透明被膜付基材(RF-4)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-4)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[参考例１]
樹脂被覆粒子(S1)分散ゾルの調製
実施例１において、Ｐドープ酸化錫微粒子粉末、有機溶媒、被覆用樹脂に加えて開始剤として２．４．６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ビ−エーエスジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）１．４ｇとを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(S1)分散ゾルを調製した。
透明被膜形成用塗布液(R4)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R4)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R4)を調製した。
透明被膜付基材(RF-4)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R4)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-4)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[参考例１]
樹脂被覆粒子(S1)分散ゾルの調製
実施例１において、Ｐドープ酸化錫微粒子粉末、有機溶媒、被覆用樹脂に加えて開始剤として２．４．６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド（ビ−エーエスジャパン（株）製：ルシリンＴＰＯ）１．４ｇとを混合した以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(S1)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(S1)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(S1)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(S1)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(S1)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(S1)を調製した。
透明被膜付基材(SF-1)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(S1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(SF-1)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
透明被膜形成用塗布液(S1)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(S1)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(S1)を調製した。
透明被膜付基材(SF-1)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(S1)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(SF-1)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
[比較例５]
樹脂被覆粒子(R5)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)の調製
実施例１１と同様にして、純水８０６０ｇに硝酸アンモニウム１３ｇと１５％アンモニア水２０ｇを入れ攪拌し、５０℃に昇温した。この中に純水４２９０ｇに錫酸カリウム１５１９ｇを溶解した液を１０時間かけてローラーポンプで添加した。このときｐＨコントローラーでｐＨを８．２に保つよう濃度１０重量％の硝酸を添加して調整した。添加終了後１時間５０℃をキープした後、濃度１０重量％の硝酸を添加しｐＨを３．０まで下げた。
次に限外濾過膜で濾水電導度が１０μＳ／ｃｍになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は６０００ｇで固形分（ＳｎＯ2）濃度は
１２重量％であった。このスラリーの中に濃度１６重量％のリン酸水溶液２６４ｇを添加し、０．５時間攪拌した。ついで、これを８０℃で２時間乾燥して、Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)粉末を調製した。
樹脂被覆粒子(R5)分散ゾルの調製
Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)の調製
実施例１１と同様にして、純水８０６０ｇに硝酸アンモニウム１３ｇと１５％アンモニア水２０ｇを入れ攪拌し、５０℃に昇温した。この中に純水４２９０ｇに錫酸カリウム１５１９ｇを溶解した液を１０時間かけてローラーポンプで添加した。このときｐＨコントローラーでｐＨを８．２に保つよう濃度１０重量％の硝酸を添加して調整した。添加終了後１時間５０℃をキープした後、濃度１０重量％の硝酸を添加しｐＨを３．０まで下げた。
次に限外濾過膜で濾水電導度が１０μＳ／ｃｍになるまで純水で洗浄した後、限外濾過膜で濃縮し取り出した。このとき取り出した液量は６０００ｇで固形分（ＳｎＯ2）濃度は
１２重量％であった。このスラリーの中に濃度１６重量％のリン酸水溶液２６４ｇを添加し、０．５時間攪拌した。ついで、これを８０℃で２時間乾燥して、Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)粉末を調製した。
得られたＰドープ酸化錫微粒子(R2)の平均一次粒子径は２５ｎｍ、平均二次粒子径は０．１μｍ、体積抵抗値は５５００Ω・ｃｍであった。
ついで、Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)２１７ｇ、イオン交換水３３５ｇを２Ｌガラスビーカーに入れ、濃度２０重量％のＫＯＨ水溶液５０ｇを加えた後、石英ビーズ（０．１５ｍｍ）１０００ｇを入れ、ビーズミルで充分に撹拌して粉砕分散させた後、３２５メッシュ（目開き４４ミクロン）のステンレス製金網で石英ビーズと分散液を分離し、さらに、金網上に残った石英ビーズをイオン交換水１５６０ｇで洗浄した液を充分に混合し、この液を９０℃１時間熱処理した後、室温まで冷却し、陰イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪
拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪拌した
後、陽イオン樹脂を分離してＰドープ酸化錫微粒子(R2)水分散液（濃度１０重量％）を得た。
拌した後、陰イオン交換樹脂を分離、次に陽イオン交換樹脂９６ｇを入れ1時間攪拌した
後、陽イオン樹脂を分離してＰドープ酸化錫微粒子(R2)水分散液（濃度１０重量％）を得た。
つぎに、Ｐドープ酸化錫微粒子(R2)水分散液をプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）に溶媒置換した。この時固形分濃度は３５重量％であった。ついで、固形分濃度は３５重量％のＰドープ酸化錫微粒子ＰＧＭＥ分散液５７５ｇと、被覆用樹脂としてジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート（共栄社化学（株）製：ライト
エステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇを、ガラスビーズ（０．４ｍｍ）１１３５ｇを入れたビーズミルに充填し、１７００ｒｐｍの回転数で1時間処理した後、ガラスビーズを分離し、つ
いでＰＧＭＥを加えて固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R5)分散ゾルを調製した。
エステルＰ-2Ｍ）１４．５ｇを、ガラスビーズ（０．４ｍｍ）１１３５ｇを入れたビーズミルに充填し、１７００ｒｐｍの回転数で1時間処理した後、ガラスビーズを分離し、つ
いでＰＧＭＥを加えて固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R5)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R5)分散ゾルの安定性、樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R5)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R5)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R5)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R5)を調製した。
透明被膜付基材(RF-5)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-5)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例６]
樹脂被覆粒子(R6)分散ゾルの調製
酸化チタン微粒子(R1)の調製
７３２ｇの４塩化チタンを純水で希釈してＴｉＯ2として１．０重量％含有する水溶液
を得た。これを撹拌しながら、濃度１５重量％のアンモニア水を添加し、ｐＨ９．５の白色スラリーを得た。このスラリーを濾過洗浄し、ＴｉＯ2として濃度１０．２重量％の水
和酸化チタンゲルのケーキを得た。このケーキと濃度５％過酸化水素液１６０００ｇを混合し、ついで８０℃で２時間加熱して溶解し、ＴｉＯ2として濃度１．０重量％のペルオ
キソチタン酸水溶液を得た。ついで、オートクレーブにて、１５０℃で１０時間処理して酸化チタンコロイト゛粒子分散液を調製した。ついで、限外濾過膜にて洗浄し、濃縮した後、これを８０℃で２時間乾燥して、酸化チタン微粒子(R1)粉末を調製した。
透明被膜形成用塗布液(R5)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆Ｐドープ酸化錫微粒子(R5)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R5)を調製した。
透明被膜付基材(RF-5)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R5)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-5)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例６]
樹脂被覆粒子(R6)分散ゾルの調製
酸化チタン微粒子(R1)の調製
７３２ｇの４塩化チタンを純水で希釈してＴｉＯ2として１．０重量％含有する水溶液
を得た。これを撹拌しながら、濃度１５重量％のアンモニア水を添加し、ｐＨ９．５の白色スラリーを得た。このスラリーを濾過洗浄し、ＴｉＯ2として濃度１０．２重量％の水
和酸化チタンゲルのケーキを得た。このケーキと濃度５％過酸化水素液１６０００ｇを混合し、ついで８０℃で２時間加熱して溶解し、ＴｉＯ2として濃度１．０重量％のペルオ
キソチタン酸水溶液を得た。ついで、オートクレーブにて、１５０℃で１０時間処理して酸化チタンコロイト゛粒子分散液を調製した。ついで、限外濾過膜にて洗浄し、濃縮した後、これを８０℃で２時間乾燥して、酸化チタン微粒子(R1)粉末を調製した。
酸化チタン微粒子(R1)の平均一次粒子径は６０ｎｍ、平均二次粒子径は０．２μｍであ
った。
った。
酸化チタン微粒子(R1)２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(R6)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(R6)分散ゾルの安定性、樹脂被覆酸化チタン微粒子(R6)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R6)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(R6)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R6)を調製した。
透明被膜付基材(RF-6)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-6)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例７]
樹脂被覆粒子(R7)分散ゾルの調製
酸化ジルコニウム微粒子(R1)の調製
純水２４３２０オキシ塩化ジルコニウム８水塩（ＺrＯＣｌ2・８Ｈ2Ｏ）６５５ｇを溶
解し、これにリンゴ酸２７ｇを添加し、ついで、濃度１０重量％のＫＯＨ水溶液３１３０ｇを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）を調製した。このときの分散液のｐＨは１０.５、温度は１９℃であった。
透明被膜形成用塗布液(R6)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化チタン微粒子(R6)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R6)を調製した。
透明被膜付基材(RF-6)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R6)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-6)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。[比較例７]
樹脂被覆粒子(R7)分散ゾルの調製
酸化ジルコニウム微粒子(R1)の調製
純水２４３２０オキシ塩化ジルコニウム８水塩（ＺrＯＣｌ2・８Ｈ2Ｏ）６５５ｇを溶
解し、これにリンゴ酸２７ｇを添加し、ついで、濃度１０重量％のＫＯＨ水溶液３１３０ｇを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）を調製した。このときの分散液のｐＨは１０.５、温度は１９℃であった。
ついで、限外濾過膜法で電導度が２８０μＳ／ｃｍになるまで洗浄した。つぎに、このジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）に陽イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ＳＫ１−ＢＨ）９５０ｇを加え脱イオンした。ついで陽イオン交換樹脂を分離した後、陰イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ＳＡＮＵＰＣ）５００ｇを加え脱イオンした。
このようにして得られた洗浄ジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）の電導度は１０μＳ／ｃｍ、ｐＨは６であった。
ついで、洗浄ジルコニウム水酸化物ヒドロゲル分散液（ＺrＯ2濃度１重量％）に、超音波を１時間照射してヒドロゲルの分散処理をした後、オートクレーブに充填し、２００℃で２ 時間熟成した。このとき、電導度は６４０μＳ／ｃｍ、ｐＨは２.５３であった。
ついで、陰イオン交換樹脂（ 三菱化学（株）製：ＳＡＮＵＰＣ）１１００ｇを加えて
脱イオンを行い、ついで純水３７５００ｇを供給しながら限外濾過膜法で洗浄した。このときの電導度は１６μＳ／ｃｍ 、ｐＨは３．９であった。
脱イオンを行い、ついで純水３７５００ｇを供給しながら限外濾過膜法で洗浄した。このときの電導度は１６μＳ／ｃｍ 、ｐＨは３．９であった。
ついで、上記熟成し、洗浄した分散液をＺrＯ2濃度１重量％に調整し、これに濃度２重量％のリンゴ酸水溶液１３４０ｇを加え、超音波を１ 時間照射してヒドロゲルの分散処
理をした後、オートクレーブに充填し、２００℃で２時間水熱処理をした。このとき、電導度は６４０μＳ／ｃｍ、ｐＨは２.５３であった。
理をした後、オートクレーブに充填し、２００℃で２時間水熱処理をした。このとき、電導度は６４０μＳ／ｃｍ、ｐＨは２.５３であった。
水熱処理した分散液に陰イオン交換樹脂（三菱化学（株）製：ＳＡＮＵＰＣ）１１００ｇを加えて脱イオンを行い、ついで純水３７５００ｇを供給しながら限外濾過膜法で洗浄した。このときの電導度は４７μＳ／ｃｍ、ｐＨは３.４であった。
ついで、限外濾過膜にて濃縮した後、これを８０℃で２時間乾燥して、酸化ジルコニウム微粒子粉末(R1)を調製した。
酸化ジルコニウム微粒子(R1)の平均一次粒子径は２０ｎｍ、平均二次粒子径は０．５μｍであった。
酸化ジルコニウム微粒子２０１ｇを用いた以外は同様にして固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(R7)分散ゾルを調製した。
固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(R7)分散ゾルの安定性、樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(R7)の平均粒子径を測定し、結果を表１に示した。
透明被膜形成用塗布液(R7)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(R7)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R7)を調製した。
透明被膜付基材(RF-7)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-7)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
透明被膜形成用塗布液(R7)の調製
実施例１において、固形分濃度３０重量％の樹脂被覆酸化ジルコニウム微粒子(R7)分散ゾルを用いた以外は同様にして透明被膜形成用塗布液(R7)を調製した。
透明被膜付基材(RF-7)の製造
実施例１において、透明被膜形成用塗布液(R7)を用いた以外は同様にして透明被膜付基材(RF-7)を調製した。このときの透明被膜の厚さは４μｍであった。得られた透明被膜の全光線透過率、ヘーズ、鉛筆硬度、耐擦傷性および密着性を測定し、結果を表１に示す。
Claims (10)
- 予め100〜800℃で加熱処理した平均一次粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあり、平均二次粒子径が５ｎｍ〜１０μｍの範囲にある金属酸化物粒子の、エーテル類、エステル類、ケトン類から選ばれる1種以上の有機溶媒の分散液に、
アクリル酸、２-ヒドロキシエチルアクリレート、２-ヒドロキシプロピルアクリレート、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルコハク酸、２-アクリロイロキシエチルフタル酸、２-アクリロイロキシエチル２-ヒドロキシエチル-フタル酸、モノ２-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、ジ２-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、２-ヒドロキシブチルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、グリセリンジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、Ｏ-フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、１,４-ブタンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、１,６-ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテルアクリレート、２-メチル２エチル-１，３プロパンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルアクリレート、１,６ヘキサンジオールジグリシジルエーテルアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリレート、２-ヒドロキシ-１-アクリロキシ-３-メタクリロキシプロパン、β-カルボキシエチルアクリレート、メタクリル酸、２-ヒドロキシエチルメタクリレート、２-ヒドロキシプロピルメタクリレート、２-ヒドロキシブチルメタクリレート、２-メタクリロイロキシエチルコハク酸、２-メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、モノ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、グリセリンジメタクリレート、２-ヒドロキシ-３-アクリロイロキシプロピルメタクリレート、２-ヒドロキシ-３アクリロイロキシプロピルメタクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物、ジグリセリンポリグリシジルエーテルメタクレート、３-クロロ-２-ヒドロキシプロピルメタクレート、ジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートから選ばれる少なくとも１種のアクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂（なお、樹脂はモノマー、ダイマー、オリゴマーまたはポリマーである）のみからなる樹脂被覆材を添加し、 ついで、メカノケミカル処理することを特徴とする樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。 - 前記樹脂被覆材が、２-ヒドロキシ-３-フェノキシプロピルアクリレート、２-アクリロイロキシエチルコハク酸、２-アクリロイロキシエチルフタル酸、２-アクリロイロキシエチル２-ヒドロキシエチル-フタル酸、モノ２-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、ジ２-アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート、２-アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２-メタクリロイロキシエチルコハク酸、２-メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、モノ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、ジ２-アクリロイロキシエチルアシッドホスフェートから選ばれる少なくとも１種のアクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂（なお、樹脂はモノマー、ダイマー、オリゴマーまたはポリマーである）であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
- 前記樹脂被覆材の固形分としての濃度（ＣR）と金属酸化物微粒子の固形分としての濃度（ＣMO）の濃度比（ＣR）／（ＣMO）が０．００５〜０．５の範囲にあることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
- 前記メカノケミカル処理時の金属酸化物粒子と樹脂被覆材とをあわせた全固形分濃度が１〜５０重量％の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
- 前記金属酸化物粒子が、ＴiＯ2、ＳiＯ2、ＺrＯ2、Ａl2Ｏ3、Ｓb2Ｏ5、ＺnＯおよびこれらの複合酸化物、酸化錫、ＳbまたはＰがドープされた酸化錫、酸化インジウム、ＳｎまたはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタンから選ばれる1種以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
- 前記樹脂被覆金属酸化物粒子の平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法。
- マトリックス形成成分と請求項１〜６のいずれかに記載の方法で得られた樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルと有機溶媒とを含んでなることを特徴とする透明被膜形成用塗布液。
- 重合開始剤を含まないことを特徴とする請求項７に記載の透明被膜形成用塗布液。
- 基材と、基材上に請求項７または８に記載の透明被膜形成用塗布液を塗布・乾燥して形成された透明被膜とを有することを特徴とする透明被膜付基材。
- 前記透明被膜が他の被膜とともに設けられていることを特徴とする請求項９に記載の透明被膜付基材。
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| JP2009193506A JP5587573B2 (ja) | 2008-08-26 | 2009-08-24 | 樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008216761 | 2008-08-26 | ||
| JP2008216761 | 2008-08-26 | ||
| JP2009193506A JP5587573B2 (ja) | 2008-08-26 | 2009-08-24 | 樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2010077409A JP2010077409A (ja) | 2010-04-08 |
| JP5587573B2 true JP5587573B2 (ja) | 2014-09-10 |
Family
ID=42208193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009193506A Active JP5587573B2 (ja) | 2008-08-26 | 2009-08-24 | 樹脂被覆金属酸化物粒子分散ゾルの製造方法および該樹脂被覆金属酸化物粒子を含む透明被膜形成用塗布液ならびに透明被膜付基材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5587573B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5466612B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2014-04-09 | 日揮触媒化成株式会社 | 樹脂被覆金属酸化物粒子樹脂分散組成物の製造方法および透明被膜付基材 |
| JP2012140534A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 |
| JP5696581B2 (ja) * | 2011-05-12 | 2015-04-08 | Dic株式会社 | 帯電防止ハードコート塗材及び光学部材 |
| JP5815304B2 (ja) * | 2011-06-29 | 2015-11-17 | 日揮触媒化成株式会社 | 光学薄膜形成用塗料および光学薄膜 |
| DE102013101701A1 (de) * | 2013-02-20 | 2014-08-21 | Sasol Olefins & Surfactants Gmbh | Fließfähige Dispersion enthaltend partikuläre Metalloxide, Metalloxidhydrate und/oder Metallhydroxide, ein Dispergiermittel und ein organisches Dispersionsmedium |
| JP6217353B2 (ja) * | 2013-11-29 | 2017-10-25 | 住友大阪セメント株式会社 | 透明樹脂組成物及び塗膜並びに熱線遮蔽フィルム |
| JP6327549B2 (ja) * | 2013-12-06 | 2018-05-23 | ナガセケムテックス株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物および熱伝導性シート |
| WO2023181664A1 (ja) * | 2022-03-23 | 2023-09-28 | 三井金属鉱業株式会社 | 酸化スズ粒子及びその製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS557871B2 (ja) * | 1971-12-30 | 1980-02-28 | ||
| JPS59224102A (ja) * | 1983-06-03 | 1984-12-17 | Ricoh Co Ltd | 磁性粉の表面処理方法 |
| JP4386986B2 (ja) * | 1999-03-31 | 2009-12-16 | 株式会社日本触媒 | 無機系微粒子含有組成物とその用途および分散剤 |
| JP2006257308A (ja) * | 2005-03-17 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 中空シリカ粒子分散物 |
| JP2007217272A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 複合酸化物微粒子、これを用いた透明組成物及び透明樹脂組成物。 |
| KR20090061659A (ko) * | 2006-09-19 | 2009-06-16 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 산화물 미립자 함유 유기 무기 혼성 중합체 조성물 및 그의 제조 방법 |
-
2009
- 2009-08-24 JP JP2009193506A patent/JP5587573B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2010077409A (ja) | 2010-04-08 |
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| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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