JP5580749B2 - トリクロロシランの生産方法 - Google Patents
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Description
SiCl4+H2⇔SiHCl3+HCl・・・(1)
すなわち、本発明者等は、上記の特許文献1および2に記載の技術では、式(1)で四塩化珪素および水素からトリクロロシランが生成する反応は吸熱反応であるため、冷却方法によっては、ガスの温度が低下する平衡が凍結に至る時間が非常に短い場合であっても、その短い時間中に平衡がある程度左側へ移動することがあり、一旦は生成した一部のトリクロロシランから再び四塩化珪素が生成される場合があることを見いだした。そして、本発明者等は、このような平衡の揺り戻しによって、トリクロロシランの収率、すなわち原料である四塩化珪素に対して生成したトリクロロシランの割合が低下する場合があるため、上記の特許文献1および2に記載の技術には、トリクロロシランの収率の面でさらなる改善の余地があることに気づいた。
102 ヒータ
103 原料供給管
104 反応炉抜出管
105 冷却塔
106 液ガス混合管
107 目皿
108 貯槽
109 ポンプ
110 熱交換器
111 冷却液中段供給管
112 冷却液塔頂供給管
113 冷却塔ガス抜出管
114 凝縮器
115 貯槽
116 調製液供給管
201 反応炉
202 ヒータ
203 原料供給管
204 反応炉抜出管
205 冷却塔
206 液ガス混合管
207 目皿
208 貯槽
209 冷却液中段供給管
210 冷却液塔頂供給管
211 冷却塔ガス抜出管
212 凝縮器
213 貯槽
301 反応炉
302 ヒータ
303 原料供給管
304 反応炉抜出管
305 冷却塔
306 液ガス混合管
307 目皿
308 貯槽
309 ポンプ
310 熱交換器
311 冷却液中段供給管
312 冷却液塔頂供給管
313 冷却塔ガス抜出管
314 凝縮器
315 貯槽
本明細書および請求の範囲において、「最小値〜最大値」という表記は、最小値以上かつ最大値以下の数値範囲を意味するものとする。また、「%」という表記は、特に断りのない限り、モル%を意味するものとする。
本明細書および請求の範囲において、塩化珪素とは、塩化された珪素を意味し、SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2、SiH3Clなどのクロロシラン類の化合物を含む概念である。
物質名 化学式 沸点
テトラクロロシラン(四塩化珪素) SiCl4 57℃
トリクロロシラン SiHCl3 32℃
ジクロロシラン SiH2Cl2 8℃
モノクロロシラン SiH3Cl 30℃
なお、上記のトリクロロシランは、消防法危険物(第三類)に分類されている。
本明細書および請求の範囲において、四塩化珪素を還元するとは、四塩化珪素に水素ガスなどのような還元物質を反応させて、より還元度の高い(ハロゲン化度の低い)物質に変換することを意味する。例えば、クロロシラン類の化合物の還元の場合には、下記の順番でハロゲン化ケイ素を還元することを意味する。
SiCl4→SiHCl3→SiH2Cl2→SiH3Cl→SiH4
本明細書および請求の範囲において、水素とは、水素の単体である水素分子(水素ガス)H2を示すものとする。水素分子は常温では無色無臭の気体で、沸点−252.6°Cであり、軽く、非常に燃えやすい。一般に、アンモニアの製造(ハーバー・ボッシュ法)の他、最も安価でクリーンな還元剤として、トリクロロシラン、ジクロロシラン、モノクロロシランおよびモノシランの製造プロセスをはじめ、塩酸の製造、金属鉱石の還元、油脂の改質、脱硫など、多方面に利用されている。
本実施形態は、四塩化珪素および水素からトリクロロシランを製造する方法に関する。しかしながら、説明の都合上、この製造方法に用いる装置の構成を、まずは説明する。そして、その後に、本実施形態の製造方法について説明する。
図1は、本実施形態に用いる装置の一例を示す説明図である。本実施形態では、ガス化した四塩化珪素と水素との混合物を原料供給管103を通じて反応炉101の底部に供給する。反応炉101は黒鉛製であり、周囲に設けられた最大出力500KWのヒータ102にて加熱することで、反応炉101の内部を1200℃を超え1400℃以下の範囲内の状態に保つことができる。
本実施形態では、上記のような構成の装置を用いて、四塩化珪素および水素からトリクロロシランを製造する。このようなトリクロロシランを生産するための原料、すなわち出発混合物としては四塩化珪素と水素との混合ガスを使用する。このとき、混合ガス中の四塩化珪素の含有量は、四塩化珪素と水素との合計質量100モル%に対して25〜60モル%の範囲内であることが好ましく、特に30〜50モル%の範囲内であることがさらに好ましい。この混合ガス中の四塩化珪素の含有量が60モル%または50モル%以下であれば、熱負荷が小さくなるので経済的であり、また、25モル%または30モル%以上であれば、出発混合物中の水素が多くなりすぎてないため、下記の式(1)が右側に傾きすぎて金属シリコンが反応管および取出し管内に析出して装置の閉塞に繋がる現象の発生を抑制できる。
SiCl4+H2⇔SiHCl3+HCl・・・(1)
以下、本実施形態の作用効果について説明する。
本実施形態のトリクロロシランの生産方法は、四塩化珪素および水素を含有する出発混合物を1200℃を超え1400℃以下の範囲内の温度で反応させてトリクロロシランを含有する生成混合物を生成する工程と、前記生成混合物を、四塩化珪素およびトリクロロシランを含有し該四塩化珪素および該トリクロロシランの合計質量を100モル%とした場合に該四塩化珪素を80モル%以上の含有率で含む冷却液に直接接触させて冷却する工程とを含む。
SiCl4+H2⇔SiHCl3+HCl・・・(1)
このように、2段階で冷却を行うことにより、1000℃以上ある生成混合物の温度を600℃以下にまで速やかに冷却することができる。
さらに、この場合、この冷却器が、生成混合物を供給するための生成ガス供給口と、1次冷却液を供給するために生成ガス供給口の近傍に設けられている1次冷却液供給口と、1次冷却液供給口よりも生成ガス供給口から離れて設けられている2次冷却液供給口と、1次冷却液供給口および該2次冷却液供給口の間に設けられている流体制御器と、を備えることが好ましい。そして、この流体制御器が、目皿を備えることが好ましい。
なお、1次冷却液供給口および2次冷却液供給口の間に目皿を備える流体制御器を設けることによって生成混合ガスが滞留し、2次冷却液と効率よく接触するという利点が得られる。
本実施形態は、上記の実施形態1の変形例に相当する。また、図2は、本実施形態に用いる装置の一例を示す説明図である。なお、すでに実施形態1で説明した内容については説明を繰り返さず省略する。
ここで、冷却液中段抜出管209及び冷却液塔頂抜出管210を通じて供給される冷却液は、熱交換機あるいはその他の方法によって、冷却塔塔底より抜き出される冷却液より低い温度に冷却した。
SiCl4+H2⇔SiHCl3+HCl・・・(1)
比較例1および実施例1〜3のいずれも、図1に示す装置を用いて実験した。反応炉101は内径50mm、長さ800mmで、ヒータ102により加熱されるようになっており、反応炉101の中心部が温度1300℃となるように加熱した。冷却塔105は、内径140mm、長さ1300mmで、底部が開放された内側に液ガス混合管106を設けてある。貯槽108にトリクロロシランと四塩化珪素の混合物を13モル充填し、あらかじめ600℃に加熱した四塩化珪素と水素の混合ガス27モル/時間の流量で原料供給管103を通じて反応炉101に連続的に供給し、さらに反応炉101を通過したガスは反応炉抜出管104を通じて液ガス混合管106に供給した。但し、原料の四塩化珪素は四塩化珪素と水素の合計に対して50モル%とした。
実施例4については、図2に示す装置を用いて実験した。反応炉201は内径50mm、長さ800mmで、ヒータ202により加熱されるようになっており、反応炉の中心部が温度1300℃となるように加熱した。冷却塔205は、内径140mm、長さ1300mmで、底部が開放された内側に液ガス混合管206を設けてある。あらかじめ600℃に加熱した四塩化珪素と水素の混合ガス26モル/時間の流量で原料供給管203を通じて反応炉201に連続的に供給し、さらに反応炉201を通過したガスは反応炉抜出管204を通じて液ガス混合管206に供給した。
ここで、冷却液中段抜出管209及び冷却液塔頂抜出管210を通じて供給される冷却液は、冷却塔塔底より抜き出される冷却液より低い温度である30℃に保たれている。
図3は、本比較例に用いる装置の一例を示す説明図である。比較例2では、図3に示す装置を用いて実験した。すなわち、この装置では、ガス化した四塩化珪素と水素の混合物を原料供給管303を通じて反応炉301の底部に供給する。反応炉301は黒鉛製であり、周囲に設けられた最大出力500KWのヒータ302にて加熱することで、反応炉301の内部を1200℃を超え1400℃以下の範囲内の温度状態に保つ。
比較例2では、上記のような構成からなる図3に示す装置を用いて実験した。すなわち、反応炉301は内径50mm、長さ800mmで、ヒータ302により加熱されるようになっており、反応炉301の中心部が温度1300℃となるように加熱した。冷却塔305は、内径140mm、長さ1300mmで、底部が開放された内側に液ガス混合管306を設けてある。貯槽308にトリクロロシランと四塩化珪素の混合物を13モル充填し、あらかじめ600℃に加熱した四塩化珪素と水素の混合ガス27モル/時間の流量で原料供給管303を通じて反応炉301に連続的に供給し、さらに反応炉301を通過したガスは反応炉抜出管304を通じて液ガス混合管306に供給した。
上記の実施例1〜4、比較例1〜2の実験結果を見れば、四塩化珪素および水素を高温で反応させた後、四塩化珪素およびトリクロロシランの合計質量100モル%に対して四塩化珪素の含有率が80モル%以上の混合液体からなる冷却液で、得られた反応ガスを急冷する場合には、四塩化珪素およびトリクロロシランの合計質量100モル%に対して四塩化珪素の含有率が80モル%未満の混合液体からなる冷却液で冷却する場合に比べて遙かに効率良くトリクロロシランを生産できることが明らかである。
しかしながら、上記の実施例1〜4、比較例1〜2の実験結果を見れば、実施例3における冷却液の組成(モル比)が四塩化珪素/トリクロロシランが95/5となり、四塩化珪素の含有率が大きくなりすぎると、かえってトリクロロシランの生成効率が低下する傾向が観察される。そこで、本発明者等は、出発原料中の四塩化珪素のクロロシランへの転換率の極大値が得られる四塩化珪素/トリクロロシランの含有割合の数値範囲を決定するために、この実施例5の実験を行った。なお、この実施例5の実験は、基本的には、図1に示す装置を用いて、循環液(冷却液)の組成を変えながら、多数の条件で実験を行ったものである。その結果を図4にグラフとしてプロットして示す。
SiCl4+H2⇔SiHCl3+HCl・・・(1)
Claims (7)
- 四塩化珪素および水素を含有する出発混合物を1200℃を超え1400℃以下の範囲内の温度で反応させてトリクロロシランを含有する生成混合物を生成する工程と、
生成混合物を、四塩化珪素およびトリクロロシランを含有し四塩化珪素およびトリクロロシランの合計質量を100モル%とした場合に四塩化珪素を80モル%以上95モル%以下の含有率で含む冷却液に直接接触させて冷却する工程と、
を含むトリクロロシランの生産方法。 - 冷却液が、四塩化珪素およびトリクロロシランの合計質量を100モル%とした場合に、四塩化珪素を88モル%以上90モル%以下の含有率で含む冷却液である請求項1記載のトリクロロシランの生産方法。
- 冷却液が、50℃以下に温度調整されている、請求項1又は2記載のトリクロロシランの生産方法。
- 生成混合物を冷却する工程が、生成混合物を冷却液に直接接触させて、生成混合物の温度を1秒未満の時間内に600℃以下にまで冷却する工程を含む、請求項1ないし3のいずれか一項記載のトリクロロシランの生産方法。
- 生成混合物を冷却する工程が、
生成混合物および1次冷却液を直接接触させて、生成混合物を1次冷却する工程と、
1次冷却された生成混合物および2次冷却液を直接接触させて、生成混合物を2次冷却する工程と、
を含む、請求項1ないし4のいずれか一項記載のトリクロロシランの生産方法。 - 生成混合物を冷却する工程が、生成混合物および冷却液を冷却器中で直接接触させて、生成混合物を冷却する工程を含み、
冷却器が、
生成混合物を供給するための生成ガス供給口と、
1次冷却液を供給するために生成ガス供給口の近傍に設けられている1次冷却液供給口と、
1次冷却液供給口よりも生成ガス供給口から離れて設けられている2次冷却液供給口と、
1次冷却液供給口および2次冷却液供給口の間に設けられている流体制御器と、
を備える、請求項5記載のトリクロロシランの生産方法。 - 流体制御器が、目皿を備える、請求項6記載のトリクロロシランの生産方法。
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