JP5580617B2 - 埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法 - Google Patents

埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5580617B2
JP5580617B2 JP2010031906A JP2010031906A JP5580617B2 JP 5580617 B2 JP5580617 B2 JP 5580617B2 JP 2010031906 A JP2010031906 A JP 2010031906A JP 2010031906 A JP2010031906 A JP 2010031906A JP 5580617 B2 JP5580617 B2 JP 5580617B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
parts
weight
flip chip
photoacid generator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010031906A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010192900A (ja
Inventor
リチャード・ジョセフ・サイア
トーマス・バート・ゴルクジカ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of JP2010192900A publication Critical patent/JP2010192900A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5580617B2 publication Critical patent/JP5580617B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/20Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
    • C08G59/22Di-epoxy compounds
    • C08G59/226Mixtures of di-epoxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/19Manufacturing methods of high density interconnect preforms
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/82Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2463/00Presence of epoxy resin
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/04105Bonding areas formed on an encapsulation of the semiconductor or solid-state body, e.g. bonding areas on chip-scale packages
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/18High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/23Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
    • H01L2224/24Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
    • H01L2224/241Disposition
    • H01L2224/2413Connecting within a semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/2919Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/82Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected by forming build-up interconnects at chip-level, e.g. for high density interconnects [HDI]
    • H01L2224/82009Pre-treatment of the connector or the bonding area
    • H01L2224/8203Reshaping, e.g. forming vias
    • H01L2224/82035Reshaping, e.g. forming vias by heating means
    • H01L2224/82039Reshaping, e.g. forming vias by heating means using a laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212Sequential connecting processes
    • H01L2224/92142Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92144Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a build-up interconnect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01045Rhodium [Rh]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/0665Epoxy resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12042LASER
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • H01L2924/1815Shape
    • H01L2924/1816Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body
    • H01L2924/18162Exposing the passive side of the semiconductor or solid-state body of a chip with build-up interconnect
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3512Cracking

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

本開示は一般的には、埋め込みチップ集積(embedded chip build up、ECBU)法に用いるために最適化され得る接着剤に関する。さらに具体的には、本発明の各実施形態は、モジュールの集積の成功を促し、最終製品の信頼性を確立し、またECBU法の歩留まりを確保するような組成特徴を含む感光性熱硬化性接着剤に関わる。
フリップ・チップ・パッケージングは、基材、回路板又は支持体に対する下向き電子部品の直接的電気接続として定義され得る。例えば、典型的なフリップ・チップ・パッケージング手順では、チップの動作面を基材に結合することができる。このことは、上向きチップが典型的にはボンド・ワイヤを用いて基材の上の様々なパッドの各々に接続されるワイヤ・ボンディングのような他のチップ・パッケージング接続手法とは対照的である。ECBU法は、フリップ・チップ・パッケージング手順として分類され得る。
米国特許第6,255,137号
フリップ・チップ・パッケージング接続は、性能、信頼性及び汎用性について他の手法を凌ぐ多数の利点を有するものと一般に考えられている。しかしながら、従来のフリップ・チップ・パッケージングに関連して多数の問題点も存在する。例えば、各々のバンプがリフロー又は熱圧着による結合の前にパッドに接触していることを要求されるような形式のフリップ・チップ・ボンディングを成功させ、また反復する場合に、基材の平面性及びバンプ容積が制限的要因となり得る。これらの問題点の幾つかがECBU法では対処されており、この方法では特殊化された材料セット及びマイクロ・ビア技術の利用によって、はんだバンプ又はワイヤ・ボンド・インターコネクトを排除することができる。ECBU法は一般的には、接着剤を介してチップの動作面を基材に取り付け、次いでダイの動作面の上のボンド・パッドに接触するために基材及び接着剤にドリル穴あけすることを含んでいる。接着剤の幾つかの観点が、ECBU法の幾つかの観点に実効的に適合するように実質的に最適化され得ることがここで認められる。
本発明の一態様によれば、エポキシ系誘電材料、エポキシ樹脂、光酸発生剤、酸化防止剤、及び前記光酸発生剤に対応する常温触媒を含む組成を有する接着剤の層を基材の上に施工するステップと、前記接着剤を介してチップを前記基材に結合するステップとを備えたチップ・パッケージを組み立てる方法が提供される。
本発明の他の一態様によれば、エポキシ系誘電材料と、エポキシ樹脂と、光酸発生剤と、酸化防止剤と、光酸発生剤に対応する常温触媒とを含むチップ取り付け接着剤が提供される。
本発明の実施形態の利点は、以下の詳細な説明を読み図面を参照すると明らかとなろう。
本発明の各実施形態による接着剤を用いたECBU法を示す図である。 本発明の各実施形態による接着剤の組成成分として用いられ得る様々な化学構造を示す図である。
以下、本発明の1又は複数の特定の実施形態について説明する。これらの実施形態の簡潔な説明を掲げる試みにおいて、本明細書では実際の具現化形態の全ての特徴を記載する訳ではない。任意のかかる実際の具現化形態の開発時には、あらゆる工学プロジェクト又は設計プロジェクトと同様に、具現化形態毎に異なり得るシステム関連の制約及び業務関連の制約に対するコンプライアンスのような開発者の特定の目標を達成するために、多数の特定具現化形態向け決定を下さなければならないことを認められたい。また、かかる開発の試みは複雑であり時間も掛かるが、それでも本開示の利益を享受する当業者にとっては設計、製造及び製品化の日常業務的な作業であることを認められたい。
埋め込みチップ集積(ECBU)法は、ポリイミド・フレックス回路板のような基材にチップ及び他の部品を結合するために製造工程の早期にチップ取り付け接着剤を用いる。本発明の各実施形態は、ECBU製品の信頼性及び歩留まりを高め易くする組成特徴を備えた接着剤に関する。例えば、本発明の各実施形態は、幾つかの手順時に金属の腐食を制限することができる、幾つかの部品(例えばチップ)によって被覆され得る接着剤区域の硬化を容易にする、及び硬化時の接着剤の脆化を制限する等の接着剤特徴を含んでいる。
図1は、本発明の各実施形態に従ってECBU手順の工程フローを進めるときの工程フローの各ステップ、及び単一のチップ支持体モジュールの関連する断面図を示す。この工程は、参照番号100によって全体的に示されている。各々の断面図は、工程100の1又は複数のステップを表わす。明確に述べると、図示の実施形態では6段のステップが示され、それぞれステップ1、ステップ2、ステップ3、ステップ4、ステップ5、及びステップ6と示されている。尚、幾つかのステップは多数の手順を含んでいることを特記しておく。さらに、当業者には理解されるように、付加的なステップを図示し且つ/又は実行することもできる。
工程100はステップ1で開始し、基材102の金属化及びパターニングを行なう。例えば、ステップ1の断面によって示す基材102の各特徴は、Ti/Cuをスパッタリングし、Cuを電気めっきし且つ/又はTiをフィルム(例えばポリマー・フィルム)にスパッタリングし、次いで配設された各層をパターニング及びエッチングすることにより設けられて、基材特徴104を画定することができる。他の各実施形態では、異なる層及び/又は手順を基材102の製造時に用いてもよく、異なる特徴を基材の上に含めることができる。ステップ2では、基材102の金属化面を、本発明の各実施形態による組成特徴を含み得る接着剤106(例えば12μm〜25μm厚の接着剤フィルム)によって被覆することができる。ステップ3によって示すように、チップ108が、ダイ取り付け機構110又は何らかの類似の手順を用いて下向き配向で接着剤106に取り付けられ得る。尚、幾つかの実施形態では、接着剤106を基材102の両面に被覆して、ここにチップ108又は多数のチップを引き続き取り付けてもよいし、且つ/又はフレックスを両面とも予め金属化してパターニングしておいてもよい。
次いで、ステップ4によって示すように、接着剤106を所定の位置でチップ108と共に硬化させることができる。例えば、ステップ4は、真空圧積層法を用いた接着剤の熱硬化によってチップ108を接着剤106に結合することを含み得る。接着剤の硬化は、(1)基材102を窒素パージを掛けたオートクレーブに載置するステップ、(2)窒素で70psiまで加圧するステップ、(3)125℃まで加熱するステップ、(4)このまま1時間放置するステップ、(5)圧力を10psiまで下げながら温度を220℃まで高めるステップ、及び(6)このまま2時間放置するステップ等を含めた様々な工程ステップを含み得る。次いで、各部を真空下で100℃未満の温度まで冷却した後に、チェンバから取り出す。これにより、裏面に接触するために基材102を裏返す前に行なわれる工程を完了することができる。
一旦、チップ108が接着剤106及び/又は硬化手順によって基材102の片面に固定されたら、工程100はステップ5に進み、このステップは、基材102を裏返してチップ・パッド112及び/又は基材102の金属化部分(例えば基材特徴104)に接触するためにマイクロ・ビア110を形成することを含み得る。例えば、マイクロ・ビア110は、チップ・パッド112及び/又は金属化基材特徴104に接触するためにUVレーザ114を用いて基材102及び硬化した接着剤106を通してドリル穴あけされ得る。一旦、ビア110が形成されたら、ステップ6によって示すように、ビア110及び基材102のチップ108の反対側の面を金属化して特徴116を形成することができる。例えば、金属化は、スパッタリング−電気めっき併用工程、並びにパターニング及びエッチング工程を用いて実行され得る。明確に述べると、例えばこの工程は、Ti/Cuをスパッタリングし、Cuを電気めっきし、Tiをスパッタリングし、次いでフォト・パターン・レジストを標準的な減成めっき法又は半加成めっき法と共に用いることを含み得る。この工程によって、最初の集積層を完成させることができる。後続の層も本発明の各実施形態に従って加えることができる。
本開示の実施形態は、接着剤106に関するものである。明確に述べると、一実施形態は、何らかの機能性を提供する幾つかの組成成分を有する接着剤106に関する。尚、本発明の各実施形態は、組成成分として市販品を含み得ることを特記しておく。例えば、従来のECBU法に多用される材料は、露光現像型(photo-imageable)誘電材料XP9500を液体エポキシ樹脂CY184と配合したものからなる。XP9500は、米国ペンシルバニア州フィラデルフィア、Independence Mall West100番地(郵便番号19106)に本社を置くRohm and Haas(著作権)社の製品である。本発明の各実施形態は、やはりRohm and Haas(著作権)社の製品であるXP080702と呼ばれるXP9500の改質品を組み入れていてもよい。XP080702は、XP9500と本質的に同じ組成特徴を有し得る。但し、XP9500とは対照的に、XP080702は如何なる光酸発生剤(PAG)も含み得ない。従って、XP080702をエポキシ系誘電材料と呼ぶこともできる。接着剤106のさらに他の成分について以降で詳述する。
本発明の各実施形態によれば、接着剤106は、ステップ1〜6によって記述される工程を促進する幾つかの性質を含み得る。明確に述べると、幾つかの品質規格決定要因(CTQ)を満たすチップ取り付け接着剤の利用が、信頼性の高いECBU製品を提供するのを容易にすることがここで認められる。例えば、接着剤は、基材102の上の他のチップ及び/又は各部品、並びに金属化層に対する接着剤106の上に載置された各部品(例えばチップ108)の移動を制限する又は最小限にするために、被覆及び溶剤除去後に粘着性を提供し得る。さらに、接着剤106はまた、加工を容易にするために、作業域(field area、例えば取り付けられた部品の周囲の区域)では粘着性を低減し且つ/又は解消する機構を含み得る。例えば、表面の部品を接着剤に押し込むのに用いられる上掛け(吸い取り)フィルムに対しては接着しないようにしつつ、気孔を排除するための低温での真空積層サイクルによって部材を加工することを容易にするために、粘着性を制限することが望ましい場合がある。
既存のECBU手順によれば、チップを基材に取り付けた後に、接着剤の紫外(UV)光への露光を用いて、粘着性を制限する又は最小限にするのに十分なだけ露出接着剤を硬化させることができる。明確に述べると、UV光は、かかる硬化を開始するために接着剤の作業域のPAGを活性化することができる。しかしながら、このUV露光に先立って接着剤の上に載置されている部品が、UV光が接着剤に達することを実質的に阻害し、従って当該部品の下層のPAGの活性化を阻害することがここで認められる。これにより、上述の重要な区域の硬化が減退する。従って、本発明の各実施形態は、ダイの下層の接着剤の部分のようにUV光に対して露光が限定されている又は全くない区域でのエポキシ硬化を促進する高温エポキシ触媒(thermal epoxy catalyst)を含む接着剤に関わる。例えば、本発明の各実施形態は、PAG(例えばOctacat)と、PAGが熱を受け易くなるようにする常温触媒(cold catalyst)(例えばナフテン酸銅)とを組成成分とした接着剤を含み得る。さらに、本発明の各実施形態は、熱酸発生剤(TAG)(例えばKing Industries社から入手可能なCXC1612)、並びに/又はポリオール類及び無水物類のような組成成分を含んでいてもよく、これらの成分はエポキシ硬化を促進する。
本発明の各実施形態に従って用いられる接着剤は、XP9500に対して改質された組成物を含み得る。例えば、本発明の各実施形態では、接着剤は、腐食を少なくする且つ/又は回避するために、XP9500に存在するよりも50%乃至70%少ない量のPAGを有し得る。実際に、XP9500に見出されるもののような幾つかのPAG量が試験手順時に金属腐食を招き得ることがここで認められる。例えば、幾つかのPAG量は、高度加速負荷試験(HAST)(85%RH、130℃)時にかなりのアルミニウムの腐食を招き得る。このことは、以下の表1に掲げるデータによって示すように試験によって実証されている。
〔表1〕
サンプル XP9500 XP080702 CY184 ERL4221 Octacat 結果
1 100g − 11g − − 腐食あり
2 50g 50g 11g − − 腐食あり
3 − 100g 11g − 0.35g 腐食なし
4 − 100g − 11g 0.35g 腐食なし
限定された量のPAGを接着剤に含めると、加速水沸騰試験時に金属腐食を本質的に解消することが示された。従って、本発明の各実施形態は、腐食を防止し又は制限するために接着剤のPAG量を限定することに関わる。PAG量は、UV光への露光後にフィルム粘着性を所望の水準まで低減するのに望ましい又は必要な量まで制限され得る。尚、本来のXP9500が設計されたときの目的は開発ステップに耐え得るようにフィルムを全厚を通して硬化させることであったが、本発明の各実施形態ではこのことが問題となっている訳ではないことを特記しておく。従って、より少ないPAGの利用も適当である。
加えて、幾つかの型のPAGを用いて腐食性を回避することもできる。例えば、本発明の各実施形態に用いられる型のPAGは、UV光に露光されるときにフィルムの粘着性を低減するのに十分な強度である限定された酸強度を有し得る。Octacatの量を少量にすると、腐食が最小限となることが実証されている。さらに、ナフテン酸銅の存在下のOctacatは、高温エポキシ触媒として作用し得る。Octacatは、米国ニューヨーク州アルバニー、Corporate Woods Boulevard22番地(郵便番号12211)に本社を置くMomentive Performance Materialsの製品である。
再び接着剤106の品質について述べると、接着剤106は、ECBU法でのビア110の形成時に接着剤106の焼灼(アブレーション)を容易にすることが望ましいと言える。例えば、硬化後には、接着剤106は、チップ108の上の下層ボンド・パッド112(例えばアルミニウム・ボンド・パッド)への損傷を制限するように、レーザ・ビア形成に用いられる波長において十分な吸収特性を有することが望ましいと言える。典型的な波長値は、ビア110を形成するためのレーザ・ドリル穴あけ手法の利用時には351nmの近くである。しかしながら、本発明の各実施形態による接着剤106に用いられるPAGの量は限定されているので、351nm又はこの近くでの接着剤106の吸収は焼灼が困難となる点まで限定され得ることがここで認められる。従って、本発明の各実施形態は、最小の出力での接着剤106を通したレーザ焼灼を促進するために、光増感剤及び/又は染料を組み入れることができる。例えば、一定量の光増感剤(例えばジメトキシアントラセン)を含める又は増加させると、相対的に低いPAG濃度において接着剤硬化を促進すると共に、引き続き粘着性の低減を容易にすることができる。加えて、アントラセンは351nmの近くを強力に吸収するので、アントラセンを含ませるとレーザ焼灼を改善することができる。
PAG量が限定され、且つ接着剤106に取り付けられる下層部品(例えばチップ108)がUV遮断するため、接着剤106を適正に硬化させるためには高温硬化ステップが望ましいと言える。しかしながら、かかる高温硬化が、接着剤106によって形成されるフィルムの脆性を招き得ることがここで認められる。脆化した接着剤は、膨張時に亀裂が入り、亀裂域においてポリイミドフィルムの過度の膨張を招いて、これにより金属トレースのような基材102の各特徴に破壊を齎す場合がある。従って、本発明の各実施形態は、上述のように適当な硬化触媒を含ませることにより、硬化温度を下げることにより脆性を限定することができる。さらに、本発明の各実施形態は、硬化及び後続の加工時に金属(例えばアルミニウム)の酸化及び接着剤106の脆化の両方を制限し又は防止するために、硬化時に周囲の酸素を排除し、且つ/又は酸化防止剤を含ませることができる。このことは、高温において熱的に誘発されるポリマーの酸化を阻害するフェノール系材料であるCiba(商標)IRGANOX(商標)のような酸化防止剤を含ませることを含み得る。酸化防止剤を含ませると、材料の可撓性を保つのを容易にする共に硬化時のアルミニウムの酸化を最小限にすることができる。酸化防止剤は、ポリマー系における熱劣化を防止することが実証されている。
接着剤106に所定の材料成分を含めることに加え、本発明の各実施形態は、金属接点領域(例えばアルミニウムとスパッタリングされた金属との接点領域)でのビア110への酸素及び湿分の侵入を制限する幾つかの加工ステップを含み得る。実際に、本発明の各実施形態に従って用いられる接着剤及びポリイミドフィルムの両方が吸湿性であってよいことがここで認められる。換言すると、本発明の各実施形態に従って用いられ得る接着剤及びポリイミドフィルムは典型的には、湿分を取り込んで保持する。従って、本発明の各実施形態は、露出した金属表面(例えば露出したアルミニウム)での酸素の侵入及び/又は酸化を回避するために、幾つかの工程ステップ(例えばプラズマ・クリーニング、金属スパッタリング及び焼付けの各ステップ)において湿分含有量を最小限にするための予防措置を講じることができる。例えば、本発明の各実施形態は、レーザ煤除去(desoot)(反応性イオン・エッチング)及び金属スパッタリングの両方に先立つポリイミド及び接着剤フィルムにおける実質的に全ての湿分の除去を含み得る。さらに、湿分の除去は、アルミニウム酸化を最小限にするような方法で達成され得る。
明確に述べると、アルミニウムとスパッタリングされたビア金属との界面における酸素の侵入は、ビア煤除去及び金属化に先立って誘電性フィルムを十分に焼き付けることにより限定され又は最小限にされ得る。ビア煤除去の後には、誘電材料によるあらゆる湿分吸収を、真空下で低温(例えば約40℃以下)において除去することができる。CF/O煤除去薬品に曝露されたアルミニウムは金属を「活性化」状態のままにし、曝露されなかった場合よりも湿分による酸化を遥かに受け易いことが決定されている。高められた温度すなわち100℃を上回る温度での誘電材料からの湿分の除去は、アルミニウムの酸化の増強を招き得る。焼き付け温度を約90℃未満まで低下させると、アルミニウム酸化は制限される。
本発明の各実施形態は、幾つかの組成特徴を備えた接着剤を含み得る。例えば、この接着剤は、互いに比例して混合された幾つかの物質を含み得る。以下に掲げる表2は、本発明の各実施形態による一定範囲の組成物を含んでおり、各々の組成成分の量は他の成分に対する重量(例えばグラム)によって表現されている。
〔表2〕
物質 例 量
エポキシ系誘電材料 XP080702 100.0±0
エポキシ樹脂 CY184、ERL4221、ERL4299 11.0±5
及び/又は各種ブレンド
PAG Octacat 0.35±0.25
光増感剤 イソプロピルチオキサントン 0.5±0.5
光増感剤 2−エチル−9,10− 0.4±0.4
ジメトキシアントラセン
酸化防止剤 Irganox1010(商標) 0.0±1.0
常温触媒 ナフテン酸銅 0.0±0.1
高温触媒 CXC1612 0.0±0.5
図2は、表2に掲げた接着剤の成分の幾つかの化学構造を示す。明確に述べると、図2は、Octacat、ERL4221、ERL4299、及びCY184を示す。尚、Octacatは、蓄積せずXP9500に用いられるPAGよりも抽出性の低いPAGの一例として用いられていることを特記しておく。さらに、ナフテン酸銅はOctacatに特有の常温触媒であることを特記しておく。表2に掲げた接着剤の他の成分について述べると、Irganox1010はスイス国バーゼルに本社を置くCiba(商標)から、またCXC1612は米国コネチカット州ノーウォーク、Science Road(郵便番号06852)に本社を置くKing Industries社から入手可能である。イソプロピルチオキサントン及び2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセンはAldrich Chemical Companyから入手可能な光増感剤であって、ビア形成に用いられるレーザ波長の近くで強い吸収を有する。
本書では発明の幾つかの特徴のみを図示して説明したが、当業者には多くの改変及び変形が想到されよう。従って、特許請求の範囲は、発明の要旨に含まれるような全ての改変及び変形を網羅するものと理解されたい。
100 工程
102 基材
104 基材特徴
106 接着剤
108 チップ
110 マイクロ・ビア
112 チップ・パッド
114 UVレーザ
116 金属化された特徴

Claims (9)

  1. フリップ・チップ・パッケージを組み立てる方法であって、
    フリップ・チップ取付接着剤を用意するステップと、
    前記接着剤の層を基材の上に施工するステップと、
    前記接着剤を介してチップを下向き配向で前記基材に結合するステップと、
    前記接着剤を紫外光で露光して前記接着剤の粘着性を制限するステップと、
    前記接着剤の脆化を制限する硬化温度で前記接着剤を熱硬化するステップと、
    を含み、
    前記接着剤は、
    光酸発生剤を含まない100重量部のエポキシ系誘電材料と、
    ジグリシジル−1,2−シクロヘキサンジカルボキシレート、アジピン酸ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、およびこれらの混合物の群から選択された6重量部〜16重量部のエポキシ樹脂と、
    0.1重量部〜0.6重量部のヘキサフルオロアンチモン酸ビス(4−アルキルフェニル)ヨードニウムの光酸発生剤と、
    前記光酸発生剤を高温エポキシ触媒として作用することを可能にする、ゼロ超かつ0.1重量部以下のナフテン酸銅の常温触媒と、
    を含む、
    方法。
  2. 前記基板と硬化した前記接着剤にドリル穴あけをするステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
  3. 前記ビアを金属化するステップをさらに含む、請求項2に記載の方法。
  4. 焼き付けにより前記フリップ・チップ・パッケージから湿分を除去するステップをさらに含む、請求項2に記載の方法。
  5. 光酸発生剤を含まない100重量部のエポキシ系誘電材料と、
    ジグリシジル−1,2−シクロヘキサンジカルボキシレート、アジピン酸ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、およびこれらの混合物の群から選択された6重量部〜16重量部のエポキシ樹脂と、
    0.1重量部〜0.6重量部のヘキサフルオロアンチモン酸ビス(4−アルキルフェニル)ヨードニウムの光酸発生剤と、
    前記光酸発生剤を高温エポキシ触媒として作用することを可能にする、ゼロ超かつ0.1重量部以下のナフテン酸銅の常温触媒と、
    を含む、フリップ・チップ取付接着剤。
  6. ゼロ超かつ0.1重量部以下の酸化防止剤と、
    前記接着剤のレーザ焼灼を促進する、ゼロ超かつ1.8重量部以下の光増感剤と、
    をさらに含む、請求項5に記載のフリップ・チップ取付接着剤。
  7. 前記光増感剤が、イソプロピルチオキサントン、アントラセン、ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、およびこれらの混合物の群から選択される、請求項6に記載のフリップ・チップ取付接着剤。
  8. 前記エポキシ系誘電材料が露光現像型である、請求項5に記載のフリップ・チップ取付接着剤。
  9. 前記光酸発生剤が、以下の化学構造を有する、請求項5に記載のフリップ・チップ取付接着剤。
JP2010031906A 2009-02-19 2010-02-17 埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法 Active JP5580617B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/389,060 2009-02-19
US12/389,060 US8604612B2 (en) 2009-02-19 2009-02-19 Chip attach adhesive to facilitate embedded chip build up and related systems and methods

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010192900A JP2010192900A (ja) 2010-09-02
JP5580617B2 true JP5580617B2 (ja) 2014-08-27

Family

ID=42208689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010031906A Active JP5580617B2 (ja) 2009-02-19 2010-02-17 埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8604612B2 (ja)
EP (1) EP2221860A3 (ja)
JP (1) JP5580617B2 (ja)
CN (1) CN101819939B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110318882A1 (en) * 2010-06-24 2011-12-29 Xiaoming Wu Method of restricting chip movement upon bonding to rigid substrate using spray coatable adhesive
US9530526B2 (en) 2012-04-17 2016-12-27 Bwxt Mpower, Inc. Riser transition element for compact nuclear reactor
KR101366006B1 (ko) * 2012-07-17 2014-02-24 한국과학기술원 전자패키징용 무플럭스 접속부재와 이의 제조방법
CN103730381A (zh) * 2013-12-16 2014-04-16 上海凯虹科技电子有限公司 芯片封装方法
KR101595696B1 (ko) * 2015-04-02 2016-02-19 주식회사 이녹스 비전도성 접착필름용 조성물 및 이를 포함하는 비전도성 접착필름
US9926476B2 (en) * 2016-04-22 2018-03-27 Addison Clear Wave Coatings Inc. Dual cure epoxy adhesives

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU4608972A (en) * 1971-09-16 1974-03-07 Ciba-Geigy Ag New polyepoxide-polysiloxane compounds processes for their manufacture and their use
JPS6451422A (en) 1987-08-21 1989-02-27 Toyo Boseki Curable resin composition
US5089440A (en) * 1990-03-14 1992-02-18 International Business Machines Corporation Solder interconnection structure and process for making
JPH04234422A (ja) * 1990-10-31 1992-08-24 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 二重硬化エポキシバックシール処方物
US5169911A (en) 1992-02-18 1992-12-08 General Electric Company Heat curable blends of silicone polymide and epoxy resin
US5262280A (en) 1992-04-02 1993-11-16 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions
US5654081A (en) * 1995-07-05 1997-08-05 Ford Motor Company Integrated circuit assembly with polymeric underfill body
US5863970A (en) * 1995-12-06 1999-01-26 Polyset Company, Inc. Epoxy resin composition with cycloaliphatic epoxy-functional siloxane
DE19736471A1 (de) 1997-08-21 1999-02-25 Espe Dental Ag Lichtinduziert kationisch härtende Zusammensetzungen und deren Verwendung
JP4572006B2 (ja) * 1998-12-08 2010-10-27 日東電工株式会社 粘着剤組成物およびその製造方法と粘着シ―ト類
CN100357382C (zh) * 1999-02-08 2007-12-26 日立化成工业株式会社 用于电路连接的粘合剂、电极连接构造及电极连接方法
US6255137B1 (en) 1999-07-01 2001-07-03 Lockheed Martin Corp. Method for making air pockets in an HDI context
US6949297B2 (en) * 2001-11-02 2005-09-27 3M Innovative Properties Company Hybrid adhesives, articles, and methods
JP4380127B2 (ja) * 2002-03-28 2009-12-09 住友化学株式会社 熱硬化性樹脂組成物及び接着性フィルム
TWI432904B (zh) * 2006-01-25 2014-04-01 Dow Corning 用於微影技術之環氧樹脂調配物
US20070213429A1 (en) * 2006-03-10 2007-09-13 Chih-Min Cheng Anisotropic conductive adhesive
US7632425B1 (en) * 2006-10-06 2009-12-15 General Electric Company Composition and associated method
US7598610B2 (en) * 2007-01-04 2009-10-06 Phoenix Precision Technology Corporation Plate structure having chip embedded therein and the manufacturing method of the same
US20080318413A1 (en) * 2007-06-21 2008-12-25 General Electric Company Method for making an interconnect structure and interconnect component recovery process

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010192900A (ja) 2010-09-02
EP2221860A3 (en) 2013-10-02
US8604612B2 (en) 2013-12-10
CN101819939A (zh) 2010-09-01
CN101819939B (zh) 2015-06-24
US20100207261A1 (en) 2010-08-19
EP2221860A2 (en) 2010-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5580617B2 (ja) 埋め込みチップ集積を容易にするチップ取り付け接着剤、並びに関連するシステム及び方法
KR930010063B1 (ko) 다층배선기판 및 그 제조 방법
JP4282417B2 (ja) 接続構造体
US8080447B2 (en) Method of manufacturing semiconductor device including exposing a dicing line on a wafer
JP2003152002A (ja) 電子デバイス及び電子デバイス封止方法及び電子デバイス接続方法
US8642390B2 (en) Tape residue-free bump area after wafer back grinding
JP4466397B2 (ja) 半導体用接着フィルム及びこれを用いた半導体装置
TW201034094A (en) Method for manufacturing semiconductor package, method for encapsulating semiconductor, and solvent-borne semiconductor encapsulating epoxy resin composition
JP2003007922A (ja) 回路装置の製造方法
Kikuchi et al. Warpage analysis with newly molding material of fan-out panel level packaging and the board level reliability test results
JP5433923B2 (ja) スティフナ付き基板およびその製造方法
JP2003142529A (ja) 接着フィルム、それを用いた半導体パッケージまたは半導体装置、および半導体パッケージまたは半導体装置の製造方法
TWI397136B (zh) Cof用積層板及cof薄膜載帶以及電子裝置
JPH04369898A (ja) 多層配線基板及びその製造方法
JP2014146638A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4605176B2 (ja) 半導体搭載基板及び半導体パッケージの製造方法並びに半導体パッケージ
JP5292848B2 (ja) 部品内蔵基板及びその製造方法
JP4103482B2 (ja) 半導体搭載基板とそれを用いた半導体パッケージ並びにそれらの製造方法
JP2003231876A (ja) 接着フィルムおよびこれを用いた半導体パッケージならびに半導体装置
CN112154537A (zh) 用于制造半导体封装的方法
JP4605177B2 (ja) 半導体搭載基板
JP2004244486A (ja) 接着フィルムおよびこれを用いた半導体パッケージならびに半導体装置
JP3326372B2 (ja) 電子部品用接着剤および電子部品用接着テープ
JP2000312068A (ja) 配線基板およびその製造方法
JP4168456B2 (ja) Tabテープの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130207

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130628

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130716

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131011

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140617

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140711

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5580617

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250