JP5566647B2 - Piezoelectric device and manufacturing method thereof - Google Patents

Piezoelectric device and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP5566647B2
JP5566647B2 JP2009211638A JP2009211638A JP5566647B2 JP 5566647 B2 JP5566647 B2 JP 5566647B2 JP 2009211638 A JP2009211638 A JP 2009211638A JP 2009211638 A JP2009211638 A JP 2009211638A JP 5566647 B2 JP5566647 B2 JP 5566647B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support
bump
bonding
tuning
fork type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009211638A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011061674A (en
Inventor
悠 岩井
孝弘 井上
宏樹 岩井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Dempa Kogyo Co Ltd filed Critical Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority to JP2009211638A priority Critical patent/JP5566647B2/en
Publication of JP2011061674A publication Critical patent/JP2011061674A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5566647B2 publication Critical patent/JP5566647B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

本発明は、水晶片などからなる圧電振動片を備える圧電デバイス及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a piezoelectric device including a piezoelectric vibrating piece including a quartz piece and a method for manufacturing the same.

従来、時計や家電製品、各種情報・通信機器やOA機器等の民生・産業用電子機器には、その電子回路のクロック源として圧電振動子、圧電振動片とICチップとを同一パッケージ内に封止した発振器やリアルタイムクロックモジュール等の圧電デバイスが広く使用されている。特に最近、これら圧電デバイスは、それを搭載する電子機器の小型化・薄型化に伴い、より一層の小型化・薄型化が要求されている。   Conventionally, in consumer and industrial electronic devices such as watches, home appliances, various information / communication devices and OA devices, a piezoelectric vibrator, a piezoelectric vibrating piece and an IC chip are sealed in the same package as a clock source for the electronic circuit. Piezoelectric devices such as stopped oscillators and real-time clock modules are widely used. In particular, these piezoelectric devices have recently been required to be further reduced in size and thickness as the electronic equipment on which they are mounted is reduced in size and thickness.

特許文献1に開示された音叉型の圧電デバイスは、表面実装型のパッケージに固定部が設けられている。また、圧電振動片はパッケージに設けられた固定部に導電性接着剤や半田によって固定される。   The tuning fork type piezoelectric device disclosed in Patent Document 1 is provided with a fixing portion in a surface mount type package. The piezoelectric vibrating piece is fixed to a fixing portion provided in the package with a conductive adhesive or solder.

また、特許文献2に開示された音叉型の圧電デバイスは、内部空間が形成され、その内部空間のパッケージ上には圧電振動片が保持されているとともに、筐体の内部空間が気密封止されている。この内部空間内において、圧電振動片が導電性バンプを用いてFCB(Flip Chip Bonding)法、すなわち超音波振動によりパッケージに電気機械的に接合されている。圧電振動片とパッケージとは導電性バンプを用いて超音波接合されて電気的に接続されている。   The tuning fork type piezoelectric device disclosed in Patent Document 2 has an internal space, a piezoelectric vibrating piece is held on a package in the internal space, and the internal space of the housing is hermetically sealed. ing. In this internal space, the piezoelectric vibrating piece is electromechanically joined to the package by the FCB (Flip Chip Bonding) method, that is, ultrasonic vibration, using conductive bumps. The piezoelectric vibrating piece and the package are electrically connected by ultrasonic bonding using conductive bumps.

特開2007−202211号公報JP 2007-202111 A 特開2009−055354号公報JP 2009-055354 A

現在、電子部品の小型化が進んでおり、これに伴って圧電デバイスの小型化が図られている。そのため、音叉型水晶振動片を収容するためのパッケージの空間が狭くなり、水晶振動片をパッケージに搭載する位置が制約される。   Currently, electronic components are being miniaturized, and accordingly, piezoelectric devices are being miniaturized. Therefore, the space of the package for accommodating the tuning fork type crystal vibrating piece is narrowed, and the position where the crystal vibrating piece is mounted on the package is restricted.

したがって、特許文献1に記載された導電性接着剤を用いた圧電デバイスの場合において、圧電デバイスの小型化にともなって、更に電極パッドの水晶振動片を接合するための接合位置が小さくなり、さらに水晶振動片のパッケージとの接合位置も制約される。また、導電性接着剤を硬化する際に加熱する必要があるが、水晶振動片と金属膜との熱膨張の違いによって水晶振動片に応力が加わり、周波数特性が変動してしまうおそれがある。   Therefore, in the case of the piezoelectric device using the conductive adhesive described in Patent Document 1, with the downsizing of the piezoelectric device, the bonding position for bonding the crystal vibrating piece of the electrode pad is further reduced. The bonding position of the crystal vibrating piece with the package is also limited. Further, although it is necessary to heat the conductive adhesive when it is cured, stress may be applied to the crystal vibrating piece due to the difference in thermal expansion between the crystal vibrating piece and the metal film, and the frequency characteristics may fluctuate.

また、特許文献2に記載されたFCB法により水晶振動片をパッケージに電気機械的に接合する圧電デバイスの場合において、水晶振動片を保持してFCP法で超音波振動させるためには水晶振動片を保持する保持冶具がパッケージ内に入り込まなければならない。パッケージが小型化するとこの保持治具が入り込む領域をパッケージに確保できないという問題が生じる。また、FCB法を行うときは、水晶振動片及びパッケージの全体を加熱する必要がある。   In the case of a piezoelectric device in which a crystal vibrating piece is electromechanically joined to a package by the FCB method described in Patent Document 2, in order to hold the crystal vibrating piece and perform ultrasonic vibration by the FCP method, the crystal vibrating piece A holding jig for holding the sheet must enter the package. When the package is downsized, there arises a problem that an area in which the holding jig enters cannot be secured in the package. Further, when the FCB method is performed, it is necessary to heat the entire crystal vibrating piece and the package.

本発明は、バンプにより圧電振動片とパッケージとをレーザー光で接合できる圧電デバイス及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a piezoelectric device capable of bonding a piezoelectric vibrating piece and a package with a laser beam by a bump, and a manufacturing method thereof.

第1の観点の圧電デバイスは、励振電極を有し基部から伸びた一対の振動腕と励振電極と導通する接続電極を有し振動腕の両外側で基部から伸びた一対の支持腕とを有する圧電材料からなる音叉型圧電振動片と、一対のバンプが形成された片面に有するベース部とを備える。そして、圧電デバイスは、一対の支持腕の接続電極が一対のバンプに載置された状態でレーザーがバンプを照射されることによりバンプが溶融し、その後バンプが硬化することで支持腕がベースに固定される。   A piezoelectric device according to a first aspect includes a pair of vibrating arms having an excitation electrode and extending from a base, and a pair of support arms having connection electrodes electrically connected to the excitation electrode and extending from the base on both outer sides of the vibrating arm. A tuning fork type piezoelectric vibrating piece made of a piezoelectric material and a base portion on one side on which a pair of bumps are formed are provided. In the piezoelectric device, the bump is melted by irradiating the bump with the laser in a state where the connection electrodes of the pair of support arms are placed on the pair of bumps, and then the bump is cured, so that the support arm becomes the base. Fixed.

第2の観点の圧電デバイスにおいて、支持腕の接続電極がバンプと接する反対面には、圧電材料の表面が現れて露出領域が形成されている。   In the piezoelectric device according to the second aspect, the surface of the piezoelectric material appears on the opposite surface where the connection electrode of the support arm contacts the bump to form an exposed region.

第3の観点の圧電デバイスにおいて、支持腕の接続電極がバンプと接する反対面には、レーザーの照射位置を確認するための基準マークが形成されている。   In the piezoelectric device according to the third aspect, a reference mark for confirming the laser irradiation position is formed on the opposite surface where the connection electrode of the support arm contacts the bump.

第4の観点の圧電デバイスの基準マークは、露出領域の周囲を金属膜で囲むことで形成される。
第5の観点の圧電デバイスにおいて、バンプが形成されたベース部の片面は、音叉型圧電振動片を片面に平行になるように音叉型圧電振動片を支持する支持バンプを有する。
The reference mark of the piezoelectric device according to the fourth aspect is formed by surrounding the exposed region with a metal film.
In the piezoelectric device according to the fifth aspect, one side of the base portion on which the bump is formed has a support bump that supports the tuning fork type piezoelectric vibrating piece so that the tuning fork type piezoelectric vibrating piece is parallel to the one side.

第6の観点の圧電デバイスの製造方法は、一対のバンプが形成された片面に有するベース部を用意する工程と、励振電極を有し基部から伸びた一対の振動腕と励振電極と導通する接続電極を有し振動腕の両外側で基部から伸びた一対の支持腕とを有する圧電材料からなる音叉型圧電振動片を用意する工程と、一対の支持腕を一対のバンプ上に載置する載置工程と、一対のバンプをレーザーで照射する照射工程と、ベース部にリッド部を接合するリッド接合工程とを備える。   According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a piezoelectric device manufacturing method comprising: a step of preparing a base portion on one side on which a pair of bumps are formed; a pair of vibrating arms having an excitation electrode and extending from a base; A step of preparing a tuning fork-type piezoelectric vibrating piece made of a piezoelectric material having electrodes and a pair of support arms extending from the base on both outer sides of the vibrating arm; and a mounting for mounting the pair of supporting arms on a pair of bumps A placing step, an irradiation step of irradiating the pair of bumps with a laser, and a lid joining step for joining the lid portion to the base portion.

第7の観点の圧電デバイスの製造方法において、支持腕の接続電極がバンプと接する反対面にレーザーの照射位置を確認するための基準マークが形成されており、基準マークを撮像し処理する画像処理工程を備え、画像処理の結果に基づいて、照射工程はレーザーを照射する。   In the piezoelectric device manufacturing method according to the seventh aspect, the reference mark for confirming the laser irradiation position is formed on the opposite surface where the connection electrode of the support arm is in contact with the bump, and image processing for imaging and processing the reference mark The process includes a process, and the irradiation process irradiates a laser based on the result of the image processing.

本発明は、バンプにより水晶振動片とパッケージとを接合し、レーザー光で効率よくバンプを照射して接合できる圧電デバイス及びその製造方法である。   The present invention relates to a piezoelectric device that can join a crystal vibrating piece and a package with bumps and efficiently irradiate the bumps with laser light, and a method for manufacturing the piezoelectric device.

第1実施形態の第1水晶振動子10Aの側面図である。It is a side view of the 1st crystal oscillator 10A of a 1st embodiment. 第1実施形態の第1水晶振動子10Aの平面図である。It is a top view of 10 A of 1st crystal oscillators of 1st Embodiment. 図2のB−Bで示された部分の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the part shown by BB of FIG. 第1水晶振動子10Aの製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of 10 A of 1st crystal oscillators. 第2実施形態の第2水晶振動子10Bの平面図である。It is a top view of the 2nd crystal oscillator 10B of a 2nd embodiment. 第3実施形態の第3水晶振動子10Cの平面図である。It is a top view of the 3rd crystal oscillator 10C of a 3rd embodiment. 第4実施形態の第4水晶振動子10Dの平面図である。It is a top view of 4th crystal oscillator 10D of 4th Embodiment. 図7のC−Cで示された部分の拡大断面図である。It is an expanded sectional view of the part shown by CC of FIG. 第5実施形態の第5水晶振動子10Eの平面図である。It is a top view of the 5th crystal oscillator 10E of a 5th embodiment. 第5水晶振動子10Eの製造方法を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the manufacturing method of the 5th crystal oscillator 10E. 第6実施形態の第6水晶振動子10Fの平面図である。It is a top view of the 6th crystal oscillator 10F of a 6th embodiment. 第7実施形態の第7水晶振動子10Gの平面図である。It is a top view of the 7th crystal oscillator 10G of a 7th embodiment.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
なお、以下の実施形態においては、圧電デバイスとして音叉型水晶振動片を備えた水晶振動子を一例として説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
In the following embodiments, a quartz resonator including a tuning fork type quartz vibrating piece as a piezoelectric device will be described as an example.

(第1実施形態)
<第1水晶振動子10A>
第1実施形態の第1水晶振動子10Aについて、図1および図2を参照しながら説明する。図1は、第1実施形態の第1水晶振動子10Aの側面図である。図2は、第1実施形態の第1水晶振動子10Aの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。
なお、水晶片11からなる第1音叉型圧電振動片100Aが載置された面をXY平面とし、第1音叉型圧電振動片100Aの一対の振動腕13が延伸された方向をY軸方向とし、XY平面に垂直の方向をZ軸方向とする。
(First embodiment)
<First Crystal Resonator 10A>
The first crystal resonator 10A of the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a side view of the first crystal resonator 10A of the first embodiment. FIG. 2 is a plan view of the first crystal unit 10A of the first embodiment, and the lid 21 is omitted for ease of explanation.
The surface on which the first tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 100A made of the crystal piece 11 is placed is an XY plane, and the direction in which the pair of vibrating arms 13 of the first tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 100A is extended is the Y-axis direction. The direction perpendicular to the XY plane is taken as the Z-axis direction.

第1水晶振動子10Aは、ベース部22及び蓋体21よりパッケージが構成される。このパッケージ内に、水晶片11よりなる第1音叉型水晶振動片100Aが収納される。その第1水晶振動子10Aのパッケージ外形は、Y軸方向の長さL1が2.0mmに設定され、X軸方向の幅L2が1.2mmに設定され、Z軸方向の高さH1が0.38mmに設定されている。また、パッケージにおける内部空間において、Y軸方向の長さL3が1.6mmに設定され、X軸方向の幅L4が0.8mmに設定され、Z軸方向の高さH2が0.26mmに設定されている。   The first crystal unit 10 </ b> A includes a base unit 22 and a lid body 21. The first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A made of the crystal piece 11 is accommodated in this package. In the package outline of the first crystal unit 10A, the length L1 in the Y-axis direction is set to 2.0 mm, the width L2 in the X-axis direction is set to 1.2 mm, and the height H1 in the Z-axis direction is 0. .38mm is set. In the internal space of the package, the length L3 in the Y-axis direction is set to 1.6 mm, the width L4 in the X-axis direction is set to 0.8 mm, and the height H2 in the Z-axis direction is set to 0.26 mm. Has been.

ベース部22は例えば圧電体、セラミック又はガラスなどで形成されている。ベース部22は、内部側に導電路27a、27bが形成されており、ベース部22の底面に外部電極23a、23bが形成されている。蓋体21は、硼珪酸ガラス又は平板状の金属、例えばFe−Ni合金(42アロイ)やFe−Ni−Co合金(コバール)などにより構成される。その蓋体21は、AuSi、AuS、AuGe等の接合材24によりベース部22に接合され、パッケージ内を窒素ガスや真空などでシーム溶接などの手法により気密的に封止する。これは、第1音叉型水晶振動片100Aの電極などが酸化しにくいようにするためである。   The base portion 22 is made of, for example, a piezoelectric body, ceramic, or glass. Conductive paths 27 a and 27 b are formed on the inner side of the base portion 22, and external electrodes 23 a and 23 b are formed on the bottom surface of the base portion 22. The lid 21 is made of borosilicate glass or a flat metal such as an Fe—Ni alloy (42 alloy) or an Fe—Ni—Co alloy (Kovar). The lid 21 is bonded to the base portion 22 by a bonding material 24 such as AuSi, AuS, or AuGe, and the inside of the package is hermetically sealed by a technique such as seam welding with nitrogen gas or vacuum. This is to prevent the electrodes of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A from being easily oxidized.

また、蓋体21とベース部22との接合には、金属材料からなる接合材24が用いられている。なお、接合材24は厚さ15μmからなり、蓋体21の表面に接合材24を圧延等の手段により全面に形成する。この接合材24を介して、シーム溶接やビーム溶接、加熱溶融接合等の手法により、蓋体21をベース部22に接合して、蓋体21とベース部22とによる第1水晶振動子10Aのパッケージが構成される。なお、接合材24は、例えばタングステンメタライズ層、あるいはモリブデンメタライズ層上にニッケル、金の順でメッキした構成とからなる。   Further, a bonding material 24 made of a metal material is used for bonding the lid 21 and the base portion 22. The bonding material 24 has a thickness of 15 μm, and the bonding material 24 is formed on the entire surface of the lid 21 by means such as rolling. The lid body 21 is joined to the base portion 22 by a technique such as seam welding, beam welding, heat fusion joining, etc. via the joining material 24, and the first crystal resonator 10 </ b> A is formed by the lid body 21 and the base portion 22. A package is configured. Note that the bonding material 24 has a structure in which, for example, nickel and gold are plated in this order on a tungsten metallized layer or a molybdenum metallized layer.

第1音叉型水晶振動片100Aの外形はエッチングにより形成される。具体的に説明すると、丸型又は角型の水晶ウエハより同時に多数の第1音叉型水晶振動片100Aの外形を形成する。第1音叉型水晶振動片100Aの外形は図示しない耐蝕膜などのマスクを用いて、マスクから露出した水晶ウエハに対して、例えば、フッ酸溶液をエッチング液として、第1音叉型水晶振動片100Aの外形のウエットエッチングを行う。耐蝕膜としては、例えば、ニッケル(Ni)を下地として金(Au)が蒸着された金属被膜などを用いることができる。このエッチング工程にかかる時間は、フッ酸溶液の濃度や種類、温度等により変化する。   The outer shape of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is formed by etching. More specifically, the outer shape of a large number of first tuning-fork type crystal vibrating pieces 100A is formed simultaneously from a round or square crystal wafer. The outer shape of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is a first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A using, for example, a hydrofluoric acid solution as an etching solution for a quartz wafer exposed from the mask using a mask such as a corrosion-resistant film (not shown). Wet etching of the outer shape is performed. As the corrosion-resistant film, for example, a metal film in which gold (Au) is vapor-deposited with nickel (Ni) as a base can be used. The time required for this etching process varies depending on the concentration, type, temperature, etc. of the hydrofluoric acid solution.

ウエットエッチングにより、基部18からほぼ平行に伸びた第1幅がW1である振動腕13が形成され、その表裏両面には溝部14が形成されている。詳しく説明すると、基部18の長さLKは0.15mm程度で、一対の振動腕13の長さKHは1.3mm程度の長さである。また、溝部14のX軸方向の幅は振動腕13のX軸方向の第1幅W1の約80パーセントである。また、一本の振動腕13の表面には1つの溝部14が形成されており、振動腕13の裏面側にも同様に1つの溝部14が形成されている。つまり、一対の振動腕13には4箇所の溝部14が形成される。このため、溝部14の断面は略H型に形成され第1音叉型水晶振動片100AのCI値を低下させる効果がある。なお、第1実施形態では一本の振動腕の表裏に2箇所の溝部14を形成しているが、2箇所の溝部を形成しても同様な効果がある。また、一対の振動腕13のX軸方向の距離である第2幅W2は振動腕13の第1幅W1と同じであることが好ましい。   By wet etching, a vibrating arm 13 having a first width W1 extending substantially in parallel from the base portion 18 is formed, and groove portions 14 are formed on both front and back surfaces thereof. More specifically, the length LK of the base 18 is about 0.15 mm, and the length KH of the pair of vibrating arms 13 is about 1.3 mm. Further, the width of the groove portion 14 in the X-axis direction is about 80% of the first width W1 of the vibrating arm 13 in the X-axis direction. One groove portion 14 is formed on the surface of one vibrating arm 13, and one groove portion 14 is similarly formed on the back surface side of the vibrating arm 13. That is, four groove portions 14 are formed in the pair of vibrating arms 13. For this reason, the cross section of the groove part 14 is formed in a substantially H shape, and has the effect of reducing the CI value of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A. In the first embodiment, two groove portions 14 are formed on the front and back of one vibrating arm, but the same effect can be obtained by forming two groove portions. The second width W2 that is the distance in the X-axis direction between the pair of vibrating arms 13 is preferably the same as the first width W1 of the vibrating arms 13.

また、第1音叉型水晶振動片100Aの基部18は両端部に支持腕15をそれぞれ備え、支持腕15の長さは振動腕13の長さより短く形成されている。支持腕15は急激に幅広になりハンマー型の先端部17を備えている。ハンマー型の先端部17は後述する接合バンプ26aを介してベース部22に固定されている。支持腕15の幅は振動腕13の第1幅W1とほぼ同じで、ハンマー型の先端部17の幅は第1幅W1の1.5倍〜2倍にすることが好ましい。   Further, the base portion 18 of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> A includes support arms 15 at both ends, and the length of the support arm 15 is shorter than the length of the vibration arm 13. The support arm 15 is suddenly widened and has a hammer-type tip 17. The hammer-type tip portion 17 is fixed to the base portion 22 via a bonding bump 26a described later. The width of the support arm 15 is substantially the same as the first width W1 of the vibrating arm 13, and the width of the hammer-type tip 17 is preferably 1.5 to 2 times the first width W1.

また、基部18及び振動腕13には基部電極19と励振電極20とが形成される。また、支持腕15のZ側の両面には接続電極12a、12bがそれぞれ設けられている。基部電極19、励振電極20および接続電極12a、12bは例えばNi膜からなる下地にAu膜を設けた2層構造で形成されている。また、電極の形成は蒸着もしくはスパッタリングなどによって、電極となる金属を全面に被覆し、次にフォトリソグラフィの手法により、電極を形成する。励振電極20は、基部電極19を介して接続電極12a、12bに導通する。接続電極12a、12bは、接合バンプ26aを介して導電路27a、27bに導通し、外部電極23a、23bにそれぞれ接続される。   A base electrode 19 and an excitation electrode 20 are formed on the base 18 and the vibrating arm 13. Connection electrodes 12a and 12b are provided on both sides of the support arm 15 on the Z side. The base electrode 19, the excitation electrode 20, and the connection electrodes 12a and 12b are formed in a two-layer structure in which an Au film is provided on a base made of, for example, a Ni film. Further, the electrode is formed by covering the entire surface with a metal to be an electrode by vapor deposition or sputtering, and then forming the electrode by a photolithography technique. The excitation electrode 20 is electrically connected to the connection electrodes 12 a and 12 b through the base electrode 19. The connection electrodes 12a and 12b are electrically connected to the conductive paths 27a and 27b via the bonding bumps 26a and are connected to the external electrodes 23a and 23b, respectively.

図1に示されるように、第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22の内部面に離れて固定されるように、ベース部22の内部面のX軸方向の両側には2つのバンプ支持部25が形成されている。そのバンプ支持部25上には導電路27a、27bが形成される。   As shown in FIG. 1, two bumps are supported on both sides of the inner surface of the base portion 22 in the X-axis direction so that the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> A is fixed to the inner surface of the base portion 22. A portion 25 is formed. Conductive paths 27 a and 27 b are formed on the bump support portion 25.

図2に示されるように、ベース部22には、2つの接合バンプ26aと、2つの支持バンプ26bとがベース部22の内部面に形成される。接合バンプ26a、支持バンプ26bはたとえば金(Au)又はAuSi、AuGe、AuSnなどにより構成され、その直径は80〜120μmである。2つの接合バンプ26aは導電路27a、27b上にそれぞれ形成される。2つの支持バンプ26bは支持腕15に接する位置にそれぞれ形成される。ここで、2つの支持バンプ26bは第1音叉型圧電振動片100Aに接合しない状態で、第1音叉型圧電振動片100Aを保持する役割をしている。このため、2つの支持バンプ26bは第1音叉型水晶振動片100Aを支えて傾かないように、Y軸方向で第1音叉型水晶振動片100Aの重心よりも基部18側に配置する必要がある。   As shown in FIG. 2, the base portion 22 has two bonding bumps 26 a and two support bumps 26 b formed on the inner surface of the base portion 22. The bonding bumps 26a and the support bumps 26b are made of, for example, gold (Au), AuSi, AuGe, AuSn, or the like, and have a diameter of 80 to 120 μm. The two bonding bumps 26a are formed on the conductive paths 27a and 27b, respectively. The two support bumps 26 b are respectively formed at positions that contact the support arm 15. Here, the two support bumps 26b serve to hold the first tuning fork type piezoelectric vibrating piece 100A without being joined to the first tuning fork type piezoelectric vibrating piece 100A. For this reason, the two support bumps 26b need to be arranged closer to the base 18 side than the center of gravity of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A in the Y-axis direction so as not to support and tilt the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A. .

後述するように、−X側の2つの接合バンプ26aはレーザー光LLが照射されることで、第1音叉型圧電振動片100Aの支持腕15の先端部17と接合バンプ26aとが接合される。   As will be described later, the two bonding bumps 26a on the −X side are irradiated with the laser beam LL, so that the tip 17 of the support arm 15 of the first tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 100A and the bonding bump 26a are bonded. .

図3は、図2のB−Bで示された部分の拡大断面図である。図3は、レーザー光源装置LXからのレーザー光LLが接合バンプ26aに照射される状態を示した図である。図3に示されたように、レーザー光源装置LXは、1または複数のレーザー光源LM(又はレーザー光源LMから光ファイバで導いた先端部)及び楕円鏡EMにより構成されている。   FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by BB in FIG. FIG. 3 is a view showing a state in which the laser beam LL from the laser light source device LX is irradiated to the bonding bump 26a. As shown in FIG. 3, the laser light source device LX includes one or a plurality of laser light sources LM (or a tip portion guided from the laser light source LM with an optical fiber) and an elliptical mirror EM.

楕円鏡EMは第1焦点F1及び第2焦点F2を有している。複数のレーザー光源LMからのレーザー光LLは楕円鏡EMの+Z側の第1焦点F1から照射され、楕円鏡EMにより−Z側に反射される。また、楕円鏡EMの他の−Z側の第2焦点F2に接合バンプ26aが配置される。したがって、楕円鏡EMの第1焦点F1に照射されたレーザー光LLは、楕円鏡EMの内面に反射され再び楕円鏡EMの第2焦点F2に設けられた接合バンプ26aで集光する。これにより、水晶片11には熱があまり集中せず、接合バンプ26aのみに熱が集中し、接合バンプ26aが良く溶融する。このとき、レーザー光LLの照射によって支持腕15の上面側(すなわち、接合バンプ26aと接する面の反対面)に形成された接続電極12の一部が蒸散されてなくなってしまう。その後、レーザー光源LMの照射が止まると、接合バンプ26aが硬化し、第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22の内部面に固定される。また、接続電極12a、12bは、接合バンプ26aを介して導電路27a、27bに導通する。   The elliptical mirror EM has a first focal point F1 and a second focal point F2. The laser beams LL from the plurality of laser light sources LM are irradiated from the first focal point F1 on the + Z side of the elliptical mirror EM, and reflected to the −Z side by the elliptical mirror EM. Further, the bonding bump 26a is arranged at the second focal point F2 on the other −Z side of the elliptical mirror EM. Therefore, the laser beam LL irradiated to the first focal point F1 of the elliptical mirror EM is reflected by the inner surface of the elliptical mirror EM and is condensed again by the bonding bump 26a provided at the second focal point F2 of the elliptical mirror EM. Thereby, heat does not concentrate so much on the crystal piece 11, but heat concentrates only on the bonding bump 26a, and the bonding bump 26a melts well. At this time, a part of the connection electrode 12 formed on the upper surface side of the support arm 15 (that is, the surface opposite to the surface in contact with the bonding bump 26a) is not evaporated by the irradiation with the laser beam LL. Thereafter, when the irradiation of the laser light source LM stops, the bonding bump 26a is cured, and the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is fixed to the inner surface of the base portion 22. The connection electrodes 12a and 12b are electrically connected to the conductive paths 27a and 27b through the bonding bumps 26a.

ここで、レーザー光LLとしては、YAGレーザーの2倍高調波が用いられる。YAGレーザーは、YAG結晶をランプ励起させ発振させる波長1064nmの赤外線レーザー光であり、その2倍高調波はグリーンレーザー(波長532nm)である。レーザー光源装置LXは、微小エリアに極めて高いエネルギー密度を照射することができる。   Here, the second harmonic of the YAG laser is used as the laser light LL. The YAG laser is an infrared laser beam having a wavelength of 1064 nm that causes the YAG crystal to be excited by a lamp to oscillate, and its double harmonic is a green laser (wavelength of 532 nm). The laser light source device LX can irradiate a very small area with an extremely high energy density.

また、YAGレーザーはさらに照射時間を3/1000秒〜20/1000秒程度にすることができるため、水晶片11又は接続電極12a、12bもしくは導電路27a、27bに熱影響による変形、歪みなどをほとんど生じさせない、また、接合バンプ26aの接合加工後にパンプ26a内に巣(ホール)がほとんどなく、接合範囲をφ0.1mm以下に抑えることができる。   Further, since the irradiation time of the YAG laser can be further reduced to about 3/1000 seconds to 20/1000 seconds, the crystal piece 11 or the connection electrodes 12a and 12b or the conductive paths 27a and 27b are deformed or distorted due to a thermal effect. Almost no nest (hole) is formed in the bump 26a after the joining bump 26a is joined, and the joining range can be suppressed to φ0.1 mm or less.

第1実施形態において、第1音叉型圧電振動片100Aとベース部22とは、バンプ支持部25上に形成された接合バンプ26a及びバンプ支持部25により支持されている。しかし、バンプ支持部25を省略し、接合バンプ26aをベース部22の内部面に設けられて第1音叉型圧電振動片100Aとベース部22とを接合してもよい。   In the first embodiment, the first tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 100 </ b> A and the base portion 22 are supported by bonding bumps 26 a and bump support portions 25 formed on the bump support portions 25. However, the bump support portion 25 may be omitted, and the first tuning fork type piezoelectric vibrating piece 100 </ b> A and the base portion 22 may be bonded by providing the bonding bump 26 a on the inner surface of the base portion 22.

また、第1実施形態において、2つの支持バンプ26bは第1音叉型圧電振動片100Aに接合しない状態で第1音叉型圧電振動片100Aを保持している。しかし2つの支持バンプ26bは、接合バンプ26aと同じように、接合バンプとして第1音叉型圧電振動片100Aに接合されてもよい。すなわち、4つの接合バンプ26aが第1音叉型圧電振動片100Aを保持するようにしてもよい。   In the first embodiment, the two support bumps 26b hold the first tuning fork type piezoelectric vibrating piece 100A without being joined to the first tuning fork type piezoelectric vibrating piece 100A. However, the two support bumps 26b may be joined to the first tuning-fork type piezoelectric vibrating piece 100A as joint bumps in the same manner as the joint bump 26a. That is, the four bonding bumps 26a may hold the first tuning fork type piezoelectric vibrating piece 100A.

<第1水晶振動子10Aの製造方法>
図4は、第1水晶振動子10Aの製造方法を説明するためのフローチャートである。
ステップS111において、内部面に一対のバンプ支持部25を有するベース部22が用意される。バンプ支持部25上には、外部電極23a、23bと導通する導電路27a、27bが形成されている。導電路27a、27bには接合バンプ26a、支持バンプ26bがそれぞれ設けられている。
<Method for Manufacturing First Crystal Resonator 10A>
FIG. 4 is a flowchart for explaining a manufacturing method of the first crystal resonator 10A.
In step S111, a base portion 22 having a pair of bump support portions 25 on the inner surface is prepared. On the bump support portion 25, conductive paths 27a and 27b that are electrically connected to the external electrodes 23a and 23b are formed. Bonding bumps 26a and support bumps 26b are provided on the conductive paths 27a and 27b, respectively.

ステップS112において、一対の振動腕13と一対の支持腕15とを有する水晶片11からなる第1音叉型水晶振動片100Aが用意される。第1音叉型水晶振動片100Aは、溝部14が形成された一対の振動腕13を有しており、振動腕13の両外側に幅広い先端部17を有する支持腕15をそれぞれ有している。また支持腕15には接続電極12a、12bが形成されている。   In step S112, a first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A made of a crystal piece 11 having a pair of vibrating arms 13 and a pair of support arms 15 is prepared. The first tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> A has a pair of vibrating arms 13 in which grooves 14 are formed, and has support arms 15 having a wide end portion 17 on both outer sides of the vibrating arms 13. In addition, connection electrodes 12 a and 12 b are formed on the support arm 15.

ステップS113において、第1音叉型水晶振動片100Aが接合バンプ26a、支持バンプ26bに載置される。一対の支持腕15が接合バンプ26a、支持バンプ26bで支持されて、ベース部22の内部面に平行に、第1音叉型水晶振動片100Aが支持される。
ステップS114において、レーザー光源装置LXがレーザー光LLを照射する。レーザー光LLは、支持腕15の先端部17が載置された接合バンプ26aに集光する。楕円鏡EMの第2焦点F2に接合バンプ26aが配置される。そのため、特に接合バンプ26aに熱が集中し接合バンプ26aが溶融する。レーザー光源装置LXがレーザー光LLの照射を停止すると、接合バンプ26aが硬化し、第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22の内部面に固定される。
In step S113, the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is placed on the bonding bump 26a and the support bump 26b. The pair of support arms 15 are supported by the bonding bumps 26a and the support bumps 26b, and the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is supported in parallel with the inner surface of the base portion 22.
In step S114, the laser light source device LX emits the laser light LL. The laser beam LL is focused on the bonding bump 26a on which the tip 17 of the support arm 15 is placed. The bonding bump 26a is disposed at the second focal point F2 of the elliptical mirror EM. Therefore, heat concentrates particularly on the bonding bump 26a, and the bonding bump 26a melts. When the laser light source device LX stops irradiating the laser beam LL, the bonding bump 26a is cured, and the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is fixed to the inner surface of the base portion 22.

ステップS115において、第1音叉型水晶振動片100Aの周波数が調整される。例えば、第1音叉型水晶振動片100Aの振動腕13の先端にレーザー光が照射されることで、金属被膜の一部が蒸散・昇華させられ質量が削減することにより振動周波数が調整される。   In step S115, the frequency of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is adjusted. For example, by irradiating the tip of the vibrating arm 13 of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A with laser light, a part of the metal coating is evaporated and sublimated to reduce the mass, thereby adjusting the vibration frequency.

ステップS116において、蓋体21がベース部22に接合される。その蓋体21は、AuSi、AuS、AuGe等の半田24によりベース部22に接合され、パッケージ内を窒素ガスや真空などでシーム溶接などの手法により気密的に封止する。   In step S <b> 116, the lid body 21 is joined to the base portion 22. The lid body 21 is joined to the base portion 22 by solder 24 such as AuSi, AuS, or AuGe, and the inside of the package is hermetically sealed by a technique such as seam welding with nitrogen gas or vacuum.

なお、上記フローチャートでは、レーザー光源装置LXがレーザー光LLを照射して、第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22に接合された後(ステップS114)、蓋体21がベース部22に接合された(ステップS116)。しかし、蓋体21がガラス材料など透明材料であればレーザー光LLを透過させる。そのため、蓋体21がベース部22に接合された後に、レーザー光LLが照射され第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22に接合されてもよい。さらに、第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22に接合された後、第1音叉型水晶振動片100Aの振動周波数が調整されてもよい。   In the flowchart, the laser light source device LX irradiates the laser beam LL and the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is joined to the base portion 22 (step S114), and then the lid 21 is joined to the base portion 22. (Step S116). However, if the lid 21 is a transparent material such as a glass material, the laser beam LL is transmitted. Therefore, after the lid 21 is bonded to the base portion 22, the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> A may be bonded to the base portion 22 by irradiation with the laser beam LL. Furthermore, after the first tuning-fork type quartz vibrating piece 100A is joined to the base portion 22, the vibration frequency of the first tuning-fork type quartz vibrating piece 100A may be adjusted.

(第2実施形態)
<第2水晶振動子10B>
図5は、第2実施形態の第2水晶振動子10Bの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。第2実施形態の第2水晶振動子10Bにおいて、第1実施形態と同じ構成要件には同じ符号を付けて説明する。
(Second Embodiment)
<Second crystal resonator 10B>
FIG. 5 is a plan view of the second crystal unit 10B of the second embodiment, and the lid 21 is omitted for easy explanation. In the second crystal resonator 10B of the second embodiment, the same constituent elements as those of the first embodiment will be described with the same reference numerals.

図5に示されたように、第1水晶振動子10Aと比べると、第2水晶振動子10Bは、バンプ支持部35a、35bの形状および支持バンプ36bの配置位置が異なっている。このため、第1音叉型水晶振動片100Aなどについては説明を省略する。   As shown in FIG. 5, compared to the first crystal unit 10A, the second crystal unit 10B is different in the shape of the bump support portions 35a and 35b and the arrangement position of the support bumps 36b. Therefore, the description of the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A and the like is omitted.

第1実施形態に示された構成である場合、支持バンプ26bの+Y側部分の基部18に−Z軸方向の衝撃が生じると、支持バンプ26bを支点にして接合バンプ26aに+Z軸方向の負荷がかかるおそれがある。また、第1実施形態では支持バンプ26bと支持腕15との接触部分が支持腕15の水晶の幅が狭い箇所であるため、強度にも影響を与えるおそれがある。   In the case of the configuration shown in the first embodiment, when an impact in the −Z-axis direction occurs on the base 18 of the + Y side portion of the support bump 26b, a load in the + Z-axis direction is applied to the bonding bump 26a using the support bump 26b as a fulcrum. There is a risk of taking. Further, in the first embodiment, the contact portion between the support bump 26b and the support arm 15 is a portion where the width of the crystal of the support arm 15 is narrow, which may affect the strength.

第2実施形態において、第1音叉型水晶振動片100Aを支持する支持バンプ36bは、接合バンプ26aから+Y側に一番遠く離れて配置されている。第1音叉型水晶振動片100Aを支持する支持バンプ36bが接合バンプ26aから離れて基部18の+Y側に配置されることで、上述の接合バンプ26aへの+Z軸方向の負荷が軽減できる。また、支持バンプ36bは幅の広い基部18と接触するため、支持バンプ36bが支持腕15と接触する位置に形成される場合と比べて、第1音叉型水晶振動片100Aにおける支持バンプ36bとの接触部の強度を確保できる。   In the second embodiment, the support bump 36b that supports the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is disposed farthest from the bonding bump 26a on the + Y side. Since the support bump 36b that supports the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is disposed on the + Y side of the base 18 away from the bonding bump 26a, the load in the + Z-axis direction on the bonding bump 26a can be reduced. In addition, since the support bump 36b is in contact with the wide base 18, the support bump 36b in the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is compared with the case where the support bump 36b is formed at a position in contact with the support arm 15. The strength of the contact portion can be ensured.

また、接合バンプ26a及び支持バンプ36bの配置位置の変化に伴って、それらを支持するバンプ支持部35a、35bの形状及び配置位置もそれぞれに変化している。詳しく説明すると、第1音叉型水晶振動片100Aと接合される一対の接合バンプ26aのZ側の直下にはそれらを支持する2つのバンプ支持部35aがそれぞれ設けられている。また、第1音叉型水晶振動片100Aと接合されない一対の支持バンプ36bのZ側の直下にはそれらを支持する1つの支持部35bが設けられている。ここで、一対の支持バンプ36bのZ側の直下にはそれらを支持する2つの支持部35bが設けられてもよい。   Further, as the arrangement positions of the bonding bumps 26a and the support bumps 36b change, the shapes and arrangement positions of the bump support portions 35a and 35b that support them also change. More specifically, two bump support portions 35a for supporting the first tuning fork type crystal vibrating piece 100A and the pair of bonding bumps 26a are provided immediately below the Z side. Further, one support portion 35b is provided directly below the Z side of the pair of support bumps 36b that are not joined to the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A. Here, two support portions 35b for supporting the support bumps 36b may be provided immediately below the Z side of the pair of support bumps 36b.

第2水晶振動子10Bの製造方法については、第1実施形態と同じであるため、説明を省略する。   Since the manufacturing method of the second crystal unit 10B is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.

(第3実施形態)
<第3水晶振動子10C>
図6は、第3実施形態の第3水晶振動子10Cの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。第3実施形態の第3水晶振動子10Cにおいて、第1実施形態と同じ構成要件には同じ符号を付けて説明する。
(Third embodiment)
<Third crystal resonator 10C>
FIG. 6 is a plan view of the third crystal resonator 10C of the third embodiment, and the lid 21 is omitted for ease of explanation. In the third crystal resonator 10C of the third embodiment, the same constituent elements as those of the first embodiment will be described with the same reference numerals.

図6に示されたように、第1水晶振動子10Aと比べると、第3水晶振動子10Cはバンプ支持部35bの形状および支持バンプ46bの配置位置が異なっている。   As shown in FIG. 6, the third crystal resonator 10C differs from the first crystal resonator 10A in the shape of the bump support portion 35b and the arrangement position of the support bump 46b.

第3実施形態において、第1音叉型水晶振動片100Aを支持する支持バンプ46bは、基部18の+X側の端部中央に配置されている。したがって、接合バンプ26a及び支持バンプ46bにより第1音叉型水晶振動片100Aがベース部22の内部面に平行に固定される。   In the third embodiment, the support bump 46 b that supports the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> A is disposed at the center of the end of the base 18 on the + X side. Accordingly, the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A is fixed in parallel to the inner surface of the base portion 22 by the bonding bumps 26a and the support bumps 46b.

また、接合バンプ26a及び支持バンプ46bの配置位置の変化に伴って、それらを支持するバンプ支持部35a、35bの形状及び配置位置もそれぞれに変化される。詳しく説明すると、第1音叉型水晶振動片100Aと接合される一対の接合バンプ26aのZ側の直下にはそれらを支持する2つのバンプ支持部35aがそれぞれ設けられている。また、第1音叉型水晶振動片100Aと接合されない支持バンプ46bのZ側の直下にはそれを支持する1つの支持部35bが設けられている。   Further, as the arrangement positions of the bonding bumps 26a and the support bumps 46b are changed, the shapes and arrangement positions of the bump support portions 35a and 35b that support them are also changed. More specifically, two bump support portions 35a for supporting the first tuning fork type crystal vibrating piece 100A and the pair of bonding bumps 26a are provided immediately below the Z side. Also, one support portion 35b is provided directly below the Z side of the support bump 46b that is not joined to the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A.

ここで、支持バンプ46bのサイズが大きすぎると、2つの基部電極19がショートしてしまい第1音叉型水晶振動片100Aが発振できなくなるため、支持バンプ46bのサイズと2つの基部電極19の形状とを考慮する必要がある。支持バンプ46bが一つで済むため第3水晶振動子10Cの製造コストが低減される。   Here, if the size of the support bump 46b is too large, the two base electrodes 19 are short-circuited, and the first tuning-fork type crystal vibrating piece 100A cannot oscillate. Therefore, the size of the support bump 46b and the shape of the two base electrodes 19 It is necessary to consider. Since only one support bump 46b is required, the manufacturing cost of the third crystal unit 10C is reduced.

第3水晶振動子10Cの製造方法については、第1実施形態と同じであるため、説明を省略する。   Since the manufacturing method of the third crystal resonator 10C is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.

(第4実施形態)
<第4水晶振動子10D>
図7は、第4実施形態の第4水晶振動子10Dの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。図8は、図7のC−Cで示された部分の拡大断面図である。第4実施形態の第4水晶振動子10Dにおいて、第1実施形態と同じ構成要件には同じ符号を付けて説明する。
(Fourth embodiment)
<4th crystal unit 10D>
FIG. 7 is a plan view of the fourth crystal resonator 10D of the fourth embodiment, and the lid 21 is omitted for ease of explanation. FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a portion indicated by CC in FIG. In the fourth crystal resonator 10D of the fourth embodiment, the same constituent elements as those of the first embodiment will be described with the same reference numerals.

図7に示されたように、第1水晶振動子10Aと比べると、第4水晶振動子10Dは第4音叉型水晶振動片100Dが異なっている。このため、その他のパッケージなどについては説明を省略する。   As shown in FIG. 7, the fourth crystal resonator 10D is different from the first crystal resonator 10A in the fourth tuning fork type crystal resonator element 100D. For this reason, description of other packages is omitted.

第4実施形態の第4音叉型水晶振動片100Dは、支持腕15の先端部17の接続電極の形状が異なっている。詳しく説明すると、支持腕15の先端部17はそのZ軸方向の両面に接続電極を備えていない。図8に示されるように、支持腕15の先端部17の接合バンプ26aに接する面側には接続電極42a、42bが設けられている。先端部17の上面側(接合バンプ26aと接する面の反対面)の先端部17には、接続電極が形成されていない。先端部17だけでなく支持腕15の全体にも接続電極が形成されていなくてもよい。   The fourth tuning-fork type crystal vibrating piece 100D of the fourth embodiment is different in the shape of the connection electrode of the distal end portion 17 of the support arm 15. More specifically, the distal end portion 17 of the support arm 15 is not provided with connection electrodes on both surfaces in the Z-axis direction. As shown in FIG. 8, connection electrodes 42 a and 42 b are provided on the surface side of the tip 17 of the support arm 15 that is in contact with the bonding bump 26 a. No connection electrode is formed on the tip portion 17 on the upper surface side of the tip portion 17 (the surface opposite to the surface in contact with the bonding bump 26a). The connection electrode may not be formed not only on the tip portion 17 but also on the entire support arm 15.

図8に示されたようにすれば、レーザー光源装置LXでレーザー光LLが照射されるとき、先端部17の水晶片11のみが現れており接続電極がないため、接続電極によるレーザー光LLの反射が無い。このため、レーザー光LLの大部分のエネルギーが接合バンプ26aに集中される。   As shown in FIG. 8, when the laser light source device LX irradiates the laser light LL, only the crystal piece 11 at the tip portion 17 appears and there is no connection electrode. There is no reflection. For this reason, most of the energy of the laser beam LL is concentrated on the bonding bump 26a.

第4水晶振動子10Dの製造方法については、第1実施形態と同じであるため、説明を省略する。接続電極42a、42bも、フォトリソグラフィの手法により形成することができる。   Since the manufacturing method of the fourth crystal unit 10D is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted. The connection electrodes 42a and 42b can also be formed by a photolithography technique.

(第5実施形態)
<第5水晶振動子10E>
図9は、第5実施形態の第5水晶振動子10Eの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。第5実施形態の第5水晶振動子10Eにおいて、第1実施形態と同じ構成要件には同じ符号を付けて説明する。
(Fifth embodiment)
<Fifth crystal unit 10E>
FIG. 9 is a plan view of the fifth crystal unit 10E of the fifth embodiment, and the lid 21 is omitted for ease of explanation. In the fifth crystal unit 10E of the fifth embodiment, the same constituent elements as those of the first embodiment will be described with the same reference numerals.

図9に示されたように、第5水晶振動子10Eは第1水晶振動子10Aと比べると、第5音叉型水晶振動片100Eのみが異なっている。このため、その他のパッケージなどについては説明を省略する。   As shown in FIG. 9, the fifth crystal resonator 10E is different from the first crystal resonator 10A only in the fifth tuning-fork type crystal resonator element 100E. For this reason, description of other packages is omitted.

第1音叉型水晶振動片100Aと比べると、第5音叉型水晶振動片100Eは、支持腕15の先端部17の接続電極の形状が異なっている。支持腕15の先端部17の接合バンプ26aと接する反対面にはレーザー光LLの照射位置を確認するために基準マーク28が設けられている。   Compared to the first tuning-fork type quartz vibrating piece 100A, the fifth tuning-fork type quartz vibrating piece 100E is different in the shape of the connection electrode of the tip 17 of the support arm 15. A reference mark 28 is provided on the opposite surface of the tip 17 of the support arm 15 in contact with the bonding bump 26a to confirm the irradiation position of the laser beam LL.

第5音叉型水晶振動片100Eにおいて、基準マーク28は丸形の基準マークが用いられている。この基準マーク28は支持腕15の先端部17の上面に設けられた接続電極52a、52bの一部に丸形の孔で形成されている。別言すると、基準マーク28の周囲には接続電極52a、52bが形成され、丸形の基準マーク28は水晶片の表面が現れて形成される。   In the fifth tuning-fork type crystal vibrating piece 100E, the reference mark 28 is a round reference mark. The reference mark 28 is formed as a round hole in a part of the connection electrodes 52 a and 52 b provided on the upper surface of the tip 17 of the support arm 15. In other words, the connection electrodes 52a and 52b are formed around the reference mark 28, and the round reference mark 28 is formed with the surface of the crystal piece appearing.

レーザー光源装置LX(図8を参照)の隣には、基準マーク28を撮像する撮像装置(図示しない)が配置されている。撮像装置はCCDカメラとCCDカメラで撮像した撮像画面を処理する画像処理装置とを有している。その画像処理装置の画像処理結果に基づいて、基準マーク28のXY平面の位置を確認することができる。それによって、レーザー光源装置LX又は第5水晶振動子10Eを移動させることによってレーザー光LLが基準マーク28を通過するように調整できる。このため、接合バンプ26aが小さくても正確にレーザー光LLを接合バンプ26aに照射できる。また基準マーク28は水晶片の表面でありレーザー光LLが反射されない。そのため、レーザー光源装置LXでレーザー光LLが照射されるとき、レーザー光LLの大部分のエネルギーが接合バンプ26aに集中される。   Next to the laser light source device LX (see FIG. 8), an imaging device (not shown) that images the reference mark 28 is arranged. The imaging apparatus includes a CCD camera and an image processing apparatus that processes an imaging screen captured by the CCD camera. Based on the image processing result of the image processing apparatus, the position of the reference mark 28 on the XY plane can be confirmed. Thereby, the laser light LL can be adjusted to pass the reference mark 28 by moving the laser light source device LX or the fifth crystal unit 10E. For this reason, even if the joining bump 26a is small, the laser beam LL can be accurately irradiated to the joining bump 26a. The reference mark 28 is the surface of the crystal piece and the laser beam LL is not reflected. Therefore, when the laser beam LL is irradiated by the laser light source device LX, most of the energy of the laser beam LL is concentrated on the bonding bump 26a.

<第5水晶振動子10Eの製造方法>
図10は、第5水晶振動子10Eの製造方法を説明するためのフローチャートである。
ステップS211において、内部面に一対のバンプ支持部25を有するベース部22が用意される。内部面に一対のバンプ支持部25を有するベース部22が用意される。バンプ支持部25上には、導電路27a、27bが形成されている。導電路27a、27bには接合バンプ26a、支持バンプ26bがそれぞれ設けられている。
<Method for Manufacturing Fifth Crystal Resonator 10E>
FIG. 10 is a flowchart for explaining a method of manufacturing the fifth crystal unit 10E.
In step S211, a base portion 22 having a pair of bump support portions 25 on the inner surface is prepared. A base portion 22 having a pair of bump support portions 25 on the inner surface is prepared. Conductive paths 27 a and 27 b are formed on the bump support portion 25. Bonding bumps 26a and support bumps 26b are provided on the conductive paths 27a and 27b, respectively.

ステップS212において、一対の振動腕13と一対の支持腕15とを有する圧電材料からなる第5音叉型水晶振動片100Eが用意される。第1音叉型水晶振動片100Aは、溝部14が形成された一対の振動腕13を有しており、振動腕13の両外側に幅広い先端部17を有する支持腕15をそれぞれ有している。また支持腕15には接続電極52a、52bが形成されている。一対の接続電極52a、52bの先端部17には、丸形の基準マーク28がそれぞれ形成される。   In step S212, a fifth tuning-fork type crystal vibrating piece 100E made of a piezoelectric material having a pair of vibrating arms 13 and a pair of support arms 15 is prepared. The first tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> A has a pair of vibrating arms 13 in which grooves 14 are formed, and has support arms 15 having a wide end portion 17 on both outer sides of the vibrating arms 13. Further, connection electrodes 52 a and 52 b are formed on the support arm 15. Round reference marks 28 are respectively formed at the distal end portions 17 of the pair of connection electrodes 52a and 52b.

ステップS213において、レーザー光源装置LXの隣に配置されたに撮像装置(不図示)が接合バンプ26aを撮像し、その撮像画像に基づいて画像処理装置(不図示)が接合バンプ26aのXY平面の位置を計算する。   In step S213, an image pickup device (not shown) arranged next to the laser light source device LX picks up the bonding bump 26a, and an image processing device (not shown) on the XY plane of the bonding bump 26a based on the picked-up image. Calculate the position.

ステップS214において、接合バンプ26aの位置に基づいて、第5音叉型水晶振動片100Eが接合バンプ26a、支持バンプ26bに載置される。   In step S214, based on the position of the bonding bump 26a, the fifth tuning-fork type crystal vibrating piece 100E is placed on the bonding bump 26a and the support bump 26b.

ステップS215において、撮像装置が支持腕15に設けられた基準マーク28を撮像し、画像処理装置が基準マーク28のXY平面の位置を計算する。   In step S215, the imaging device images the reference mark 28 provided on the support arm 15, and the image processing device calculates the position of the reference mark 28 on the XY plane.

ステップS216において、画像処理装置による基準マーク28の位置に基づいてレーザー光LLの照射位置が確認される。その後、レーザー光源装置LXがレーザー光LLを照射する。レーザー光LLは、支持腕15の先端部17が載置された接合バンプ26aに集光する。楕円鏡EMの第2焦点F2に接合バンプ26aが配置される。そのため、特に接合バンプ26aに熱が集中し接合バンプ26aが溶融する。レーザー光源装置LXがレーザー光LLの照射を停止すると、接合バンプ26aが硬化し、第5音叉型水晶振動片100Eがベース部22の内部面に固定される。   In step S216, the irradiation position of the laser beam LL is confirmed based on the position of the reference mark 28 by the image processing apparatus. Thereafter, the laser light source device LX emits the laser light LL. The laser beam LL is focused on the bonding bump 26a on which the tip 17 of the support arm 15 is placed. The bonding bump 26a is disposed at the second focal point F2 of the elliptical mirror EM. Therefore, heat concentrates particularly on the bonding bump 26a, and the bonding bump 26a melts. When the laser light source device LX stops the irradiation of the laser beam LL, the bonding bump 26a is cured, and the fifth tuning-fork type crystal vibrating piece 100E is fixed to the inner surface of the base portion 22.

ステップS217において、第5音叉型水晶振動片100Eの周波数が調整される。第5音叉型水晶振動片100Eの振動腕13の先端にレーザー光が照射されることで、金属被膜の一部が蒸散・昇華させられ質量が削減することにより振動周波数が調整される。
ステップS218において、蓋体21がベース部22に接合される。
In step S217, the frequency of the fifth tuning-fork type crystal vibrating piece 100E is adjusted. By irradiating the tip of the vibrating arm 13 of the fifth tuning-fork type crystal vibrating piece 100E with a laser beam, the vibration frequency is adjusted by evaporating and sublimating a part of the metal coating to reduce the mass.
In step S <b> 218, the lid body 21 is joined to the base portion 22.

(第6実施形態)
<第6水晶振動子10F>
図11は、第6実施形態の第6水晶振動子10Fの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。第6実施形態の第6水晶振動子10Fにおいて、第5実施形態と同じ構成要件には同じ符号を付けて説明する。
(Sixth embodiment)
<Sixth crystal unit 10F>
FIG. 11 is a plan view of the sixth crystal resonator 10F of the sixth embodiment, and the lid 21 is omitted for ease of explanation. In the sixth crystal resonator 10F of the sixth embodiment, the same constituent elements as those of the fifth embodiment will be described with the same reference numerals.

第5音叉型水晶振動片100Eと比べると、第6音叉型水晶振動片100Fは、支持腕15の先端部17の接続電極が異なっている。詳しく説明すると、円形の基準マーク28に代えて「+」型の基準マーク38が設けられている。
第6音叉型水晶振動片100Fにおいて、この基準マーク38は支持腕15の先端部17の上面に設けられた接続電極52a、52bの一部に「十」の孔で形成されている。別言すると、基準マーク38の周囲には接続電極52a、52bが形成され、「十」型の基準マーク38は水晶片の表面が現れて形成される。
Compared to the fifth tuning-fork type quartz vibrating piece 100E, the sixth tuning-fork type quartz vibrating piece 100F is different in connection electrode of the tip 17 of the support arm 15. More specifically, a “+” type reference mark 38 is provided instead of the circular reference mark 28.
In the sixth tuning-fork type crystal vibrating piece 100 </ b> F, the reference mark 38 is formed with “ten” holes in a part of the connection electrodes 52 a and 52 b provided on the upper surface of the distal end portion 17 of the support arm 15. In other words, the connection electrodes 52 a and 52 b are formed around the reference mark 38, and the “ten” type reference mark 38 is formed by the surface of the crystal piece appearing.

その他の構成及び水晶振動子の製造方法については、第5実施形態と同じであるため、説明を省略する。   Since the other configuration and the method for manufacturing the crystal unit are the same as those in the fifth embodiment, description thereof is omitted.

(第7実施形態)
<第7水晶振動子10G>
図12は、第7実施形態の第7水晶振動子10Gの平面図で、説明し易くするために蓋体21が省略されている。第7実施形態の第7水晶振動子10Gにおいて、第1実施形態と同じ構成要件には同じ符号を付けて説明する。
(Seventh embodiment)
<Seventh crystal unit 10G>
FIG. 12 is a plan view of the seventh crystal unit 10G of the seventh embodiment, and the lid 21 is omitted for ease of explanation. In the seventh crystal resonator 10G of the seventh embodiment, the same constituent elements as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals.

図12に示されたように、第7水晶振動子10Gは第1水晶振動子10Aと比べると、第7音叉型水晶振動片100Gのみが異なっている。このため、その他のパッケージなどについては説明を省略する。   As shown in FIG. 12, the seventh crystal resonator 10G is different from the first crystal resonator 10A only in the seventh tuning-fork type crystal resonator element 100G. For this reason, description of other packages is omitted.

第7実施形態の第7音叉型水晶振動片100Gは、基部18に音叉型の一対の振動腕33を持ち、基部18の長さLKは0.15mm程度で、一対の振動腕33の長さは1.3mm程度の長さである。   The seventh tuning-fork type crystal vibrating piece 100G of the seventh embodiment has a pair of tuning-fork type vibrating arms 33 on the base 18, the length LK of the base 18 is about 0.15 mm, and the length of the pair of vibrating arms 33. Is about 1.3 mm long.

振動腕33は基部18よりほぼ平行にX方向に伸び、振動腕33の表裏両面には溝部34が形成されている。例えば、一本の振動腕33の表面には2つの溝部34a、34bが形成されており、振動腕33の裏面側にも同様に2つの溝部34a、34bが形成されている。また振動腕33の表裏面および側面に励振電極が形成される。つまり、溝部34の断面は、略H型に形成され第7音叉型水晶振動片100GのCI値を低下させる効果がある。   The vibrating arm 33 extends in the X direction substantially parallel to the base portion 18, and grooves 34 are formed on both front and back surfaces of the vibrating arm 33. For example, two grooves 34 a and 34 b are formed on the surface of one vibrating arm 33, and two grooves 34 a and 34 b are similarly formed on the back side of the vibrating arm 33. Excitation electrodes are formed on the front and back surfaces and side surfaces of the vibrating arm 33. That is, the cross section of the groove 34 is formed in a substantially H shape and has an effect of reducing the CI value of the seventh tuning-fork type quartz vibrating piece 100G.

基部18から延びる振動腕33は根元部分から徐々に幅狭になり、第1くびれ部71を形成している(幅W1’が幅W1より大きい)。これは振動腕33の振動が根元部分に集中していた応力を第1くびれ部71の方に移動させ、基部18への振動漏れを減少させることができる。さらに、振動腕33は第1くびれ部71から徐々に幅狭になり振動腕33の先端付近で第2くびれ部72を形成している。振動腕33は第2くびれ部72で急激に幅広になり、振動腕同士が互いに衝突しない幅でハンマー型の形状をしている。   The resonating arm 33 extending from the base portion 18 is gradually narrowed from the base portion to form a first constricted portion 71 (the width W1 'is larger than the width W1). This moves the stress concentrated in the root portion of the vibration arm 33 toward the first constricted portion 71, thereby reducing vibration leakage to the base portion 18. Further, the vibrating arm 33 gradually narrows from the first constricted portion 71 to form a second constricted portion 72 near the tip of the vibrating arm 33. The vibrating arm 33 is suddenly widened at the second constricted portion 72, and has a hammer shape with a width that does not allow the vibrating arms to collide with each other.

振動腕33の幅広な根元部分から第1くびれ部71、又は第2くびれ部72にかけて2段階で狭くなるため、根元部分に集中していた応力が振動腕33の先端方向に移動することで、基部18への振動漏れが減少する。また、ハンマー型の幅であるハンマー幅W5及びハンマー型の長さであるハンマー長HL、及び基部からハンマー型までの長さである基部ハンマー長HSを調整することでCI値の増加を抑制しつつ、2次の高調波における発振の防止をすることができる。   Since it narrows in two steps from the wide root portion of the vibrating arm 33 to the first constricted portion 71 or the second constricted portion 72, the stress concentrated on the root portion moves in the distal direction of the vibrating arm 33, Vibration leakage to the base 18 is reduced. Also, by adjusting the hammer width W5, which is the width of the hammer mold, the hammer length HL, which is the length of the hammer mold, and the base hammer length HS, which is the length from the base to the hammer mold, the increase in the CI value is suppressed. However, oscillation at the second harmonic can be prevented.

第7音叉型水晶振動片100Gの基部18は両端部に支持腕75を備える。支持腕75の根元部分は幅広に形成されている(幅W1’が幅W1より大きい)。支持腕75の振動腕33側の側面は、Y方向側に傾いており、支持腕75の幅(Y方向)は根元部分から幅狭になり第3くびれ部73を形成している。さらに、支持腕75の幅は第3くびれ部73から徐々に幅狭になり、支持腕75の先端付近で第4くびれ部74を形成している。支持腕75は第4くびれ部74で急激に幅広になりハンマー型の形状をしている。この支持腕75は、接続電極72a、72bが形成される。ハンマー型の形状部は振動腕33の方に突起している。なお、支持腕75は第3くびれ部73から徐々に幅狭になることで振動漏れを緩和する機能を有する。   The base 18 of the seventh tuning-fork type crystal vibrating piece 100G includes support arms 75 at both ends. The base portion of the support arm 75 is formed wide (the width W1 'is larger than the width W1). The side surface of the support arm 75 on the vibrating arm 33 side is inclined to the Y direction side, and the width (Y direction) of the support arm 75 is narrowed from the root portion to form the third constricted portion 73. Further, the width of the support arm 75 gradually decreases from the third constricted portion 73, and the fourth constricted portion 74 is formed near the tip of the support arm 75. The support arm 75 is suddenly widened at the fourth constricted portion 74 and has a hammer shape. The support arm 75 is formed with connection electrodes 72a and 72b. The hammer-shaped portion protrudes toward the vibrating arm 33. The support arm 75 has a function of alleviating vibration leakage by gradually becoming narrower than the third constricted portion 73.

第1幅W1と、第2幅W2と、第3幅W3とは第1実施形態で説明された寸法と同一であるため、左右でバランスがとれた第7音叉型水晶振動片100Gを形成することができる。   Since the first width W1, the second width W2, and the third width W3 are the same as those described in the first embodiment, the seventh tuning-fork type crystal vibrating piece 100G that is balanced on the left and right is formed. be able to.

支持腕75の長さは振動腕33の長さより短く形成し、振動腕33の先端には励振電極と同時に金属被膜を形成する。振動腕33の先端の金属被膜は錘の役目をして振動腕を安定して振動しやすくさせる。また、安定して振動することでQ値が向上する。また、振動腕33の先端の金属被膜は圧電デバイスとして搭載した第7音叉型水晶振動片100Gの周波数調整をしやすくするために形成される。   The length of the support arm 75 is shorter than the length of the vibrating arm 33, and a metal film is formed at the tip of the vibrating arm 33 simultaneously with the excitation electrode. The metal film at the tip of the vibrating arm 33 acts as a weight to make the vibrating arm stably vibrate. Moreover, Q value improves by vibrating stably. The metal film at the tip of the vibrating arm 33 is formed to facilitate frequency adjustment of the seventh tuning-fork type quartz vibrating piece 100G mounted as a piezoelectric device.

また、第7実施形態においても−Y側の接合バンプ26aは導電路27aにより、外部電極23a(図1を参照)に接続され、+Y側の接合バンプ26aは導電路27bにより、外部電極23b(図1を参照)に接続されている。   Also in the seventh embodiment, the −Y side bonding bump 26a is connected to the external electrode 23a (see FIG. 1) by the conductive path 27a, and the + Y side bonding bump 26a is connected to the external electrode 23b (by the conductive path 27b). (See FIG. 1).

さらに、第7実施形態では振動腕33の先端にハンマー型が形成されているが、振動腕は第2くびれ部72から振動腕の先端にかけて、振動腕同士が互いに衝突しない幅で徐々に幅広に形成されてもよい。また、第5及び第6実施形態のように、支持腕の先端部に基準マークが形成されてもよい。   Furthermore, in the seventh embodiment, a hammer type is formed at the tip of the vibrating arm 33, but the vibrating arm gradually widens from the second constricted portion 72 to the tip of the vibrating arm so that the vibrating arms do not collide with each other. It may be formed. Further, as in the fifth and sixth embodiments, a reference mark may be formed at the tip of the support arm.

以上、本発明の最適な実施形態について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において実施形態に様々な変更・変形を加えて実施することができる。たとえば、水晶振動子は、水晶以外にニオブ酸リチウム等の様々な圧電単結晶材料を用いることができる。また本発明は、圧電振動子以外にも、発振回路を組み込んだICなどをベース部上に配置させた圧電発振器にも適用できる。   As described above, the optimal embodiment of the present invention has been described in detail. However, as will be apparent to those skilled in the art, the present invention can be implemented with various modifications and variations within the technical scope thereof. For example, the crystal resonator can use various piezoelectric single crystal materials such as lithium niobate in addition to quartz. In addition to the piezoelectric vibrator, the present invention can also be applied to a piezoelectric oscillator in which an IC incorporating an oscillation circuit is arranged on the base portion.

10A〜10G … 第1〜第7水晶振動子
11 … 水晶片
12a、12b、42a、42b、52a、52b、62a、62b、72a、72b … 接続電極
13、33 … 振動腕
14、34a、34b … 溝部
15、75 … 支持腕
17、77 … 先端部
18 … 基部
19 … 基部電極
20 … 励振電極
21 … 蓋体
22 … ベース部
23a、23b … 外部電極
24 … 接合材
25 … バンプ支持部
26a … 接合バンプ
26b、36b、46b、 … 支持バンプ
27a、27b … 導電路
28、38 … 丸形の基準マーク、「十」型の基準マーク
71 … 第1くびれ部、 72 … 第2くびれ部、 73 … 第3くびれ部、 74 … 第4くびれ部
100A〜100G … 第1〜第7音叉型水晶振動片100G
EM … 楕円鏡
F1、F2 … 楕円鏡の焦点
H1 … ベース部の外高、 H2 … ベース部の内高
HL … ハンマー型の長さ、 HS … 基部ハンマー長HS
L1 … ベース部の外長、 L2 … ベース部の外幅
L3 … ベース部の内長、 L4 … ベース部の内幅
LK … 基部の長さ
LL … レーザー光
LM … レーザー光源
LX … レーザー光源装置
W1 … 振動腕の幅、 W2 … 振動腕間の距離、 W3 … 支持腕の先端部の幅、 W4 … 振動腕と支持腕との距離、 W5 … 第7実施形態の振動腕のハンマー型の幅
10A to 10G ... 1st to 7th crystal resonators 11 ... Crystal pieces 12a, 12b, 42a, 42b, 52a, 52b, 62a, 62b, 72a, 72b ... Connection electrodes 13, 33 ... Vibrating arms 14, 34a, 34b ... Grooves 15 and 75 ... support arms 17 and 77 ... tip 18 ... base 19 ... base electrode 20 ... excitation electrode 21 ... lid body 22 ... base parts 23a and 23b ... external electrodes 24 ... bonding material 25 ... bump support part 26a ... bonding Bumps 26b, 36b, 46b, ... Support bumps 27a, 27b ... Conductive paths 28, 38 ... Round reference marks, "ten" -type reference marks 71 ... First constriction part, 72 ... Second constriction part, 73 ... First Three constricted portions 74 74 Fourth constricted portions 100A to 100G First to seventh tuning-fork type crystal vibrating pieces 100G
EM ... Elliptical mirror F1, F2 ... Focal point of H1 ... Outer height of base part, H2 ... Inner height of base part HL ... Length of hammer mold, HS ... Base hammer length HS
L1 ... outer length of the base part, L2 ... outer width of the base part L3 ... inner length of the base part, L4 ... inner width of the base part LK ... length of the base part LL ... laser light LM ... laser light source LX ... laser light source device W1 ... The width of the vibrating arm, W2 ... the distance between the vibrating arms, W3 ... the width of the tip of the supporting arm, W4 ... the distance between the vibrating arm and the supporting arm, W5 ... the hammer-type width of the vibrating arm of the seventh embodiment

Claims (4)

励振電極を有し基部から伸びた一対の振動腕と前記励振電極と導通する接続電極を有し前記振動腕の両外側で前記基部から伸びた一対の支持腕とを有する圧電材料からなる音叉型圧電振動片と、
片面に、前記支持腕の前記基部から離れた先端に対応する一対の接合バンプと前記支持腕の前記基部側に対応する一対の支持バンプを有するベース部と、を備え、
前記一対の支持腕の接続電極が前記一対の接合バンプに載置された状態でレーザーが前記接合バンプを照射されることにより前記接合バンプが溶融し、その後前記接合バンプが硬化することで前記支持腕が前記ベース部に固定され、
前記支持バンプは、前記音叉型圧電振動片を前記片面に平行になるように前記支持腕を支持し、前記支持腕に接合されない圧電デバイス。
A tuning fork type composed of a piezoelectric material having a pair of vibrating arms having excitation electrodes and extending from the base, and a pair of support arms extending from the base on both outer sides of the vibrating arms having connection electrodes electrically connected to the excitation electrodes. A piezoelectric vibrating piece;
On one side, and a base portion having a pair of support bumps corresponding to the base side of the pair of bonding the bumps and the support arm corresponding to the tip end remote from the base portion of the support arm,
When the connection electrodes of the pair of support arms are placed on the pair of bonding bumps, the bonding bumps are melted by irradiating the bonding bumps with a laser, and then the bonding bumps are cured to support the support. The arm is fixed to the base part,
The support bump is a piezoelectric device that supports the support arm so that the tuning-fork type piezoelectric vibrating piece is parallel to the one surface and is not bonded to the support arm .
前記支持腕の接続電極が前記接合バンプと接する反対面には、前記圧電材料の表面が現れて露出領域が形成されている請求項1に記載の圧電デバイス。 The piezoelectric device according to claim 1, wherein a surface of the piezoelectric material appears on an opposite surface where the connection electrode of the support arm is in contact with the bonding bump to form an exposed region. 前記支持腕の接続電極が前記接合バンプと接する反対面には、前記レーザーの照射位置を確認するための基準マークが形成されている請求項2に記載の圧電デバイス。 The piezoelectric device according to claim 2, wherein a reference mark for confirming an irradiation position of the laser is formed on an opposite surface where the connection electrode of the support arm is in contact with the bonding bump. 前記基準マークは、前記露出領域の周囲を金属膜で囲むことで形成される請求項3に記載の圧電デバイス。
The piezoelectric device according to claim 3, wherein the reference mark is formed by surrounding the exposed region with a metal film.
JP2009211638A 2009-09-14 2009-09-14 Piezoelectric device and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP5566647B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009211638A JP5566647B2 (en) 2009-09-14 2009-09-14 Piezoelectric device and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009211638A JP5566647B2 (en) 2009-09-14 2009-09-14 Piezoelectric device and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011061674A JP2011061674A (en) 2011-03-24
JP5566647B2 true JP5566647B2 (en) 2014-08-06

Family

ID=43948761

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009211638A Expired - Fee Related JP5566647B2 (en) 2009-09-14 2009-09-14 Piezoelectric device and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5566647B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012209764A (en) * 2011-03-30 2012-10-25 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd Piezoelectric device
JP2013179503A (en) * 2012-02-29 2013-09-09 Kyocera Crystal Device Corp Piezoelectric device and manufacturing method of the same
JP6123217B2 (en) * 2012-10-12 2017-05-10 株式会社大真空 Piezoelectric vibrating piece
JP5982054B1 (en) * 2015-12-16 2016-08-31 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 Piezoelectric vibrator
JP6330000B2 (en) * 2016-07-29 2018-05-23 エスアイアイ・クリスタルテクノロジー株式会社 Piezoelectric vibrator

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3285294B2 (en) * 1995-08-08 2002-05-27 太陽誘電株式会社 Circuit module manufacturing method
JPH09294043A (en) * 1996-04-26 1997-11-11 Meidensha Corp Surface mount piezoelectric device package and its manufacture
JP3792979B2 (en) * 2000-02-25 2006-07-05 日本電波工業株式会社 Surface mount crystal unit
JP3846152B2 (en) * 2000-04-05 2006-11-15 セイコーエプソン株式会社 Mounting structure and mounting method of piezoelectric vibrating piece
JP2003142978A (en) * 2001-10-31 2003-05-16 Kinseki Ltd Electrode shape of piezoelectric vibrator and manufacturing method for the piezoelectric vibrator
JP3978783B2 (en) * 2003-03-25 2007-09-19 セイコーエプソン株式会社 Piezoelectric device, mobile phone device using piezoelectric device, and electronic equipment using piezoelectric device
JP2006203458A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Seiko Epson Corp Piezoelectric vibration chip and piezoelectric device using the same
JP4569830B2 (en) * 2006-03-08 2010-10-27 エプソントヨコム株式会社 Bonding structure of piezoelectric vibrating piece and piezoelectric device
JP5396795B2 (en) * 2007-10-22 2014-01-22 株式会社大真空 Piezoelectric vibration device
JP2009111124A (en) * 2007-10-30 2009-05-21 Epson Toyocom Corp Electronic device and package for the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011061674A (en) 2011-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5566647B2 (en) Piezoelectric device and manufacturing method thereof
JP6167494B2 (en) Electronic device container manufacturing method, electronic device manufacturing method, electronic device, electronic apparatus, and mobile device
WO2009101921A1 (en) Electronic component, electronic apparatus, and method for producing base member
JP5129284B2 (en) Piezoelectric vibrator and method for manufacturing the piezoelectric vibrator
JP5085682B2 (en) Piezoelectric device
JP6133697B2 (en) Piezoelectric vibrating piece, piezoelectric device, and method of manufacturing piezoelectric device
US20080042523A1 (en) Piezoelectric device and method for manufacturing thereof
KR20120081060A (en) Piezoelectric device
JP2008153485A (en) Manufacturing method of electronic component
JP2006203458A (en) Piezoelectric vibration chip and piezoelectric device using the same
JP2004297198A (en) Piezoelectric vibration chip, piezoelectric device, mobile phone utilizing piezoelectric device, and electronic apparatus utilizing piezoelectric device
JP2010103950A (en) Vibrator and method of manufacturing the same
JP2006229877A (en) Piezoelectric device
JP2011193436A (en) Tuning fork crystal resonator chip, tuning fork crystal resonator, and method of manufacturing the tuning fork crystal resonator chip
JP2013038727A (en) Airtight package and method of manufacturing the same
JPH03120884A (en) Semiconductor laser module
JP2006196932A (en) Tuning fork type piezoelectric device and method of manufacturing same
JP2009130665A (en) Piezoelectric oscillator
JP4274215B2 (en) Piezoelectric device and method for manufacturing piezoelectric device
US9871470B2 (en) Piezoelectric vibrator element, and piezoelectric vibrator
JP2011017580A (en) Physical quantity detection device
JP4893578B2 (en) Electronic component sealing method
JP2015103983A (en) Electronic element, vibration device, oscillator, electronic apparatus, movable body and manufacturing method of vibration device
JP2008048273A (en) Piezoelectric device and method of manufacturing same
JP2017212622A (en) Crystal device and manufacturing method of the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120726

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130725

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130826

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131001

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140106

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140303

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140616

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140618

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5566647

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees