JP5556027B2 - X線射出装置 - Google Patents
X線射出装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5556027B2 JP5556027B2 JP2009050571A JP2009050571A JP5556027B2 JP 5556027 B2 JP5556027 B2 JP 5556027B2 JP 2009050571 A JP2009050571 A JP 2009050571A JP 2009050571 A JP2009050571 A JP 2009050571A JP 5556027 B2 JP5556027 B2 JP 5556027B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- laser light
- laser beam
- laser
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
例えば、このようなX線射出装置としては、制動輻射によって線源から周囲全体に射出されるX線のうち、上記特性方向に射出された成分のみをビームコリメータによって切り出す装置が知られている。
このようなX線射出装置によれば、ビームコリメータを移動させることによって、任意の特定方向に硬X線を射出することが可能となる。
これに対して、電子をレーザ光によって加速させると共に、加速した電子にレーザ光を衝突させて逆コンプトン散乱現象によって硬X線を発生させるX線射出装置が提案されている。
このようなX線射出装置によれば、一方向のみに強い硬X線を射出することが可能となる。
そして、このようなX線射出装置において、硬X線を任意の特定方向に射出するための最も簡単な構成としては、X線射出装置そのものを上記特定方向に応じて移動させることである。
このため、レーザ光を射出するレーザ光源装置が非常に大きな重量物となる。また、極めて小さな集光領域にレーザ光を集光する必要があることから、移動の際の振動によりレーザ光源装置の内部に組み込まれた光学素子に位置ズレ等が生じた場合には、レーザ光の集光が困難となる。
したがって、逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、硬X線の射出方向を変更するために装置そのものを移動させることは容易ではない。
このため、本発明によれば、レーザ光源装置を移動させることなく、導光手段が固定されたステージを移動させるのみで、X線の射出方向を変更することができる。
したがって、本発明によれば、逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、X線の射出方向を容易に変更することが可能となる。
図1は、本実施形態のX線射出装置S1の概略構成を模式的に示すシステム構成図である。
この図に示すように、本実施形態のX線射出装置S1は、レーザ光源装置1と、導光部2(導光手段)と、ステージ3と、ステージ移動装置4(移動手段)と、ターゲット供給装置5と、レーザ光追従装置6(追従手段)と、制御装置7とを備えている。
図2は、導光部2を含む拡大図である。この図に示すように、導光部2は、複数の光学素子から構成されており、当該光学素子として第1反射鏡2aと、第2反射鏡2bと、ビームスプリッタ2cと、第3反射鏡2dと、集光レンズ2eと、放物面鏡2fとを備えている。
そして、本実施形態のX線射出装置S1においては、レーザ光L1、電子加速用レーザ光L2、衝突用レーザ光L3及び後述するX線L4がステージ3の上面3aに沿って導光されるように当該ステージ3の上面3aに導光部2が固定されている。
このレーザ光追従装置6は、図2に示すように、追従用固定鏡6a(第1反射手段)と、追従用移動鏡6b(第2反射手段)と、リニアステージ装置6cとを備えている。
より詳細には、追従用固定鏡6aは、追従用移動鏡6bからの一方向から入射されるレーザ光L1を入射位置に応じて異なる角度で反射することによって、ステージ3へのレーザ光L1の入射方向を変更する。
そして、本実施形態のX線射出装置S1において追従用固定鏡6aは、図3の拡大図に示すように、位置によって取付角度の異なる複数の平面鏡6dが放物線状に配列されることによって構成されている。
そして、本実施形態のX線射出装置S1において追従用移動鏡6bは、入射されるレーザ光L1に対して45°の角度に固定されており、反射したレーザ光L1が追従用固定鏡6aに対して常に同一方向から入射するようにレーザ光L1を反射する。
そして、本実施形態のX線射出装置S1において制御装置7は、例えば不図示の入力装置から入力される指令に基づいてステージ移動装置4にステージ3を移動させると共に、必要に応じてリニアステージ装置6cを駆動する。
なお、制御装置7は、ステージ3が上面3aを含む平面内において回転移動される場合に、ステージ3の上面3aに固定された導光部2に対するレーザ光L1の入射方向が常に一定となるようにリニアステージ装置6cを駆動する。
そして、電子加速用レーザ光L2がターゲット供給装置5から供給されるガスをプラズマ化し電子を発生、加速すると共に、電子加速用レーザ光L2と衝突用レーザ光L3と集光領域Rに集光することによって、加速された電子と衝突用レーザ光L3とを衝突させて硬X線L4を発生させる。
このように発生された硬X線L4は、図1及び図2に示すように、指向性を持って所定の一方向に射出される。
この結果、第1反射鏡2aと集光領域Rとの空間的な位置は変化しないものの、レーザ光L1、電子加速用レーザ光L2及び衝突用レーザ光L3の光軸がステージ3の上面3aの傾斜に伴って傾斜し、硬X線L4の射出方向が上下方向に変更される。
このため、本実施形態のX線射出装置S1によれば、レーザ光源装置1を移動させることなく、導光部2が固定されたステージ3を移動させるのみで、硬X線L4の射出方向を変更することができる。
したがって、本実施形態のX線射出装置S1によれば、逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、X線の射出方向を容易に変更することが可能となる。
このような構成を採用する本実施形態のX線射出装置S1によれば、ステージ3の上面3aを含む平面内において硬X線L4を任意の方向に射出することが可能となる。
このような構成を採用する本実施形態のX線射出装置S1によれば、レーザ光源装置1から射出されたレーザ光L1を平行光のまま導光部2に入射させることが可能となる。したがって、レーザ光源装置1から導光部2までの光路長が変化した場合であっても、当該光路長の変化が硬X線L4に与える影響を排除することが可能となる。
このような構成を採用する本実施形態のX線射出装置S1によれば、硬X線L4を上下方向の任意の方向に射出することが可能となる。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、本第2実施形態の説明において、上記第1実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
上記第1実施形態のX線射出装置S1が単一のレーザ光源装置1から射出されたレーザ光L1を導光部2によって電子加速用レーザ光L2と衝突用レーザ光L3とに分離する構成を採用したのに対し、本実施形態のX線射出装置S2は、電子加速用レーザ光L2を射出するレーザ光源装置1Aと、衝突用レーザ光L3を射出するレーザ光源装置1Bとを備えている。
そして、電子加速用レーザ光L2及び衝突用レーザ光L3の各々に対して、導光部2A,2Bとレーザ光追従装置6A,6Bとが設けられている。
したがって、本実施形態のX線射出装置S2によれば、逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、X線の射出方向を容易に変更することが可能となる。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、ステージ3の形状はX線射出装置の設計条件の下、任意に設定することが可能である。
しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、ターゲット供給装置5を導光部2と共にステージ3上に設置することも可能である。
Claims (2)
- レーザ光によってガスをプラズマ化させて発生及び加速される電子とレーザ光とを集光領域において衝突させることによって指向性を有するX線を発生及び射出するX線射出装置であって、
前記レーザ光を射出するレーザ光源装置と、
該レーザ光源装置から射出された前記レーザ光を前記集光領域に導光する導光手段と、
該導光手段が固定されるステージと、
前記集光領域を固定して前記ステージを移動させる移動手段と、
前記ステージの外部に設置されると共に前記ステージの移動に伴って前記導光手段への前記レーザ光の入射方向を追従させる追従手段と
を備え、
前記追従手段は、
入射位置に応じて前記ステージへの前記レーザ光の入射方向を変更する第1反射手段と、
前記レーザ光の進行方向に移動可能とされると共に前記第1反射手段への前記レーザ光の入射位置を規定する第2反射手段と
を備え、
前記第1反射手段は、取付角度の異なる複数の平面鏡から構成されている
ことを特徴とするX線射出装置。 - レーザ光によってガスをプラズマ化させて発生及び加速される電子とレーザ光とを集光領域において衝突させることによって指向性を有するX線を発生及び射出するX線射出装置であって、
前記レーザ光を射出するレーザ光源装置と、
該レーザ光源装置から射出された前記レーザ光を前記集光領域に導光する導光手段と、
該導光手段が固定されるステージと、
前記集光領域を固定して前記ステージを移動させる移動手段と
を備え、
前記導光手段が複数の光学素子を備え、前記移動手段は、前記光学素子のうち前記レーザ光に対して最も上流側に位置する最上流光学素子及び前記集光領域を通過する軸を中心として前記ステージを回転移動可能としている
ことを特徴とするX線射出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009050571A JP5556027B2 (ja) | 2009-03-04 | 2009-03-04 | X線射出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009050571A JP5556027B2 (ja) | 2009-03-04 | 2009-03-04 | X線射出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010205594A JP2010205594A (ja) | 2010-09-16 |
JP5556027B2 true JP5556027B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=42966882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009050571A Expired - Fee Related JP5556027B2 (ja) | 2009-03-04 | 2009-03-04 | X線射出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5556027B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5990399A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-05-24 | イメ−ジング・サイエンス・アソシエイツ・リミテツド・パ−トナ−シツプ | X線発生方法及びその装置 |
JPH021999A (ja) * | 1988-06-10 | 1990-01-08 | Seiko Epson Corp | X線レーザ発生方法及び装置 |
JPH10260300A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-29 | Agency Of Ind Science & Technol | 光学装置及び光短波長化方法 |
JP2001345503A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Toshiba Corp | レーザ逆コンプトン光生成装置 |
JP2002139758A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-17 | Sony Corp | 光短波長化装置 |
JP2009016119A (ja) * | 2007-07-03 | 2009-01-22 | Ihi Corp | X線発生装置の波長変更装置および方法 |
-
2009
- 2009-03-04 JP JP2009050571A patent/JP5556027B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010205594A (ja) | 2010-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7593510B2 (en) | X-ray imaging with continuously variable zoom and lateral relative displacement of the source | |
US8861684B2 (en) | Forward- and variable-offset hoop for beam scanning | |
WO2010059210A3 (en) | Systems and methods for drive laser beam delivery in an euv light source | |
US20090051997A1 (en) | Laser radar and beam irradiation apparatus therefor | |
JP2017504175A5 (ja) | ||
US20190111623A1 (en) | Irradiation device for an apparatus for additively manufacturing three-dimensional objects | |
JP2015210098A (ja) | レーザレーダ装置 | |
US11835699B2 (en) | Focusing device and EUV radiation generating device having same | |
JP2004198373A (ja) | 高速粒子発生方法及び高速粒子発生装置 | |
JP5556027B2 (ja) | X線射出装置 | |
TWM488644U (zh) | 鐳射鏡轉換光源機構(二) | |
JP2009276315A (ja) | イオンビーム伝送システム及びイオンビーム照射装置 | |
JP5625414B2 (ja) | X線発生方法 | |
US20140112449A1 (en) | System and method for collimating x-rays in an x-ray tube | |
JP2017084620A (ja) | 光源装置 | |
US20080310594A1 (en) | Scanning x-ray radiation | |
JP5737749B2 (ja) | 光子ビーム走査装置及び光子ビーム走査方法 | |
JP5556031B2 (ja) | X線射出装置 | |
JP2009016119A (ja) | X線発生装置の波長変更装置および方法 | |
JP5454837B2 (ja) | 硬x線ビーム走査装置および方法 | |
JP2011000600A (ja) | 集光レンズ及びレーザー加工装置 | |
JP2011047832A (ja) | ビーム照射装置およびレーザレーダ | |
JP4174331B2 (ja) | X線発生装置及び発生方法 | |
JP2020008363A (ja) | 光測距装置 | |
KR101720574B1 (ko) | 레이저 가공 장치 및 그 구동 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130716 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130917 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140520 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5556027 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |