JP5547475B2 - 脈理が減少した低膨張ガラスおよび素子、並びにその製造方法 - Google Patents
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Description
図1に示された装置を参照して、高純度ケイ素含有供給原料または前駆体14および高純度チタン含有供給原料または前駆体26を用いて、チタニア含有シリカガラスブールを製造した。これらの供給原料または前駆体材料は、一般に、チタンまたはケイ素を含有するシロキサン、アルコキシドおよび四塩化物である。ケイ素とチタンのシロキサンおよびアルコキシドが好ましい。特に広く用いられているケイ素含有供給原料の1つは、オクタメチルシクロテトラシロキサンであり、特に広く用いられているチタン含有供給原料の1つはチタンイソプロポキシドであり、その両方をここに用いた。窒素などの不活性バブラーガス20を供給原料14および26に通して泡立てて、供給原料蒸気および搬送ガスを含有する混合物を生成した。窒素などの不活性搬送ガス22を、ケイ素供給原料蒸気とバブラーガスの混合物、およびチタン供給原料蒸気とバブラーガスの混合物と組み合わせて、飽和を防ぎ、供給原料14,26を、分配システム24およびマニホールド28を通して炉16内の転化位置10に供給した。ケイ素供給原料と蒸気およびチタン供給材料と蒸気は、マニホールド28内で混合して、蒸気状のチタン含有シリカガラス前駆体混合物を形成し、これを、導管34に通して、炉16の上部38内に取り付けられたバーナ36に供給した。バーナ36はバーナ火炎37を生成する。転化位置のバーナ火炎37は、水素および/または酸素と混合されたメタンなどの燃料と酸素の混合物により形成され、その混合物は、約1600℃より高い温度で供給原料を燃焼し、酸化させ、スート11に転化する。バーナ火炎37は、スート11をガラスに固結するための熱も提供する。導管の温度および導管内に収容されている供給原料は、火炎37の前に反応の可能性を最小にするために、一般に、制御され、モニタされる。
ブールの調製中に、シリカ−チタニアブールの製造に用いたω1、ω2およびω3の値が、米国特許出願公開第2004/0027555号明細書により教示されたように各々5rpmより大きく、熱処理中のω1、ω2およびω3の値が、それぞれ、1.71018rpm、3.63418rpmおよび4.162rpmであったことを除いて、ガラスブールを実施例1にしたがって調製した。得られたブールを1600℃より高い温度で、選択された時間に亘り熱処理して、ブール内の脈理を減少させた。このブールを1600〜1700℃の範囲の温度で72〜96時間の範囲の期間に亘り加熱することが好ましい。この方法の追加の実施の形態において、シリカ−チタニアブールの製造に用いたω1、ω2およびω3の値は、脈理を減少させるために本発明によるブールの熱処理中に、各々5rpmより大きかった。
別の態様において、本発明は、脈理が著しく減少した低膨張ガラス製品およびその製品を製造する方法に関する。特に、本発明によって、極めて低レベルの中間空間周波数表面粗さを有する光学素子に製造できる、脈理が著しく減少した低膨張ガラス製品が得られる。このことは、低膨張ガラスを生成するように炉内で特定の態様のブールの動きを制御することによって行われる。以下の議論において、Corning ULE(登録商標)低膨張ガラスを例示のガラスとして使用する。しかしながら、記載された方法は、どのような低膨張ガラスを製造するためにも使用することができる。
11 スート
12 カップ
14 高純度ケイ素含有供給原料または前駆体
16 炉
18 チタニア−シリカガラス体
20 不活性バブラーガラス
24 分配システム
26 高純度チタン含有供給原料または前駆体
28 マニホールド
34 導管
36 バーナ
Claims (10)
- 脈理の減少したシリカ−チタニアガラスの光学ブランクおよび/または素子を製造する方法において、
調製中に振動パターンおよび回転パターンの両方を利用する方法により、5〜10質量%の範囲のチタニア含有量を有する固結されたシリカ−チタニアガラスのブールを調製し、
固結後に、前記ガラスを炉内で1600℃より高い温度で48〜288時間の範囲の期間に亘り熱処理し、
前記ガラスを周囲温度まで冷却して、脈理が減少したシリカ−チタニアガラスを生成し、
前記ガラスを、極紫外線リソグラフィーに適した、脈理の減少したシリカ−チタニアガラスの光学ブランクおよび/または素子に加工する工程、
を有してなり、
前記ブールの前記振動パターン及び前記回転パターンが、等式:
- 前記熱処理が、1600〜1700℃の温度範囲で前記期間に亘り行われることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記期間が48〜160時間の範囲にあることを特徴とする請求項1または2記載の方法。
- 前記期間が72〜288時間の範囲にあることを特徴とする請求項1または2記載の方法。
- 前記冷却が、毎時約50℃の速度で1000℃の温度まで冷却し、次いで、前記炉の自然な冷却速度で周囲温度まで冷却する工程を含むことを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の方法。
- 前記冷却が、前記ガラスを毎時20〜75℃の範囲の速度で1000℃の温度に冷却し、次いで、前記炉の自然の冷却速度で周囲温度まで冷却する工程を含むことを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の方法。
- 前記使用されるω1、ω2およびω3の値が、前記振動パターンが5分以下で繰り返され、前記回転パターンが5分以内で繰り返されるようなものであることを特徴とする請求項1から6いずれか1項記載の方法。
- 前記振動パターンが2.5分以内で繰り返されることを特徴とする請求項7記載の方法。
- 前記回転パターンが2.5〜5分の範囲の期間で繰り返されることを特徴とする請求項7記載の方法。
- 前記シリカ−チタニアガラスのブールが、ケイ素とチタンのシロキサン、アルコキシドおよび四塩化物からなる群より選択されるシリカとチタニアの前駆体を用いて火炎加水分解により調製されることを特徴とする請求項1から9いずれか1項記載の方法。
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