JP5545561B2 - ストリング選択ゲートを有するメモリセルのストリングを組み込むメモリデバイス、ならびにその作動および形成方法 - Google Patents
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Description
メモリデバイスは、直列接続された不揮発性メモリセルのNANDストリングを利用して説明され、1つまたは複数のストリングのそれぞれは、関連したストリング選択ゲートを有する。ストリングは、2つ以上の直列接続されたメモリセルを含み、各ストリングの第1の部分は第1の列に沿って形成され、第2の部分は第2の列に沿って形成される。各ストリングに関連したストリング選択ゲートは、関連したストリングの第1の端部をビット線に、関連したストリングの第2の端部をソース線に、同時に選択的に結合するように構成される。1つまたは複数の実施形態によれば、1つまたは複数のストリングは、U字形配置内に形成され、各ストリングは、U字形ストリングの各端部の間に形成されたストリング選択ゲートを備える。
Claims (15)
- 1つまたは複数の第1のメモリセルと、
1つまたは複数の第2のメモリセルと、
ストリング選択ゲートと、を備え、
前記1つまたは複数の第1のメモリセルおよび前記1つまたは複数の第2のメモリセルは、メモリセルのストリングを選択的に画定するために直列接続され、
前記ストリング選択ゲートは、メモリセルの前記ストリングの第1の端部をデータ線に、メモリセルの前記ストリングの第2の端部をソース線に同時に選択的に結合するように構成される、メモリデバイス。 - メモリセルの前記ストリングは、メモリセルのNANDストリングを備える、請求項1に記載のメモリデバイス。
- メモリセルの前記ストリングは、垂直形成されたメモリセルの第1のスタック、および垂直形成されたメモリセルの第2のスタックを備える、請求項1に記載のメモリデバイス。
- メモリセルの前記第1のスタックおよび前記第2のスタックは、同数のメモリセルを備える、請求項3に記載のメモリデバイス。
- 前記ストリング選択ゲートは、メモリセルの前記ストリングの前記第1の端部と前記第2の端部との間に形成される、請求項3に記載のメモリデバイス。
- 前記第1のスタックおよび前記第2のスタックは、半導体基板上に形成され、さらに互いに隣接して形成される、請求項3に記載のメモリデバイス。
- 前記第1のスタックの底部および前記第2のスタックの底部に形成された制御ゲートであって、前記制御ゲートは、各スタックの前記底部と一緒に選択的に結合するように構成される、制御ゲートをさらに備える、請求項3に記載のメモリデバイス。
- 前記ストリング選択ゲートは、2個のチャネル領域を備える単一ゲートを備える、請求項1に記載のメモリデバイス。
- メモリセルの前記ストリングは、U字形配置内に構成される、請求項1に記載のメモリデバイス。
- メモリセルの前記ストリングの前記第1の端部に形成されたドレイン選択ゲートと、
メモリセルの前記ストリングの前記第2の端部に形成されたソース選択ゲートと、をさらに備え、
前記ストリング選択ゲートは、前記ドレイン選択ゲートを前記データ線に、前記ソース選択ゲートを前記ソース線に、両方を同時に選択的に結合するようにさらに構成される、請求項1に記載のメモリデバイス。 - 1つまたは複数の第3のメモリセルと、
1つまたは複数の第4のメモリセルと、
第2のストリング選択ゲートと、をさらに備え、
前記1つまたは複数の第3のメモリセルおよび前記1つまたは複数の第4のメモリセルは、メモリセルの第2のストリングを選択的に画定するために直列接続され、
前記第2のストリング選択ゲートは、メモリセルの前記第2のストリングの第1の端部を前記データ線に、メモリセルの前記第2のストリングの第2の端部を前記ソース線に、同時に選択的に結合するように構成される、請求項1に記載のメモリデバイス。 - 制御回路であって、前記制御回路は、前記第1および前記第2のストリング選択ゲートを独立して活性化および不活性化するように構成される、制御回路をさらに備える、請求項11に記載のメモリデバイス。
- 前記制御回路は、前記第2のストリング選択ゲートが活性化される際に、前記ストリング選択ゲートを不活性化するように、また前記ストリング選択ゲートが活性化される際に、前記第2のストリング選択ゲートを不活性化するように、さらに構成される、請求項12に記載のメモリデバイス。
- メモリデバイスを作動する方法であって、
ストリングの1つまたは複数のメモリセルが、メモリデバイス作動のために選択される際に、直列接続されたメモリセルの前記ストリングの第1の端部をデータ線に結合するため、また直列接続されたメモリセルの前記ストリングの第2の端部をソース線に結合するために、ストリング選択ゲートを活性化することと、
直列接続されたメモリセルの前記ストリングのメモリセルがメモリデバイス作動のために選択されない場合に、直列接続されたメモリセルの前記ストリングの前記第1の端部を前記データ線から分離するため、また直列接続されたメモリセルの前記ストリングの前記第2の端部を前記ソース線から分離するために、前記ストリング選択ゲートを不活性化することと、を含む方法。 - 直列接続されたメモリセルのストリングを形成する方法であって、
第1の列および第2の列を半導体基板を跨いで形成することであって、前記第1および前記第2の列のそれぞれは、誘電体および導体材料の交互構造を備え、前記第1および前記第2の列は、特定の距離によって分離される、形成することと、
前記第1および第2の列を跨ぐ連続する電荷蓄積構造、および前記第1の列と前記第2の列との間に前記半導体基板の領域を形成することと、
前記連続する電荷蓄積構造を跨ぐ連続するチャネル構造を形成することと、
前記第1の列の前記交互構造の頂部構造と前記第2の列の前記交互構造の頂部構造との間にストリング選択ゲート構造を形成することと、を含む方法。
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