JP5543441B2 - 有機発光素子とその製造方法、有機表示パネル、有機表示装置 - Google Patents
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Description
なお、上記構成において、陽極905および補助電極906の構成材料として、従来用いられてきた銀(Ag)を含む合金材料に代え、より安価なアルミニウム(Al)を含む合金材料を用いる研究・開発もなされている。
本発明の一態様に係る有機発光素子は、酸化されることによりキャリア注入性を有する第1の金属材料を含み、光反射性および導電性を有する第2の金属材料を成分とする合金から構成され、その表面の少なくとも一部に、第1の金属材料を析出させた状態で当該第1の金属材料の金属酸化物層が形成されている第1電極と、第1電極の表面に接続して設けられ、第1電極から注入されたキャリアを受け取る発光層を少なくとも含む機能層と、機能層を挟んで第1電極と異なる側に設けられ、第1電極と異なる極性を有する第2電極と、を備える。
なお、「析出」とは、元の結晶構造の固溶体(母材)の中に、これと異なる結晶構造を有する相(析出物)が現れる現象をいい、上記においては、合金の表面の少なくとも一部に、上記金属材料の相が現れる現象を示す。
本発明の一態様に係る有機発光素子の製造方法では、上記構成において、第2工程が、その前の第1工程で形成された第1電極層を加熱して酸化処理することにより、析出した上記第1の金属材料の金属酸化物層と共に、上記第2の金属材料の金属酸化物層とを形成する工程である。このように加熱して酸化処理を行うことにより、煩雑な工程を実行しなくても、第1の金属材料の析出およびその酸化がなされる。
なお、以下の説明で用いる実施の形態は、本発明の構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例示であって、本発明は、その本質的部分以外に何ら以下の形態に限定を受けるものではない。
1.表示装置1の全体構成
以下では、実施の形態に係る有機表示装置1について、図1を用い説明する。
なお、実際の表示装置1では、表示パネル10に対する駆動制御部20の配置や接続関係については、これに限られない。
有機表示パネル10の構成について、図2および図3を用い説明する。図2は、有機表示パネル10におけるバンク107と陽極105および補助電極106の配置関係を示す模式平面図であり、図3は、有機表示パネル10の一部構成を示す模式断面端面図であり、図2のA−A‘断面を示す。
有機表示パネル10における各構成材料の一例を次に示す。
a)基板100
基板100は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料をベースとして形成されている。
平坦化膜103は、例えば、アクリル、ポリイミド、ゾルゲルなどの有機絶縁材料や、SiNやSiOXなどの無機絶縁材料などから形成されている。
陽極105および補助電極106は、ニッケル(Ni)を含み、アルミニウムを成分とする合金材料を用い形成されている。ここで、ニッケルは、周期表第10族に属する遷移金属材料であり、酸化により半導体性を有することにより、ホール注入性を有する。また、アルミニウムは、光反射性を有する導電性金属材料である。
バンク107は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。バンク107の形成に用いる有機材料の例としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等があげられる。バンク107は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。さらに、バンク107はエッチング処理、ベーク処理など施されることがあるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、撥水性をもたせるために、表面をフッ素処理することもできる。
インターレイヤ108は、親水基を備えない高分子化合物を用い形成されている。例えば、ポリフルオレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体などの高分子化合物であって、親水基を備えないものなどを用いることができる。
有機発光層109は、ホールと電子とが注入され再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。有機発光層109の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。
電子輸送層110は、陰極111から注入された電子を有機発光層109へ輸送する機能を有し、例えば、次に示すような材料を用い形成することができる。
陰極111は、例えば、ITO、IZO(酸化インジウム亜鉛)などで形成される。トップエミッション型の有機表示パネル10では、上記にあげるような光透過性の材料を用い形成することが好ましい。光透過性については、透過率が80[%]以上とすることが好ましい。
封止層112は、有機発光層109などが水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)などの材料を用い形成される。トップエミッション型の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
陽極105の構成について、図4を用い説明する。図4は、図3に示す有機表示パネル10の陽極105およびその周辺部分を抜き出して描いている。
ここで、図4では、図示していないが、陽極105のZ軸方向上側の表面における酸化ニッケル層1053の分布形態は、酸化アルミニウム層1052中に、島状または不連続状である。
なお、合金がニッケルとアルミニウムの2成分系の構造、または、合金がニッケル・アルミニウム以外の他の成分を含む3成分系であって、他の成分が微少である構造、または、合金が不純物を含む構造であって、不純物の含有量が無視できる程度である構造においては、ニッケルの含有量が3.0[at%]以上5.0[at%]以下であることに加え、アルミニウムの含有量が94[at%]以上96[at%]以下であることが好ましい。
図3および図4に示すように、本実施の形態に係る有機表示パネル10では、画素部10aにおいて、陽極105の表面の少なくとも一部に、ニッケルを析出させ(析出ニッケル1051)、析出ニッケル1051の上側表面に酸化ニッケル層1053が形成されている。
(参考文献)「Enhanced hole injections in organic light−emitting devices by depositing nickel oxide on indium tin oxide anode」、I−Min Chan,Tsung−Yi Hsu,and Franklin C.Hong、“2002 American Institute of Physics、Applied Physics Letters、volume 81,number 10”
よって、本実施の形態に係る有機表示パネル10およびこれを備える有機表示装置1では、陽極105が有機発光層109に対するキャリア注入性を有し、陽極105上に別途のホール注入層を形成しなくてもよい。これより、陽極105上のホール注入層を省略できる分だけ、有機表示パネル10全体としての構成層の数を低減することができ、コスト面での効果を得ることができる。
また、図3の矢印Bで指し示す部分に示すように、有機表示パネル10の非画素部10bにおいては、補助電極106と陰極111との間には、インターレイヤ110が介在するものの、図9に示す従来技術に係る有機表示パネルに対して、ホール注入層が介在していない点で相違する。このため、本実施の形態に係る有機表示パネル10では、非画素部10bにおいて、補助電極106と陰極111との間にホール注入層が介在しない分だけ、コンタクト抵抗の低減が図られている。
有機表示パネル10の製造方法について、図5から図7を用い説明する。
図5(a)に示すように、基板100のZ軸方向上側の主面に、ドレイン電極1012およびソース電極1013と、これらを覆うチャネル層1014、ゲート絶縁膜1015と、ゲート電極1011を順に形成することで、TFT層101を形成する。その後、パッシベーション膜102を被覆形成した後、無機材料(例えば、SiN、SiOXなど)あるいは有機材料(例えば、アクリル、ポリイミド、ゾルゲルなど)を用いて平坦化膜103を形成する。
以上のような製造方法を採用する本実施の形態では、図9に示す従来の有機表示パネルを製造する場合に比べて、ホール注入層を別途設ける必要がないので、その分だけ製造工程の簡略化が可能であり、製造コストの低減を図ることができる。
[変形例]
変形例に係る有機表示パネルの構成について、図8を用い説明する。
本変形例に係る有機表示パネルのバンク207は、X軸方向に延伸する部分207aとY軸方向に延伸する部分207bとが一体に形成された、所謂、ピクセルバンクとなっている。本変形例に係る有機表示パネルでは、X軸方向に隣接するサブピクセル同士の間が部分207bで区画され、Y軸方向に隣接するサブピクセル同士の間が部分207aで区画される。そして、バンク207に開けられた窓部からは、各サブピクセルに対応する陽極105およびピクセル単位で設けられた補助電極106が露出する。
上記実施の形態および上記変形例に係る有機表示パネル10,・・では、平坦化膜103上に陽極105を設ける構成を採用したが、逆に平坦化膜103上に陰極を設ける構成を採用することもできる。この場合には、陰極に対して、図4のような構成を適用することで上記同様の効果を得ることができる。
10.有機表示パネル
10a.画素部
10b.非画素部
20.駆動制御部
21〜24.駆動回路
25.制御回路
100.基板
101.TFT層
102.パッシベーション膜
103.平坦化膜
104.コンタクトホール
105.陽極
106.補助電極
107,207.バンク
108.インターレイヤ
109.有機発光層
110.電子輸送層
111.陰極
112.封止層
113.画素規制層
205,2050.合金膜
1011.ゲート電極
1012.ドレイン電極
1013.ソース電極
1014.チャネル層
1015.ゲート絶縁膜
1050,2051.アルミニウム層
1051,2052.析出ニッケル
1052,2053.酸化アルミニウム層
1053,2054.酸化ニッケル層
Claims (17)
- 酸化されることによりキャリア注入性を有する第1の金属材料を含み、光反射性および導電性を有する第2の金属材料を成分とする合金から構成され、その表面の少なくとも一部に、前記第1の金属材料を析出させた状態で前記第1の金属材料の金属酸化物層が形成されている第1電極と、
前記第1電極の前記表面に接続して設けられ、前記第1電極から注入されたキャリアを受け取る発光層を少なくとも含む機能層と、
前記機能層を挟んで前記第1電極と異なる側に設けられ、前記第1電極と異なる極性を有する第2電極と、
を備える
有機発光素子。 - 前記第1電極の前記表面には、前記析出した前記第1の金属材料の金属酸化物層と、前記第2の金属材料の金属酸化物層とが形成されている
請求項1に記載の有機発光素子。 - 前記析出した前記第1の金属材料の金属酸化物層は、前記第2の金属材料の金属酸化物層中に、島状または不連続状に形成されている
請求項2に記載の有機発光素子。 - 前記第1の金属材料は、周期表第4族から第11族の何れかの遷移金属材料、あるいは、周期表第12族の典型金属材料である
請求項1から請求項3の何れか1項に記載の有機発光素子。 - 前記第1電極は陽極を構成し、
前記第2電極は陰極を構成し、
前記析出した前記第1の金属材料の金属酸化物層は、キャリアとしてのホールを注入するホール注入性を備える
請求項1から請求項4の何れか1項に記載の有機発光素子。 - 前記機能層は、前記発光層にホールを輸送するホール輸送層を含み、前記ホール輸送層が前記第1電極に接続されている
請求項5に記載の有機発光素子。 - 前記有機発光素子は、画素部と非画素部とを有し、
前記画素部では、前記第1電極と前記発光層と前記第2電極とを含み、
前記非画素部では、
酸化されることによりキャリア注入性を有する第1の金属材料を含み、光反射性および導電性を有する第2の金属材料を成分とする合金から構成され、その表面の少なくとも一部に、前記第1の金属材料を析出させた状態で前記第1の金属材料の金属酸化物層が形成されている補助電極と、
前記第2電極と、を含み、
前記発光層を含まず、
前記第2電極は、前記画素部および前記非画素部にわたって接続されている
請求項1から請求項6の何れか1項に記載の有機発光素子。 - 前記第1の金属材料は、ニッケルであり、
前記第2の金属材料は、アルミニウムである
請求項1から請求項7の何れか1項に記載の有機発光素子。 - 前記合金における前記第1の金属材料の含有量は、3.0at%(原子濃度)以上5.0at%(原子濃度)以下である
請求項1から請求項8の何れか1項に記載の有機発光素子。 - 請求項1から請求項9の何れか1項に記載された有機発光素子を備えた
有機表示パネル。 - 請求項10に記載された有機表示パネルを備えた
有機表示装置。 - 酸化されることによりキャリア注入性を有する第1の金属材料を含み、光反射性および導電性を有する第2の金属材料を成分とする合金から構成される第1電極層を形成する第1工程と、
前記形成された第1電極層を加熱して酸化処理することにより、前記第1の金属材料を析出させ、前記第1の金属材料の金属酸化物層を前記第1電極層の表面の少なくとも一部に形成する第2工程と、
前記第1電極層の上方に、前記第1電極層の前記表面に接続して設けられ、前記第1電極層から注入されたキャリアを受け取る発光層を含む機能層を形成する第3工程と、
前記機能層の上方に、前記第1電極層とは極性の異なる第2電極を形成する第4工程と、
を有することを特徴とする
有機発光素子の製造方法。 - 前記第2工程は、前記第1工程で形成された第1電極層を加熱して酸化処理することにより、前記析出した前記第1の金属材料の金属酸化物層と共に、前記第2の金属材料の金属酸化物層とを形成する工程である
請求項12に記載の有機発光素子の製造方法。 - 前記第2工程は、前記第1工程で形成された第1電極層を加熱して酸化処理することにより、前記析出した前記第1の金属材料の金属酸化物層を、前記第2の金属材料の金属酸化物層中に、島状または不連続状に形成する工程である
請求項12に記載の有機発光素子の製造方法。 - 前記第2工程は、焼成温度が230℃以上であり、かつ、焼成時間が30分以上で行う工程である
請求項12に記載の有機発光素子の製造方法。 - 前記第2工程と前記第3工程との間には、
前記第2工程により、前記金属酸化物層が形成された第1電極層をパターニング処理する工程と、
前記第1電極層における前記パターニング処理された部位同士の間を区画する隔壁を形成する工程と、
を有する
請求項12に記載の有機発光素子の製造方法。 - 前記機能層は、前記発光層にホールを輸送するホール輸送層を含み、
前記第1工程は、前記導電性金属材料として陽極を構成する材料を用いると共に、前記第1の金属材料としてホールを注入するホール注入性を備える材料を用いることにより第1電極層を形成する工程であり、
前記第4工程は、前記第2電極として陰極を構成する材料を用いて前記第2電極を形成する工程である
請求項12に記載の有機発光素子の製造方法。
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