JP5540690B2 - 有機銅錯体及び当該有機銅錯体を用いる銅含有薄膜の製造法 - Google Patents
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又、銅微粒子を溶剤中に均一分散させた分散液を基板上へ塗布し、加熱、還元等により銅微粒子を焼結させて銅薄膜を形成する方法が行われている(例えば、特許文献2及び3参照)。
で示されるヒドロキシアルキルメチル基を有するβ-ジケトナトを配位子とすることを特徴とする有機銅錯体によって解決される。
で示される。
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのフラスコに、7−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−3,5−オクタンジオン8.0g(0.029mol)、水酸化ナトリウム1.14g(0.029mol)、水20ml及びテトラヒドロフラン15mlを加えて室温で攪拌させた(2−ヒドロキシ−7−メチル−3,5−オクタンジオナトのナトリウム塩が生成)。次いで、当該反応液に酢酸銅一水和物3.0g(0.015mol)を加えた後、ジエチルエーテル50mlを加えて有機層を分液した。得られた有機層を、水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濾過後、濾液を濃縮し、灰色固体として2−ヒドロキシ−7−メチル−3,5−オクタンジオナト銅2.95gを得た(単離収率;51%)。
なお、2−ヒドロキシ−7−メチル−3,5−オクタンジオナト銅(II)は、以下の物性値で示される新規な化合物であった。
MS(m/e);405、360、315、127、43
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのフラスコに、6−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−3,5−ヘプタンジオン23.0g(0.1mol)、水酸化ナトリウム4.0g(0.1mol)及び水10mlを加えて室温で攪拌させた(2−ヒドロキシ−6−メチル−3,5−ヘプタンジオナトのナトリウム塩が生成)。次いで、当該反応液を、別途調製した酢酸銅一水和物10.1g(0.05mol)及び水50mlの混合液に加えた後、ジエチルエーテル50mlを加えて有機層を分液した。得られた有機層を、水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。濾過後、濾液を濃縮し、灰色固体として2−ヒドロキシ−6−メチル−3,5−ヘプタンジオナト銅9.34gを得た(単離収率;49%)。
なお、2−ヒドロキシ−6−メチル−3,5−ヘプタンジオナト銅(II)は、以下の物性値で示される新規な化合物であった。
MS(m/e);377、334、287、113、43
実施例1で得られた有機銅錯体(2)1.0gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、0.5mol/Lの有機銅錯体のテトラヒドロフラン溶液を調製した。当該溶液をシリコン基板(SiO2/Si)上に滴下した。次いで、得られた基板をホットプレート上にて、40℃で5分間加熱して溶媒を除去した(濃青色膜が形成された)。
得られた基板を、水素雰囲気にて、300℃で10分間還元し、シリコン基板上に金属光沢を有する青銅色の銅含有薄膜が得た。なお、当該銅含有薄膜の膜圧は1μmであり、抵抗値は4.5μΩであった。
実施例1で得られた有機銅錯体(2)2.0gをテトラヒドロフラン5mlに溶解し、1.0mol/Lの有機銅錯体のテトラヒドロフラン溶液を調製した。当該溶液をシリコン基板(SiO2/Si)上にスピンコートした(1000rpm、5秒)。次いで、得られた基板をホットプレート上にて、40℃で5分間加熱して溶媒を除去した(濃青色膜が形成された)。
得られた基板を、水素雰囲気にて、300℃で10分間還元し、シリコン基板上に金属光沢を有する青銅色の銅含有薄膜が得た。なお、当該銅含有薄膜の抵抗値は0.3Ωであった。
Claims (5)
- 請求項1に記載の有機銅錯体又は有機銅錯体の溶媒溶液を銅供給源として用いた銅含有薄膜の製造法。
- 有機銅錯体又は有機銅錯体の溶媒溶液を成膜対象物に塗布することを含む方法で行う請求項2記載の銅含有薄膜の製造法。
- 有機銅錯体又は有機銅錯体の溶媒溶液を成膜対象物に塗布した後、更に塗布された成膜対象物上の有機銅錯体を還元させる請求項2乃至3のいずれかに記載の銅含有薄膜の製造法。
- 使用する溶媒が、エーテル類、アルコール類、ケトン類及びアミド類からなる群より選ばれる少なくとも1種の溶媒である請求項2乃至4のいずれかに記載の銅含有薄膜の製造法。
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JP4187373B2 (ja) * | 1999-12-27 | 2008-11-26 | 株式会社Adeka | 化学気相成長用銅原料及びこれを用いた薄膜の製造方法 |
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