JP5537119B2 - Lid, lid manufacturing method and electronic device manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品を収容する凹部を有する絶縁基体に蓋体がはんだを介して接合される電子部品収納用パッケージ、およびその電子部品収納用パッケージに電子部品が気密封止されてなる電子装置に関するものである。   The present invention relates to an electronic component storage package in which a lid is bonded to an insulating substrate having a recess for storing an electronic component via solder, and an electronic device in which the electronic component is hermetically sealed in the electronic component storage package It is about.

半導体素子や圧電素子,センサ素子等の電子部品は、一般に、上面に凹部を有する直方体状等の絶縁基体と、凹部を塞ぐようにして下面の外周部が絶縁基体の上面に接合される電子部品収納用パッケージの凹部内に気密封止されて使用される。電子部品収納用パッケージに電子部品が気密封止されてなる電子装置は、例えば、コンピュータや携帯電話,デジタルカメラ,センサ装置等の電子機器を構成する回路基板に形成された外部電気回路に電気的に接続される。なお、電子部品と外部電気回路との電気的な接続は、例えば絶縁基体の凹部内から下面等の外表面にかけて形成された配線導体を介して行なわれる。すなわち、配線導体のうち凹部内に位置する部位に電子部品の電極をボンディングワイヤ等を介して電気的に接続し、配線導体のうち絶縁基体の外表面に位置する部位を外部電気回路にはんだ等の導電性接合材を介して接合すれば、配線導体を介して電子部品と外部電気回路とが電気的に接続される。   Electronic parts such as semiconductor elements, piezoelectric elements, sensor elements, etc. are generally electronic parts having a rectangular parallelepiped-like insulating base having a concave portion on the upper surface and an outer peripheral portion of the lower surface joined to the upper surface of the insulating base so as to close the concave portion. Used in a hermetically sealed recess in the storage package. An electronic device in which an electronic component is hermetically sealed in an electronic component storage package is electrically connected to an external electric circuit formed on a circuit board constituting an electronic device such as a computer, a mobile phone, a digital camera, or a sensor device. Connected to. Note that the electrical connection between the electronic component and the external electric circuit is performed, for example, via a wiring conductor formed from the inside of the recess of the insulating base to the outer surface such as the lower surface. That is, the electrode of the electronic component is electrically connected to the portion of the wiring conductor located in the recess through a bonding wire, and the portion of the wiring conductor located on the outer surface of the insulating base is soldered to an external electric circuit. If it joins via this conductive joining material, an electronic component and an external electric circuit will be electrically connected via a wiring conductor.

このような電子部品収納用パッケージおよび電子装置において、蓋体と絶縁基体との接合には、一般に、はんだが用いられている。この場合、蓋体と絶縁基体との接合に用いるはんだ(封止用はんだ)は、その融点が、電子装置と外部電気回路との接続に用いるはんだ(実装用はんだ)の融点よりも高いものである必要がある。封止用はんだの融点が実装用はんだの融点以下であると、電子装置を外部電気回路に接続する際の加熱によって封止用はんだが溶融して、気密封止の信頼性が低下する可能性がある。   In such an electronic component storage package and electronic device, solder is generally used for joining the lid and the insulating base. In this case, the solder (sealing solder) used for joining the lid and the insulating substrate has a melting point higher than that of the solder (mounting solder) used for connection between the electronic device and the external electric circuit. There must be. If the melting point of the sealing solder is lower than the melting point of the mounting solder, the sealing solder may be melted by heating when the electronic device is connected to the external electric circuit, and the reliability of the hermetic sealing may be reduced. There is.

なお、封止用はんだとしては、従来、鉛−錫系等の、融点が約270〜300℃程度のいわゆる高温はんだが用いられ、実装用はんだとしては、融点が約184℃の錫−鉛はんだ(いわゆる共晶はんだ)が用いられていた。   Conventionally, as a solder for sealing, a so-called high-temperature solder having a melting point of about 270 to 300 ° C., such as lead-tin, is used. As a mounting solder, a tin-lead solder having a melting point of about 184 ° C. (So-called eutectic solder) was used.

特開2001−353590号公報JP 2001-353590 A 特開2005−072173号公報JP 2005-072173 A

しかしながら、近年、欧州における特定有害物質の規制(RoHS:Restriction on Hazardous Substances)指令等、環境に対する悪影響を防ぐために、はんだの材料として鉛を使用しないようにすること(いわゆる鉛フリー化)が求められるようになってきている。そのため、従来の鉛系の高温はんだに代わるはんだを用いた電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供する必要が生じている。   However, in recent years, in order to prevent adverse effects on the environment, such as the Restriction on Hazardous Substances (RoHS) Directive in Europe, it has been required not to use lead as a solder material (so-called lead-free). It has become like this. Therefore, there is a need to provide an electronic component storage package and an electronic device using solder instead of the conventional lead-based high-temperature solder.

この場合、電子装置を外部電気回路に接続するためのはんだについても鉛フリー化が必要であり、従来の錫−鉛はんだに代わって、錫−銀系はんだや錫−銀−銅系はんだ等の、いわゆる鉛フリーはんだが実装用はんだとして多用されるようになってきている。このような鉛フリーはんだは、従来の錫−鉛はんだに比べて、融点が約220℃以上と比較的高い。そのため、封止用はんだについても、従来よりも融点の高いものが必要になってきている。   In this case, lead-free soldering is also required for the solder for connecting the electronic device to the external electric circuit. Instead of the conventional tin-lead solder, tin-silver solder, tin-silver-copper solder, etc. In other words, so-called lead-free solder is frequently used as mounting solder. Such lead-free solder has a relatively high melting point of about 220 ° C. or higher compared to conventional tin-lead solder. For this reason, a solder having a melting point higher than that of the conventional solder is required.

本発明はこのような従来の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、蓋体に接合されたはんだが鉛を含有せず、さらにこのはんだを介して蓋体が絶縁基体に接合されたときの気密封止の信頼性が高い電子部品封止用パッケージ、およびその電子部品収納用パッケージに電子部品が収容されてなる、気密封止の信頼性が高い電子装置を提供することにある。   The present invention has been devised in view of such conventional problems. The purpose of the present invention is to prevent the solder bonded to the lid from containing lead, and further to the insulating substrate through the solder. To provide an electronic component sealing package having high hermetic sealing reliability when bonded, and an electronic device having high hermetic sealing reliability in which an electronic component is accommodated in the electronic component storage package It is in.

本発明の蓋体は、上面に電子部品を気密封止して収納するための凹部を有するとともに該凹部を取り囲む金属層が形成された絶縁基体に接合され、前記凹部を気密封止する蓋体であって、前記蓋体は、少なくとも下面の外周部がニッケル,コバルト,鉄,金,銀,白金およびパラジウムの少なくとも1種である金属材料からなるとともに前記外周部にはんだ層が被着されており、該はんだ層は、前記金属材料側から順に配置された、錫と前記金属材料の金属成分との合金相を主成分とする第1はんだ層と、ビスマス相を主成分として錫が2乃至5質量%の錫−ビスマス合金相を含む、前記第1はんだ層よりも融点が低い第2はんだ層とからなることを特徴とするものである。
The lid of the present invention has a recess for hermetically sealing and storing an electronic component on the upper surface, and is joined to an insulating base formed with a metal layer surrounding the recess to hermetically seal the recess. The lid body is made of a metal material having at least one outer peripheral portion of a lower surface made of nickel, cobalt, iron, gold, silver, platinum and palladium, and a solder layer is attached to the outer peripheral portion. The solder layer is arranged in order from the metal material side, the first solder layer mainly composed of an alloy phase of tin and a metal component of the metal material, and 2 to 2 tin composed mainly of a bismuth phase. It comprises a second solder layer having a melting point lower than that of the first solder layer, containing 5% by mass of a tin-bismuth alloy phase.

また、本発明の蓋体の製造方法は、上面に電子部品を気密封止して収納するための凹部を有するとともに該凹部を取り囲む金属層が形成された絶縁基体に接合され、前記凹部を気密封止する蓋体の製造方法であって、少なくとも下面の外周部がニッケル,コバルト,鉄,金,銀,白金およびパラジウムの少なくとも1種である金属材料からなる板状の材料の前記金属材料部分に、6〜10質量%の錫を含むビスマス−錫はんだを溶融させ、前記金属材料と前記錫との合金相を主成分とする第1はんだ層、および、錫が2乃至5質量%の錫−ビスマス合金相を含み、前記第1はんだ層よりも融点が低い第2はんだ層を形成させるものである。
The lid manufacturing method of the present invention is bonded to an insulating substrate having a recess for hermetically sealing and housing an electronic component on the upper surface and formed with a metal layer surrounding the recess. A method of manufacturing a hermetically sealed lid, wherein the metal material portion of a plate-like material made of a metal material having at least an outer peripheral portion of a lower surface of at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, platinum and palladium Bismuth-tin solder containing 6 to 10% by mass of tin, a first solder layer mainly composed of an alloy phase of the metal material and tin, and tin containing 2 to 5% by mass of tin -A second solder layer containing a bismuth alloy phase and having a melting point lower than that of the first solder layer is formed.

本発明の電子装置の製造方法は、上面に電子部品を気密封止して収納するための凹部を有するとともに該凹部を取り囲む金属層が形成された絶縁基体と、前記凹部内に収納された電子部品と、少なくとも下面の外周部が金属材料からなる蓋体とを備え、前記絶縁基体の前記金属層と前記蓋体の前記金属材料とが接合層を介して接合されて前記凹部が気密封止されてなる電子装置の製造方法であって、前記絶縁基体のニッケル,コバルト,鉄,金,銀,白金およびパラジウムの少なくとも1種である金属層と、請求項1記載の蓋体の前記第2はんだ層とを接触させ、前記第2はんだ層を溶融させて、前記金属材料側から順に配置された、錫と前記金属材料の金属成分との合金相を主成分とする前記第1はんだ層による第1接合層と、ビスマス相を主成分とする、前記第1接合層よりも融点が低く、前記第2はんだ層よりも融点が高い第2接合層と、錫と前記金属層の金属成分との合金相を主成分とする、前記第2接合層よりも融点が高い第3接合層とからなる前記接合層を形成させるものである。 The method of manufacturing an electronic device according to the present invention includes an insulating base having a recess for hermetically sealing and storing an electronic component on the upper surface and having a metal layer surrounding the recess, and an electron stored in the recess. A component, and a lid having at least an outer peripheral portion of a lower surface made of a metal material, wherein the metal layer of the insulating base and the metal material of the lid are bonded via a bonding layer, and the recess is hermetically sealed 2. The electronic device manufacturing method according to claim 1, wherein the insulating base is a metal layer that is at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, platinum, and palladium, and the second of the lids according to claim 1. By contacting the solder layer, melting the second solder layer, and sequentially disposed from the metal material side, the first solder layer mainly composed of an alloy phase of tin and a metal component of the metal material First bonding layer and bismuth phase The main component is a second bonding layer having a melting point lower than that of the first bonding layer and higher than that of the second solder layer, and an alloy phase of tin and the metal component of the metal layer as a main component. The bonding layer including the third bonding layer having a melting point higher than that of the second bonding layer is formed.

本発明の電子部品収納用パッケージによれば、はんだ層を蓋体に直接接合している第1はんだ層が錫と蓋体の金属材料の金属成分との合金相を主成分としてなり、その融点が金属材料の作用により約400℃以上と高くなっている。また、蓋体を絶縁基体(実際には絶縁基体に形成されるはんだ付け用の金属層)と接続するための第2はんだ層がビスマス相を主成分として錫−ビスマス合金相を含んでなり、第1はんだ層よりも融点が低い。そのため、従来の封止用の鉛はんだに代わり、有害な鉛を含有しないはんだによる封止が可能になる。   According to the electronic component storage package of the present invention, the first solder layer that directly joins the solder layer to the lid is mainly composed of an alloy phase of tin and the metal component of the metal material of the lid, and its melting point However, it is higher than about 400 ° C due to the action of metal materials. The second solder layer for connecting the lid to the insulating base (actually a soldering metal layer formed on the insulating base) comprises a bismuth phase as a main component and a tin-bismuth alloy phase, The melting point is lower than that of the first solder layer. Therefore, instead of the conventional lead solder for sealing, sealing with solder that does not contain harmful lead becomes possible.

すなわち、ビスマスの融点が271℃と比較的高いため、ビスマス相を主成分とする第2はんだ層を、従来の鉛系高温はんだと同様に封止用はんだ層として機能させることができる。また、第2はんだ層は、錫−ビスマス相を含有している分、ビスマス相のみの場合に比べて融点が低いため、封止時の加熱温度を低く抑えることができる。この封止時、第1はんだ層の融点が、金属材料の金属成分の作用により第2はんだ層の融点よりも高くなっているため、第2はんだ層による封止時に溶融せず、蓋体に対するはんだ層の接合を維持することができる。さらに、封止時に、第2はんだ層の錫成分が、絶縁基体側の金属層の金属材料とビスマスよりも融点が高い合金相を形成することもできる。そのため、例えば電子部品収納用パッケージに電子部品を気密封止した後に、錫−銀系等の鉛フリーはんだを用いて外部電気回路基板に対する接続を行なうような場合でも、はんだ層が溶融することはなく、気密封止の信頼性が高い。したがって、蓋体に接合されたはんだ層が鉛を含有せず、さらにこのはんだ層を介して蓋体が絶縁基体に接合されたときの気密封止の信頼性が高い電子部品封止用パッケージを提供することができる。   That is, since the melting point of bismuth is relatively high at 271 ° C., the second solder layer mainly composed of the bismuth phase can function as a sealing solder layer in the same manner as conventional lead-based high-temperature solder. In addition, since the second solder layer contains a tin-bismuth phase, the melting point is lower than that of the bismuth phase alone, so that the heating temperature at the time of sealing can be kept low. At the time of sealing, the melting point of the first solder layer is higher than the melting point of the second solder layer due to the action of the metal component of the metal material. Solder layer bonding can be maintained. Further, at the time of sealing, the tin component of the second solder layer can form an alloy phase having a melting point higher than that of the metal material and bismuth of the metal layer on the insulating base side. Therefore, for example, even when the electronic component is hermetically sealed in the electronic component storage package and then connected to the external electric circuit board using a lead-free solder such as tin-silver, the solder layer is not melted. The reliability of hermetic sealing is high. Therefore, an electronic component sealing package having a high reliability of hermetic sealing when the solder layer bonded to the lid does not contain lead and the lid is bonded to the insulating base via the solder layer is provided. Can be provided.

また、本発明の電子部品収納用パッケージは、上記構成において蓋体の金属材料が、ニッケル,コバルト,鉄,金,銀,銅,白金およびパラジウムの少なくとも1種である場合には、気密封止の信頼性をより確実に高くすることが可能であり、電子部品収納用パッケージとしての実用性も良好な電子部品収納用パッケージを提供することができる。   The electronic component storage package of the present invention is hermetically sealed when the metal material of the lid in the above configuration is at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, copper, platinum and palladium. Therefore, it is possible to provide an electronic component storage package that is highly practical and useful as an electronic component storage package.

すなわち、上記の金属材料と錫との合金相の形成が容易であり、その融点を、より確実に上記のように高くすることができる。また、これらの金属材料は、それ自体によって蓋体を作製したり、金属材料以外の材料で蓋体を作製したときに蓋体の下面の外周部に、例えばメタライズ層やめっき層等の形態で被着させたりすることが容易である。したがって、この場合には、気密封止の信頼性や実用性が高い電子部品収納用パッケージを提供することができる。   That is, it is easy to form an alloy phase of the metal material and tin, and the melting point can be more reliably increased as described above. In addition, these metal materials are produced in the form of, for example, a metallized layer or a plating layer on the outer periphery of the lower surface of the lid when the lid is produced by itself or the lid is produced with a material other than the metal material. It is easy to deposit. Therefore, in this case, it is possible to provide an electronic component storage package with high reliability and practicality of hermetic sealing.

本発明の電子装置は、上記構成を備え、蓋体と絶縁基体とを接合しているはんだ接合層が、蓋体側から順に配置された、錫と蓋体の金属材料の金属成分との合金相を主成分とする第1接合層と、ビスマス相を主成分とする、第1接合層よりも融点が低い第2接合層と、錫と絶縁基体の金属層の金属成分との合金相を主成分とする、第2接合層よりも融点が高い第3接合層とからなることから、上記本発明の電子部品収納用パッケージと同様に、鉛を含有しないはんだ接合層による気密封止が可能になる。ビスマス相を主成分とする第2接合層は、ビスマスの融点が比較的高いので、従来の鉛系高温はんだと同様に蓋体と絶縁基体とを接合する主な接合層として機能させることができる。そして、例えばこの電子装置を、錫−銀系等の鉛フリーはんだを用いて外部電気回路基板に対する接続(実装)を行なうような場合でも、第2はんだ層が溶融することは効果的に抑制される。また、第1および第3接合層は、いずれも第2接合層よりも融点が高いので、同様に、実装時に溶融することは効果的に抑制される。そのため、気密封止の信頼性の高い電子装置を提供することができる。なお、第1および第3接合層は、それぞれ錫と合金相を形成する金属材料の作用により、その融点が上記のように高くなっている。   An electronic device according to the present invention has the above-described configuration, and an alloy phase of tin and a metal component of a metal material of the lid body, in which a solder joint layer that joins the lid body and the insulating base is disposed in order from the lid body side. The main component is an alloy phase of a first bonding layer mainly containing bismuth, a second bonding layer mainly containing a bismuth phase and having a melting point lower than that of the first bonding layer, and a metal component of the metal layer of the insulating base. Since it is composed of a third bonding layer having a melting point higher than that of the second bonding layer as a component, it is possible to perform hermetic sealing with a solder bonding layer containing no lead, as in the electronic component storage package of the present invention. Become. Since the bismuth melting point is relatively high, the second bonding layer mainly composed of the bismuth phase can function as a main bonding layer for bonding the lid and the insulating substrate in the same manner as a conventional lead-based high-temperature solder. . For example, even when this electronic device is connected (mounted) to an external electric circuit board using a lead-free solder such as a tin-silver system, melting of the second solder layer is effectively suppressed. The Moreover, since both the first and third bonding layers have higher melting points than the second bonding layer, similarly, melting during mounting is effectively suppressed. Therefore, an electronic device with high hermetic sealing reliability can be provided. The first and third bonding layers have high melting points as described above due to the action of the metal material that forms an alloy phase with tin.

また、本発明の電子装置は、上記構成において、蓋体の金属材料の金属成分および絶縁基体の金属層の金属成分が、ニッケル,コバルト,鉄,金,銀,銅,白金およびパラジウムの少なくとも1種である場合には、上記本発明の電子部品収納用パッケージの場合と同様に、気密封止の信頼性をより確実に高くすることが可能であり、電子装置としての実用性も良好な電子装置を提供することができる。   In the electronic device according to the present invention, in the above configuration, the metal component of the metal material of the lid and the metal component of the metal layer of the insulating base are at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, copper, platinum, and palladium. In the case of the seed, as in the case of the electronic component storage package of the present invention described above, the reliability of the hermetic sealing can be increased more reliably, and the practicality as an electronic device can be improved. An apparatus can be provided.

すなわち、上記の金属材料と錫との合金相の形成が容易であり、その融点をより確実に上記のように高くすることができる。また、これらの金属材料は、それ自体によって蓋体を作製したり、金属材料以外の材料で蓋体を作製したときに蓋体の下面の外周部に、例えばメタライズ層やめっき層等の形態で被着させたりすることが容易である。したがって、この場合には、気密封止の信頼性や実用性が高い電子装置を提供することができる。   That is, it is easy to form an alloy phase of the metal material and tin, and the melting point can be more reliably increased as described above. In addition, these metal materials are produced in the form of, for example, a metallized layer or a plating layer on the outer periphery of the lower surface of the lid when the lid is produced by itself or the lid is produced with a material other than the metal material. It is easy to deposit. Therefore, in this case, an electronic device with high reliability and practicality of hermetic sealing can be provided.

以上のように、本発明の電子部品収納用パッケージおよび電子装置においては、ビスマス相を主成分として錫−ビスマス相を含む第2はんだ層が絶縁基体の金属層と接合されるので、比較的低温から金属層とはんだ層(第2はんだ層)との接合が開始され、はんだ層の金属層に対する濡れ性が向上するとともに、接合後に、第2接合層に融点が低いビスマス−錫相が残っていない。   As described above, in the electronic component housing package and the electronic device according to the present invention, the second solder layer containing the bismuth phase as a main component and containing the tin-bismuth phase is bonded to the metal layer of the insulating base, so that the temperature is relatively low. From this, the joining of the metal layer and the solder layer (second solder layer) is started, the wettability of the solder layer to the metal layer is improved, and after the joining, a bismuth-tin phase having a low melting point remains in the second joining layer. Absent.

本発明の電子部品収納用パッケージの実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the electronic component storage package of this invention. 本発明の電子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of embodiment of the electronic device of this invention.

本発明の電子部品収納用パッケージおよび電子装置について、添付の図面を参照しつつ説明する。   An electronic component storage package and an electronic device according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1は本発明の電子部品収納用パッケージの実施の形態の一例を示す断面図であり、図2は、本発明の電子装置の実施の形態の一例を示す断面図である。図1および図2において、1は蓋体,2ははんだ層,3は絶縁基体,4は金属層,5は配線導体,6ははんだ接合層,7は電子部品である。蓋体1と絶縁基体3とにより電子部品収納用パッケージが基本的に構成され、電子部品収納用パッケージに電子部品7が気密封止されて電子装置が基本的に構成されている。電子部品収納用パッケージにおいて、少なくとも下面の外周部が金属材料からなる蓋体1にはんだ層2が接合されている。このはんだ層2を絶縁基体3の上面の金属層4に接合して凹部3aを蓋体1で塞げば、凹部3a内に電子部品7が気密封止されて電子装置が作製される。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of an electronic component storage package of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of an electronic apparatus of the present invention. 1 and 2, 1 is a lid, 2 is a solder layer, 3 is an insulating substrate, 4 is a metal layer, 5 is a wiring conductor, 6 is a solder joint layer, and 7 is an electronic component. The lid 1 and the insulating base 3 basically constitute an electronic component housing package, and the electronic device 7 is basically constructed by hermetically sealing the electronic component 7 in the electronic component housing package. In the electronic component storage package, a solder layer 2 is bonded to a lid 1 having at least an outer peripheral portion of a lower surface made of a metal material. When the solder layer 2 is joined to the metal layer 4 on the upper surface of the insulating base 3 and the recess 3a is closed with the lid 1, the electronic component 7 is hermetically sealed in the recess 3a to produce an electronic device.

蓋体1は、例えば四角板状であり、鉄−ニッケル−コバルト合金や鉄−ニッケル合金,銅,アルミニウム等の金属材料、酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料または樹脂材料やガラス材料等の材料によって形成されている。なお、蓋体1は、上記のように絶縁基体3の凹部3aを塞ぐ必要があるため、少なくとも凹部3aの開口よりも大きな寸法で形成する必要がある。   The lid 1 has, for example, a square plate shape, and is made of a metal material such as iron-nickel-cobalt alloy, iron-nickel alloy, copper, aluminum, ceramic material such as aluminum oxide sintered body or aluminum nitride sintered body, or the like. It is made of a material such as a resin material or a glass material. In addition, since it is necessary to close the recessed part 3a of the insulating base | substrate 3 as mentioned above, it is necessary to form the cover body 1 with a dimension larger than the opening of the recessed part 3a at least.

蓋体1は、例えば鉄−ニッケル−コバルト合金からなる場合であれば、この合金材料の板材に打ち抜き加工やエッチング加工等の加工を施して所定の形状および寸法に成形することにより製作することができる。また、蓋体1が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、酸化アルミニウムの粉末を有機溶剤およびバインダとともに所定の蓋体1の形状に成形した後、約1300〜1600℃程度の温度で焼成する方法で製作することができる。   If the lid body 1 is made of, for example, an iron-nickel-cobalt alloy, the lid body 1 can be manufactured by subjecting a plate material of this alloy material to a punching process, an etching process, or the like, and forming it into a predetermined shape and size. it can. Further, if the lid 1 is made of an aluminum oxide sintered body, the aluminum oxide powder is molded into a predetermined lid 1 shape together with an organic solvent and a binder, and then at a temperature of about 1300 to 1600 ° C. It can be manufactured by a firing method.

蓋体1について、下面の外周部が絶縁基体3と接合されるため、この下面の外周部にはんだ層2が接合されている。このはんだ層2を接合させるために、蓋体1は、少なくとも下面の外周部が金属材料からなるものである必要がある。そのため、蓋体1を上記の金属材料以外の材料で形成した場合には、下面の外周部に、メタライズ法やめっき法等の手段で金属材料を層状に被着させておく必要がある。   Since the outer peripheral portion of the lower surface of the lid 1 is bonded to the insulating base 3, the solder layer 2 is bonded to the outer peripheral portion of the lower surface. In order to join the solder layer 2, the lid 1 needs to be made of a metal material at least on the outer peripheral portion of the lower surface. Therefore, when the lid body 1 is formed of a material other than the above metal material, it is necessary to deposit the metal material in a layered manner on the outer peripheral portion of the lower surface by means such as a metallizing method or a plating method.

例えば、蓋体1が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、この蓋体1となる未焼成の成形体の下面の外周部にタングステンやモリブデン等の金属ペーストを塗布しておき、蓋体1と同時焼成すれば、メタライズ層からなる金属材料(図示せず)を被着させることができる。なお、このメタライズ層からなる金属材料の層は、はんだの濡れ性が低いため、その表面にニッケルやコバルト,銅,金,パラジウム,白金等のめっき層を被着させておくことが好ましい。   For example, if the lid 1 is made of an aluminum oxide sintered body, a metal paste such as tungsten or molybdenum is applied to the outer peripheral portion of the lower surface of the unfired molded body to be the lid 1, and the lid 1 If fired simultaneously with the body 1, a metal material (not shown) made of a metallized layer can be deposited. Since the metal material layer made of the metallized layer has low solder wettability, it is preferable to deposit a plating layer of nickel, cobalt, copper, gold, palladium, platinum, or the like on the surface thereof.

なお、蓋体1が鉄−ニッケル−コバルト合金等の金属材料で形成されている場合でも、その表面の全面等にニッケルや金,銅等のめっき層を被着させて、蓋体1の酸化を抑制するようにしてもよい。   Even when the lid 1 is made of a metal material such as an iron-nickel-cobalt alloy, a plating layer such as nickel, gold, or copper is deposited on the entire surface of the lid 1 to oxidize the lid 1. You may make it suppress.

また、絶縁基体3は、上面に電子部品7を気密封止するための凹部3aを有している。電子部品7は、例えば半導体集積回路素子や圧電素子,圧力センサ素子等のセンサ素子,容量素子,抵抗器等である。これらの電子部品7は一般に直方体状(四角板状)であり、凹部3aは、例えばこのような電子部品7を効率よく収容するために開口が四角形状である。   The insulating base 3 has a recess 3a for hermetically sealing the electronic component 7 on the upper surface. The electronic component 7 is, for example, a sensor element such as a semiconductor integrated circuit element, a piezoelectric element, or a pressure sensor element, a capacitive element, a resistor, or the like. These electronic components 7 generally have a rectangular parallelepiped shape (square plate shape), and the concave portion 3a has, for example, a rectangular shape in order to accommodate such electronic components 7 efficiently.

このような凹部3aを有する絶縁基体3は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体からなる場合であれば、アルミナ等の原料粉末を有機溶剤,バインダとともにシート状に成形して複数のセラミックグリーンシートを作製し、次に、これらのセラミックグリーンシートの一部に適当な打ち抜き加工を施して枠状に形成した後、打ち抜き加工を施していない平板状のセラミックグリーンシートの上に枠状のセラミックグリーンシートを積層し、最後に約1300〜1600℃の所定温度で焼成することにより製作される。   If the insulating substrate 3 having such recesses 3a is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, a raw material powder such as alumina is formed into a sheet shape together with an organic solvent and a binder to form a plurality of ceramic green sheets. Next, a part of these ceramic green sheets is appropriately punched and formed into a frame shape. Then, the frame-shaped ceramic green sheet is formed on a flat ceramic green sheet that has not been punched. Are finally fired at a predetermined temperature of about 1300 to 1600 ° C.

なお、絶縁基体3は、四角板状の基板部分と四角枠状の枠体部分とを別個に製作した後、基板部分の上面に枠体部分を樹脂接着剤やガラス等を用いて接合すること等の方法で製作することもできる。   The insulating base 3 is manufactured by separately manufacturing a square plate-like substrate portion and a square frame-like frame portion, and then bonding the frame portion to the upper surface of the substrate portion using a resin adhesive, glass, or the like. It can also be produced by such a method.

絶縁基体3は、はんだ層2を介した蓋体1との接合のために、上面に凹部3aを取り囲む金属層4が形成されている。金属層4は、はんだ層2を接合するための下地金属層であり、また、はんだ層2の成分と合金を形成するための金属材料を供給するためのものである。このような金属層4は、タングステンやモリブデン,マンガン,銅,銀,パラジウム,金,白金等の材料からなり、メタライズ層やめっき層,蒸着層等の形態で絶縁基体3に被着されている。   The insulating base 3 is formed with a metal layer 4 surrounding the recess 3 a on the upper surface for bonding with the lid 1 via the solder layer 2. The metal layer 4 is a base metal layer for joining the solder layer 2, and is for supplying a metal material for forming an alloy with the components of the solder layer 2. Such a metal layer 4 is made of a material such as tungsten, molybdenum, manganese, copper, silver, palladium, gold, or platinum, and is attached to the insulating substrate 3 in the form of a metallized layer, a plating layer, a vapor deposition layer, or the like. .

金属層4は、例えばタングステンのメタライズ層からなる場合であれば、タングステンの粉末を有機溶剤,バインダとともに混練して作製した金属ペーストを、絶縁基体3となるセラミックグリーンシートの上面にスクリーン印刷法等の印刷法で印刷しておくことにより形成することができる。   If the metal layer 4 is made of, for example, a tungsten metallized layer, a metal paste prepared by kneading tungsten powder together with an organic solvent and a binder is screen-printed on the upper surface of the ceramic green sheet to be the insulating substrate 3. It can be formed by printing with this printing method.

このようなメタライズ層からなる金属層4についても、上記の蓋体1の金属材料をメタライズ層で形成した場合と同様に、その表面にニッケルやコバルト,銅,金,パラジウム,白金等のめっき層を被着させて、はんだの濡れ性を高くしておくことが好ましい。   As for the metal layer 4 made of such a metallized layer, a plating layer of nickel, cobalt, copper, gold, palladium, platinum, or the like is formed on the surface thereof in the same manner as when the metal material of the lid 1 is formed of a metallized layer. It is preferable to keep the wettability of the solder high.

また、図1および図2に示す例において、絶縁基体3には、凹部3aの内側から下面の外周部にかけて配線導体5が形成されている。配線導体5は、凹部3a内に気密封止される電子部品を外部電気回路(図示せず)に電気的に接続するための導電路である。   In the example shown in FIGS. 1 and 2, the insulating base 3 is formed with a wiring conductor 5 from the inner side of the recess 3a to the outer peripheral part of the lower surface. The wiring conductor 5 is a conductive path for electrically connecting an electronic component hermetically sealed in the recess 3a to an external electric circuit (not shown).

配線導体5は、例えば上記の金属層4と同様の材料(タングステンやモリブデン,マンガン,銅,銀,パラジウム,金,白金等)からなり、同様の形態で絶縁基体3に被着させることができる。   The wiring conductor 5 is made of, for example, the same material (tungsten, molybdenum, manganese, copper, silver, palladium, gold, platinum, etc.) as the metal layer 4 and can be attached to the insulating substrate 3 in the same form. .

電子部品7は、例えば、樹脂接着剤やろう材等(図示せず)を介して凹部3aの底面に接合されて凹部3a内に固定され、ボンディングワイヤ8等の電気的接続手段を用いて配線導体5の凹部3a内に形成された部分に接続されている。この配線導体5のうち絶縁基体3の下面の外周部に形成された部分を外部電気回路に、錫−銀系はんだ等の実装用のはんだ(図示せず)を用いて接続すれば、電子部品7と外部電気回路とが電気的に接続される。   For example, the electronic component 7 is bonded to the bottom surface of the recess 3a via a resin adhesive, a brazing material, or the like (not shown) and fixed in the recess 3a, and is wired using an electrical connection means such as a bonding wire 8. The conductor 5 is connected to a portion formed in the recess 3a. If a portion of the wiring conductor 5 formed on the outer peripheral portion of the lower surface of the insulating base 3 is connected to an external electric circuit using a mounting solder (not shown) such as tin-silver solder, an electronic component 7 and an external electric circuit are electrically connected.

なお、電子部品7は、蓋体1の下面側に接合して固定するようにしてもよい。この場合、蓋体1を上記のようにセラミック材料等の絶縁材料で形成しておいて、この蓋体1にも電子部品7を外部電気回路に接続するための導電路(図示せず)を形成するようにしてもよい。この蓋体の導電路も、例えば配線導体5と同様の材料を用い、同様の方法で形成することができる。   Note that the electronic component 7 may be bonded and fixed to the lower surface side of the lid 1. In this case, the lid 1 is formed of an insulating material such as a ceramic material as described above, and a conductive path (not shown) for connecting the electronic component 7 to an external electric circuit is also provided in the lid 1. You may make it form. The conductive path of the lid can also be formed by the same method using the same material as the wiring conductor 5, for example.

本発明の電子部品収納用パッケージにおいて、上記のように蓋体1の少なくとも下面の外周部が金属材料からなるとともに、その外周部にはんだ層2が接合されており、はんだ層2は、蓋体1側から順に配置された、錫と蓋体1の金属材料の金属成分との合金相を主成分とする第1はんだ層2aと、ビスマス相を主成分として錫−ビスマス合金相を含む、第1はんだ層よりも融点が低い第2はんだ層2bとからなる。   In the electronic component storage package of the present invention, as described above, at least the outer peripheral portion of the lower surface of the lid 1 is made of a metal material, and the solder layer 2 is joined to the outer peripheral portion. 1st solder layer 2a which has a tin-bismuth alloy phase which has a bismuth phase as a main ingredient, and a 1st solder layer 2a which has a tin bismuth phase as a main ingredient, and is arranged in order from 1 side The second solder layer 2b has a melting point lower than that of one solder layer.

蓋体1の少なくとも下面の外周部を構成する金属材料は、上記のように蓋体1自体を形成する金属材料や、金属材料以外の材料で形成された蓋体1に被着されたメタライズ層やめっき層等であり、例えばニッケルやコバルト,鉄,金,銀,銅,白金,パラジウム,タングステン,モリブデン,マンガン,アルミニウム等である。   The metal material constituting the outer peripheral portion of at least the lower surface of the lid 1 is a metallized layer attached to the lid 1 formed of a metal material forming the lid 1 itself or a material other than the metal material as described above. And plating layers, such as nickel, cobalt, iron, gold, silver, copper, platinum, palladium, tungsten, molybdenum, manganese, and aluminum.

このような電子部品収納用パッケージによれば、はんだ層2を蓋体1に直接接合している第1はんだ層2aが錫と蓋体1の金属材料の金属成分との合金相を主成分としてなり、その融点が金属材料の作用により約400℃以上と高くなっている。また、蓋体1を絶縁基体3(実際には絶縁基体3に形成されるはんだ付け用の金属層4)と接続するための第2はんだ層2bがビスマス相を主成分として錫−ビスマス合金相を含んでなり、第1はんだ層2aよりも融点が低い。そのため、従来の封止用の鉛はんだに代わり、有害な鉛を含有しないはんだによる封止が可能になる。   According to such an electronic component storage package, the first solder layer 2a that directly joins the solder layer 2 to the lid 1 has an alloy phase of tin and the metal component of the metal material of the lid 1 as a main component. The melting point is as high as about 400 ° C. due to the action of the metal material. Further, the second solder layer 2b for connecting the lid 1 to the insulating base 3 (actually the soldering metal layer 4 formed on the insulating base 3) has a bismuth phase as a main component and a tin-bismuth alloy phase. And has a melting point lower than that of the first solder layer 2a. Therefore, instead of the conventional lead solder for sealing, sealing with solder that does not contain harmful lead becomes possible.

すなわち、ビスマスの融点が271℃と比較的高いため、ビスマス相を主成分とする第2はんだ層2bを、従来の鉛系高温はんだと同様に封止用はんだ層として機能させることができる。また、第2はんだ層2bは、錫−ビスマス相を含有している分、ビスマス相のみの場合に比べて融点が低いため、封止時の加熱温度を低く抑えることができる。この封止時、第1はんだ層2aの融点が、金属材料の金属成分の作用により第2はんだ層2bの融点よりも高くなっているため、第2はんだ層2bによる封止時に溶融せず、蓋体1に対するはんだ層2の接合を維持することができる。さらに、封止時に、第2はんだ層2bの錫成分が、絶縁基体3側の金属層4の金属材料とビスマスよりも融点が高い合金相を形成することもできる。そのため、例えば電子部品収納用パッケージに電子部品7を気密封止した後に、錫−銀系等の鉛フリーはんだを用いて外部電気回路基板に対する接続を行なうような場合でも、はんだ層2(第1および第2はんだ層2a,2bのいずれも)が溶融することはなく、気密封止の信頼性が高い。したがって、蓋体1に接合されたはんだ層2が鉛を含有せず、さらにこのはんだ層2を介して蓋体1が絶縁基体3に接合されたときの気密封止の信頼性が高い電子部品封止用パッケージを提供することができる。   That is, since the melting point of bismuth is relatively high at 271 ° C., the second solder layer 2b mainly composed of the bismuth phase can be made to function as a sealing solder layer in the same manner as a conventional lead-based high-temperature solder. In addition, since the second solder layer 2b contains a tin-bismuth phase, the melting point is lower than that of the bismuth phase alone, so that the heating temperature at the time of sealing can be kept low. At the time of sealing, the melting point of the first solder layer 2a is higher than the melting point of the second solder layer 2b due to the action of the metal component of the metal material. Bonding of the solder layer 2 to the lid 1 can be maintained. Furthermore, at the time of sealing, the tin component of the second solder layer 2b can form an alloy phase having a higher melting point than the metal material of the metal layer 4 on the insulating base 3 side and bismuth. Therefore, for example, even when the electronic component 7 is hermetically sealed in an electronic component storage package and then connected to an external electric circuit board using a lead-free solder such as tin-silver, the solder layer 2 (first Neither the second solder layer 2a nor the second solder layer 2b is melted, and the reliability of hermetic sealing is high. Accordingly, the solder layer 2 joined to the lid 1 does not contain lead, and the electronic component has high hermetic sealing reliability when the lid 1 is joined to the insulating base 3 via the solder layer 2. A sealing package can be provided.

第1はんだ層2aは、錫と蓋体1の金属材料の金属成分との合金相を主成分としたものであり、金属成分の作用によって、上記のように融点が従来の鉛系高温はんだの融点よりも高くなっている。   The first solder layer 2a is mainly composed of an alloy phase of tin and a metal component of the metal material of the lid 1, and the melting point of the conventional lead-based high-temperature solder is as described above due to the action of the metal component. It is higher than the melting point.

第2はんだ層2bは、絶縁基体3の金属層4と接合したときに錫成分のほぼ全部が金属層4の金属材料と合金相を形成するような組成で形成する。   The second solder layer 2 b is formed with a composition such that substantially all of the tin component forms an alloy phase with the metal material of the metal layer 4 when bonded to the metal layer 4 of the insulating base 3.

このような組成の第2はんだ層2bとしては、例えば錫成分を約2〜5質量%、ビスマス−錫相を構成する錫として含むビスマス−錫はんだを挙げることができる。また、上記組成において、錫成分は、一部が錫相や錫と金属材料との合金相として含まれているものでもよい。また、上記組成のビスマス−錫はんだに、ビスマスと金属材料の金属成分との合金相を含んでいてもよい。   As the second solder layer 2b having such a composition, for example, a bismuth-tin solder containing about 2 to 5% by mass of a tin component and tin constituting a bismuth-tin phase can be cited. In the above composition, the tin component may be partially contained as a tin phase or an alloy phase of tin and a metal material. Further, the bismuth-tin solder having the above composition may contain an alloy phase of bismuth and a metal component of the metal material.

このようなはんだ層2は、例えば、以下の方法で蓋体1(蓋体1の金属材料)に接合することができる。   Such a solder layer 2 can be bonded to the lid 1 (metal material of the lid 1) by the following method, for example.

すなわち、例えば鉄−ニッケル合金からなる蓋体1を準備するとともに、その下面の外周部に錫を約6〜10質量%含む、ビスマス−錫はんだのペースト(図示せず)を塗布する。そして、このペーストを塗布した蓋体1を280〜300℃で1〜2分程度加熱すれば、ビスマス−錫はんだの錫成分と、蓋体1の金属材料の金属成分とが互いに接合界面部分で錫−金属成分の合金相を形成し、はんだ層2が蓋体1に接合される。また、接合されたはんだ層2の第2はんだ層2bは、錫成分の拡散によって上記のような錫成分を2〜5質量%程度含む組成となる。   That is, for example, a lid 1 made of, for example, an iron-nickel alloy is prepared, and a paste (not shown) of bismuth-tin solder containing about 6 to 10% by mass of tin is applied to the outer peripheral portion of the lower surface thereof. If the lid 1 coated with this paste is heated at 280 to 300 ° C. for about 1 to 2 minutes, the tin component of the bismuth-tin solder and the metal component of the metal material of the lid 1 are bonded to each other at the joint interface portion. An alloy phase of a tin-metal component is formed, and the solder layer 2 is joined to the lid 1. Moreover, the 2nd solder layer 2b of the joined solder layer 2 becomes a composition containing about 2-5 mass% of the above tin components by diffusion of a tin component.

なお、はんだ層2は、図1に示す例では凹部3aを取り囲む金属層4と対向するように枠状としているが、さらに内側に広げて接合させてもよく、また、蓋体1の下面の全面に接合するようにしてもよい。蓋体1の下面の全面にはんだ層2を接合する場合には、はんだペーストの塗布等の際に精密な位置合わせが不要であるため、生産性を高くする上では有利である。   In the example shown in FIG. 1, the solder layer 2 is formed in a frame shape so as to face the metal layer 4 surrounding the recess 3 a, but it may be further spread inwardly and bonded to the lower surface of the lid 1. You may make it join to the whole surface. When the solder layer 2 is joined to the entire lower surface of the lid 1, precise positioning is not required when applying a solder paste, which is advantageous in increasing productivity.

また、本発明の電子部品収納用パッケージは、上記構成において蓋体1の金属材料が、ニッケル,コバルト,鉄,金,銀,銅,白金およびパラジウムの少なくとも1種である場合には、気密封止の信頼性をより確実に高くすることが可能であり、電子部品収納用パッケージとしての実用性も良好な電子部品収納用パッケージを提供することができる。   In the electronic component storage package of the present invention, when the metal material of the lid 1 is at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, copper, platinum and palladium in the above configuration, the package is hermetically sealed. It is possible to increase the reliability of stopping more reliably, and it is possible to provide an electronic component storage package with good practicality as an electronic component storage package.

すなわち、上記の金属材料と錫との合金相の形成が容易であり、その融点をより確実に上記のように高くすることができる。また、これらの金属材料は、それ自体により蓋体1を作製したり、金属材料以外の材料で蓋体1を作製したときに蓋体1の下面の外周部に、例えばメタライズ層やめっき層等(図示せず)の形態で被着させたりすることが容易である。したがって、この場合には、気密封止の信頼性や実用性が高い電子部品収納用パッケージを提供することができる。例えば、ニッケルやコバルト,鉄であれば蓋体1自体を形成する材料として用いられ、金や銀,銅,白金およびパラジウムであればセラミック材料等からなる蓋体1の下面にメタライズ層を被覆するめっき層として用いられる。   That is, it is easy to form an alloy phase of the metal material and tin, and the melting point can be more reliably increased as described above. In addition, these metal materials are produced on the outer peripheral portion of the lower surface of the lid 1 when the lid 1 is produced by itself or the lid 1 is made of a material other than the metal material, for example, a metallized layer or a plating layer. It is easy to deposit in the form of (not shown). Therefore, in this case, it is possible to provide an electronic component storage package with high reliability and practicality of hermetic sealing. For example, nickel, cobalt, or iron is used as a material for forming the lid 1 itself, and gold, silver, copper, platinum, or palladium is used to coat a metallized layer on the lower surface of the lid 1 made of a ceramic material or the like. Used as a plating layer.

これらの金属材料の中でも、ニッケル,銅および金が、めっき層としての被着が容易であり、また、はんだ層2をはんだペーストの塗布および溶融によって接合する際の濡れ性が良好であるため、特に好ましい。   Among these metal materials, nickel, copper and gold are easy to deposit as a plating layer, and because the wettability when joining the solder layer 2 by applying and melting the solder paste is good, Particularly preferred.

そして、蓋体1と絶縁基体3の金属層4とをはんだ層2を介して接合し、凹部3aを蓋体1で塞いで電子部品7を凹部3a内に気密封止すれば、電子装置が形成される。   Then, the lid 1 and the metal layer 4 of the insulating base 3 are joined via the solder layer 2, the recess 3a is closed with the lid 1, and the electronic component 7 is hermetically sealed in the recess 3a. It is formed.

本発明の電子装置は、上記のように、上面に電子部品7を気密封止して収納するための凹部3aを有するとともに凹部3aを取り囲む金属層4が形成された絶縁基体3と、凹部3a内に収納された電子部品7と、少なくとも下面の外周部が金属材料からなる蓋体1とを備え、絶縁基体3の金属層4と蓋体1の金属材料とがはんだ接合層6を介して接合されて凹部3aが気密封止されている。   As described above, the electronic device of the present invention has the recess 3a on the upper surface for hermetically sealing and housing the electronic component 7, and the insulating base 3 on which the metal layer 4 surrounding the recess 3a is formed, and the recess 3a. The electronic component 7 housed in the inside and the lid 1 having at least the outer periphery of the lower surface made of a metal material are provided, and the metal layer 4 of the insulating base 3 and the metal material of the lid 1 are interposed via the solder joint layer 6. The concave portion 3a is hermetically sealed by being joined.

はんだ接合層6は、例えば本発明の電子部品収納用パッケージにおけるはんだ層2が絶縁基体3の金属層4と接合されて形成されたものである。   The solder joint layer 6 is formed, for example, by joining the solder layer 2 in the electronic component storage package of the present invention to the metal layer 4 of the insulating base 3.

この電子装置において、蓋体1と絶縁基体3とを接合しているはんだ接合層6は、蓋体1側から順に配置された、錫と金属材料の金属成分との合金相を主成分とする第1接合層6aと、ビスマス相を主成分として錫−ビスマス合金相を含む、第1接合層6aよりも融点が低い第2接合層6bと、錫と金属層4の金属成分との合金相を主成分とする、第2接合層6bよりも融点が高い第3接合層6cとからなる。   In this electronic device, the solder joint layer 6 that joins the lid 1 and the insulating base 3 is composed mainly of an alloy phase of tin and a metal component of a metal material, which is arranged in order from the lid 1 side. An alloy phase of the first bonding layer 6a, the second bonding layer 6b having a bismuth phase as a main component and containing a tin-bismuth alloy phase and having a melting point lower than that of the first bonding layer 6a, and the metal component of tin and the metal layer 4 And a third bonding layer 6c having a melting point higher than that of the second bonding layer 6b.

本発明の電子装置は、はんだ接合層6が、上記構成の第1〜第3接合層6a〜6cからなることから、本発明の電子部品収納用パッケージと同様に、鉛を含有しないはんだ接合層6による気密封止が可能になる。   In the electronic device of the present invention, since the solder bonding layer 6 is composed of the first to third bonding layers 6a to 6c having the above-described configuration, the lead-free solder bonding layer is provided in the same manner as the electronic component storage package of the present invention. 6 can be hermetically sealed.

ビスマス相を主成分とする第2接合層6bは、融点が低い錫−ビスマス合金相を含有せず、ビスマスの融点が比較的高いので、従来の鉛系高温はんだと同様に蓋体1と絶縁基体3とを接合する主な接合層として機能させることができる。そして、例えばこの電子装置を、錫−銀系等の鉛フリーはんだを用いて外部電気回路に対する接続(実装)を行なうような場合でも、第2接合層6bが溶融することはない。また、第1および第3接合層6a,6cは、いずれも第2接合層6bよりも融点が高いので、同様に、実装時に溶融することはない。そのため、気密封止の信頼性の高い電子装置を提供することができる。なお、第1および第3接合層6a,6cは、それぞれ錫と合金相を形成する金属材料の作用により、その融点が上記のように高くなっている。   The second bonding layer 6b mainly composed of a bismuth phase does not contain a tin-bismuth alloy phase having a low melting point, and the melting point of bismuth is relatively high. It can function as a main bonding layer for bonding the substrate 3. For example, even when this electronic device is connected (mounted) to an external electric circuit using lead-free solder such as tin-silver, the second bonding layer 6b does not melt. Further, since the first and third bonding layers 6a and 6c have melting points higher than those of the second bonding layer 6b, they are not melted during mounting. Therefore, an electronic device with high hermetic sealing reliability can be provided. The first and third bonding layers 6a and 6c have high melting points as described above due to the action of the metal material that forms an alloy phase with tin.

なお、この電子装置を構成する蓋体1および絶縁基体3、ならびに絶縁基体3に形成されている金属層4および配線導体5等の構成は上記の電子部品収納用パッケージの場合と同様であり、同様の方法で製作することができる。   The configurations of the lid 1 and the insulating base 3, and the metal layer 4 and the wiring conductor 5 that are formed on the insulating base 3 are the same as those of the electronic component storage package described above. It can be manufactured in a similar manner.

また、接合層6の第1接合層6aは、錫と蓋体1の金属材料の金属成分との合金相を主成分とするものであり、その全部が錫−金属成分の合金相からなるものであってもよく、ビスマス相やビスマスと上記金属成分との合金相を含むものであってもよい。   Further, the first bonding layer 6a of the bonding layer 6 is mainly composed of an alloy phase of tin and the metal component of the metal material of the lid 1, and is entirely composed of an alloy phase of a tin-metal component. It may be a bismuth phase or an alloy phase of bismuth and the above metal component.

第3接合層6cは、錫と金属層4の金属成分との合金相を主成分とするものであり、その全部が錫−金属成分の合金相からなるものであってもよく、数質量%程度のビスマス相やビスマスと上記金属成分との合金相を含むものであってもよい。   The third bonding layer 6c is mainly composed of an alloy phase of tin and the metal component of the metal layer 4, and all of it may be composed of an alloy phase of a tin-metal component. It may contain a certain degree of bismuth phase or an alloy phase of bismuth and the above metal component.

第1接合層6aおよび第3接合層6cは、それぞれ接合層6を蓋体1(蓋体1の金属材料)および絶縁基体3の金属層4に接合している層であり、電子部品収納用パッケージにおける第1はんだ層2aと同様に、金属成分の作用により融点が従来の鉛系高温はんだよりも高い。   The first bonding layer 6a and the third bonding layer 6c are layers that bond the bonding layer 6 to the lid body 1 (metal material of the lid body 1) and the metal layer 4 of the insulating base 3, respectively, for storing electronic components. Similar to the first solder layer 2a in the package, the melting point is higher than that of the conventional lead-based high-temperature solder due to the action of the metal component.

これらの第1および第3接合層6a,6cにおいて錫と合金相を形成する金属材料は、例えば電子部品収納用パッケージにおける第1はんだ層2aと同様にニッケルやコバルト,鉄,金,銀,銅,白金,パラジウム,タングステン,モリブデン,マンガン,アルミニウム等である。   The metal material that forms an alloy phase with tin in the first and third bonding layers 6a, 6c is, for example, nickel, cobalt, iron, gold, silver, copper, like the first solder layer 2a in the electronic component storage package. Platinum, palladium, tungsten, molybdenum, manganese, aluminum and the like.

第2接合層6bは、蓋体1(金属材料)と絶縁基体3(金属層4)とを、蓋体1にあらかじめ接合しておいたはんだ層2を金属層4に接合して凹部3aを気密封止する際の主な接合材である。すなわち、ビスマス相を主成分とする、融点がビスマスの融点(約271℃)程度と高い第2接合層6bを介して蓋体1と絶縁基体3とが接合されて、上記のように気密封止の信頼性の高い電子装置が形成されている。   The second bonding layer 6b is formed by bonding the lid 1 (metal material) and the insulating base 3 (metal layer 4) to the solder layer 2 previously bonded to the lid 1 to the metal layer 4 so as to form the recess 3a. It is the main bonding material when hermetically sealing. That is, the lid body 1 and the insulating base 3 are bonded together via the second bonding layer 6b mainly composed of a bismuth phase and having a melting point as high as about bismuth (about 271 ° C.). A highly reliable electronic device is formed.

第2接合層6bは、その全部がビスマス相で形成されていてもよく、蓋体1の金属材料や金属層4の金属材料とビスマスとの合金相を含むものであってもよい。   The second bonding layer 6b may be entirely formed of a bismuth phase, or may include an alloy phase of the metal material of the lid 1 or the metal material of the metal layer 4 and bismuth.

このような接合層6を介して蓋体1と絶縁基体3とが接合された電子装置は、例えば、まず上記本発明の電子部品収納用パッケージを準備し、次に、絶縁基体3の凹部3a内に電子部品7を収容するとともに電子部品7を配線導体5とボンディングワイヤ8等で電気的に接続し、次に、蓋体1の下面の外周部に接合したはんだ層2を絶縁基体3の上面の金属層4に対向させて位置決めし、その後、これらを炉中で加熱する方法で製作することができる。   An electronic device in which the lid 1 and the insulating base 3 are bonded via the bonding layer 6 as described above, for example, first prepares the electronic component storage package of the present invention, and then the recess 3 a of the insulating base 3. The electronic component 7 is accommodated therein, and the electronic component 7 is electrically connected to the wiring conductor 5 by the bonding wire 8 or the like. Next, the solder layer 2 bonded to the outer peripheral portion of the lower surface of the lid 1 is attached to the insulating base 3. They can be manufactured by positioning them facing the metal layer 4 on the upper surface and then heating them in a furnace.

この場合、はんだ層2の構成が例えば上記のように、錫成分を約2〜5質量%、ビスマス−錫合金相を構成する錫として含む第2はんだ層2bを備えている場合であれば、炉中での加熱条件を約280〜300℃で約1〜2分程度に設定すればよい。この条件であれば、第2はんだ層2bの錫成分が金属層4の金属成分と良好に反応して合金相を形成することができ、接合後の第2接合層6bを上記のようなビスマス相を主成分とする組成とすることができる。   In this case, if the configuration of the solder layer 2 includes the second solder layer 2b containing about 2 to 5% by mass of the tin component and tin constituting the bismuth-tin alloy phase as described above, for example, What is necessary is just to set the heating conditions in a furnace at about 280-300 degreeC for about 1-2 minutes. Under this condition, the tin component of the second solder layer 2b can react well with the metal component of the metal layer 4 to form an alloy phase, and the second bonding layer 6b after the bonding can be formed into the bismuth as described above. It can be set as the composition which has a phase as a main component.

また、この場合、錫−ビスマス合金相や錫相が存在するので、比較的低い加熱温度から接合が開始されることによりはんだ層2の金属層4に対する濡れ性が高まり、融点の高い第3接合層6cを有する接合層6による蓋体1と絶縁基体3との間の接合ができる。その結果、接合前のはんだ層2(特に第2はんだ層2b)よりも、接合後の接合層6(特に第2接合層6b)が高融点になる。   Further, in this case, since a tin-bismuth alloy phase or a tin phase is present, the start of bonding from a relatively low heating temperature increases the wettability of the solder layer 2 to the metal layer 4, and the third bonding having a high melting point. The lid 1 and the insulating substrate 3 can be joined by the joining layer 6 having the layer 6c. As a result, the bonding layer 6 after bonding (particularly the second bonding layer 6b) has a higher melting point than the solder layer 2 before bonding (particularly the second solder layer 2b).

また、この電子装置は、上記構成において、蓋体1の金属材料の金属成分および絶縁基体3の金属層4の金属成分が、ニッケル,コバルト,鉄,金,銀,銅,白金およびパラジウムの少なくとも1種である場合には、上記本発明の電子部品収納用パッケージの場合と同様に、気密封止の信頼性をより確実に高くすることが可能であり、電子装置としての実用性も良好な電子装置を提供することができる。   In the electronic device, the metal component of the metal material of the lid 1 and the metal component of the metal layer 4 of the insulating base 3 are at least nickel, cobalt, iron, gold, silver, copper, platinum, and palladium. In the case of one type, as in the case of the electronic component storage package of the present invention, the reliability of hermetic sealing can be increased more reliably, and the practicality as an electronic device is also good. An electronic device can be provided.

また、これらの金属材料は、それ自体により蓋体1を作製したり、金属材料以外の材料で蓋体1を作製したときに蓋体1の下面の外周部に、例えばメタライズ層やめっき層等の形態で被着させたりすることが容易である。したがって、この場合には、気密封止の信頼性や実用性が高い電子装置を提供することができる。   In addition, these metal materials are produced on the outer peripheral portion of the lower surface of the lid 1 when the lid 1 is produced by itself or the lid 1 is made of a material other than the metal material, for example, a metallized layer or a plating layer. It is easy to deposit in the form of. Therefore, in this case, an electronic device with high reliability and practicality of hermetic sealing can be provided.

酸化アルミニウム質焼結体により上面に凹部を有する直方体状の絶縁基体を作製するとともに、鉄−ニッケル合金からなる蓋体を作製し、その表面の全面にニッケルめっき層を被着させた後、蓋体の下面の外周部にはんだ層を接合させて、実施例の電子部品収納用パッケージを作製した。   A rectangular parallelepiped insulating substrate having a concave portion on the upper surface is made of an aluminum oxide sintered body, a lid made of an iron-nickel alloy is made, and a nickel plating layer is deposited on the entire surface, and then the lid The solder layer was joined to the outer peripheral part of the lower surface of the body, and the electronic component storage package of an Example was produced.

はんだ層は、錫を6質量%含有するビスマス−錫はんだを、ペーストの塗布および加熱(290℃で1分の条件)によって蓋体に接合させた。   For the solder layer, bismuth-tin solder containing 6% by mass of tin was bonded to the lid by applying the paste and heating (conditions at 290 ° C. for 1 minute).

はんだ層の第1はんだ層は、錫−ニッケルの合金相が主成分であり、ニッケルを含んでいた。また、第2はんだ層は、WDS解析によれば、ビスマス相に微量の錫−ビスマス合金相を含むものであった。   The first solder layer of the solder layer was mainly composed of a tin-nickel alloy phase and contained nickel. Further, according to WDS analysis, the second solder layer contained a small amount of tin-bismuth alloy phase in the bismuth phase.

絶縁基体は、平面視したときの寸法が約3×5.5mmで高さが約1mmであり、凹部の深さが約0.7mmであって、上面の凹部の周囲に枠状に、タングステンのメタライズ層により厚さ約15μmの金属層を形成したものであった。蓋体は、平面視したときの寸法が絶縁基体と同程度で、厚さが約0.3mmであった。   The insulating substrate has a dimension of about 3 × 5.5 mm in plan view, a height of about 1 mm, a depth of the concave portion of about 0.7 mm, and a tungsten metallization in a frame shape around the concave portion on the upper surface. A metal layer having a thickness of about 15 μm was formed by the layer. The lid had a dimension similar to that of the insulating substrate in plan view and a thickness of about 0.3 mm.

この実施例の電子部品収納用パッケージについて、蓋体を絶縁基体にはんだ層を介して接合した後、気密封止の信頼性をヘリウムリーク試験によって確認した。接合の条件は290℃で1分とした。また、試験個数は100個とした。   Regarding the electronic component storage package of this example, the lid was joined to the insulating base via the solder layer, and then the reliability of the hermetic sealing was confirmed by a helium leak test. The joining conditions were 290 ° C. and 1 minute. The number of tests was 100.

なお、比較例として、鉛−錫はんだを蓋体に接合した従来技術の電子部品収納用パッケージを準備し、上記実施例と同様に気密封止の信頼性を確認した。   As a comparative example, a conventional electronic component storage package in which lead-tin solder was joined to a lid was prepared, and the reliability of hermetic sealing was confirmed in the same manner as in the above example.

その結果、試験した100個の実施例の電子部品収納用パッケージ(気密封止後の電子装置)電子部品収納用パッケージにおいて、リーク不良は発生せず、気密封止の信頼性が高いことが確認された。なお、比較例の電子部品収納用パッケージも、実施例の電子部品収納用パッケージと同様にリーク不良は発生しなかったが、接合層中に鉛を含有しているため、環境に対して悪影響を与えるものであった。   As a result, it was confirmed that no leakage failure occurred in the electronic component storage package of 100 tested examples (electronic device after hermetic sealing), and the reliability of hermetic sealing was high. It was done. In addition, the electronic component storage package of the comparative example did not cause a leak failure as in the case of the electronic component storage package of the example. However, since the bonding layer contains lead, it has an adverse effect on the environment. It was to give.

1・・・蓋体
2・・・はんだ層
2a・・第1はんだ層
2b・・第2はんだ層
3・・・絶縁基体
3a・・凹部
4・・・金属層
5・・・配線導体
6・・・はんだ接合層
6a・・第1接合層
6b・・第2接合層
6c・・第3接合層
7・・・電子部品
8・・・ボンディングワイヤ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Lid 2 ... Solder layer 2a ... 1st solder layer 2b ... 2nd solder layer 3 ... Insulation base 3a ... Recess 4 ... Metal layer 5 ... Wiring conductor 6 ... .. Solder joint layer 6a .. First joint layer 6b .. Second joint layer 6c .. Third joint layer 7... Electronic component 8.

Claims (3)

上面に電子部品を気密封止して収納するための凹部を有するとともに該凹部を取り囲む金属層が形成された絶縁基体に接合され、前記凹部を気密封止する蓋体であって、前記蓋体は、少なくとも下面の外周部がニッケル,コバルト,鉄,金,銀,白金およびパラジウムの少なくとも1種である金属材料からなるとともに前記外周部にはんだ層が被着されており、該はんだ層は、前記金属材料側から順に配置された、錫と前記金属材料の金属成分との合金相を主成分とする第1はんだ層と、ビスマス相を主成分として錫が2乃至5質量%の錫−ビスマス合金相を含む、前記第1はんだ層よりも融点が低い第2はんだ層とからなることを特徴とする蓋体。 A lid body that has a recess for hermetically sealing and storing an electronic component on the upper surface and is bonded to an insulating substrate formed with a metal layer surrounding the recess, and hermetically seals the recess, the lid body The outer peripheral portion of at least the lower surface is made of a metal material that is at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, platinum and palladium, and the outer peripheral portion is coated with a solder layer, A first solder layer mainly composed of an alloy phase of tin and a metal component of the metal material, disposed in order from the metal material side; and tin-bismuth containing 2 to 5% by mass of tin based on a bismuth phase. A lid comprising an alloy phase and a second solder layer having a melting point lower than that of the first solder layer. 上面に電子部品を気密封止して収納するための凹部を有するとともに該凹部を取り囲む金属層が形成された絶縁基体に接合され、前記凹部を気密封止する蓋体の製造方法であって、
少なくとも下面の外周部がニッケル,コバルト,鉄,金,銀,白金およびパラジウムの少なくとも1種である金属材料からなる板状の材料の前記金属材料部分に、6〜10質量%の錫を含むビスマス−錫はんだを溶融させ、前記金属材料と前記錫との合金相を主成分とする第1はんだ層、および、錫が2乃至5質量%の錫−ビスマス合金相を含み、前記第1はんだ層よりも融点が低い第2はんだ層を形成させる蓋体の製造方法。
A method of manufacturing a lid body having a recess for hermetically sealing and storing an electronic component on an upper surface and bonded to an insulating substrate formed with a metal layer surrounding the recess, and hermetically sealing the recess,
Bismuth containing 6 to 10% by mass of tin in the metal material portion of the plate-like material having at least one outer peripheral part of the lower surface made of a metal material of at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, platinum and palladium A first solder layer comprising a first solder layer containing, as a main component, an alloy phase of the metal material and the tin, and a tin-bismuth alloy phase containing 2 to 5% by mass of tin; The manufacturing method of the lid which forms the 2nd solder layer whose melting point is lower than this.
上面に電子部品を気密封止して収納するための凹部を有するとともに該凹部を取り囲む金属層が形成された絶縁基体と、前記凹部内に収納された電子部品と、少なくとも下面の外周部が金属材料からなる蓋体とを備え、前記絶縁基体の前記金属層と前記蓋体の前記金属材料とが接合層を介して接合されて前記凹部が気密封止されてなる電子装置の製造方法であって、
前記絶縁基体のニッケル,コバルト,鉄,金,銀,白金およびパラジウムの少なくとも1種である金属層と、請求項1記載の蓋体の前記第2はんだ層とを接触させ、前記第2はんだ層を溶融させて、前記金属材料側から順に配置された、錫と前記金属材料の金属成分との合金相を主成分とする前記第1はんだ層による第1接合層と、ビスマス相を主成分とする、前記第1接合層よりも融点が低く、前記第2はんだ層よりも融点が高い第2接合層と、錫と前記金属層の金属成分との合金相を主成分とする、前記第2接合層よりも融点が高い第3接合層とからなる前記接合層を形成させる電子装置の製造方法。
An insulating base having a recess for hermetically sealing and storing an electronic component on the upper surface and having a metal layer surrounding the recess, the electronic component stored in the recess, and at least the outer periphery of the lower surface is a metal A lid made of a material, wherein the metal layer of the insulating base and the metal material of the lid are bonded via a bonding layer, and the recess is hermetically sealed. And
The metal layer that is at least one of nickel, cobalt, iron, gold, silver, platinum, and palladium of the insulating base is brought into contact with the second solder layer of the lid body according to claim 1, and the second solder layer A first bonding layer composed of the first solder layer, the main component of which is an alloy phase of tin and the metal component of the metal material, and a bismuth phase as a main component. The second bonding layer having a melting point lower than that of the first bonding layer and higher than that of the second solder layer, and an alloy phase of tin and a metal component of the metal layer as a main component. A method for manufacturing an electronic device, comprising: forming a bonding layer including a third bonding layer having a melting point higher than that of the bonding layer.
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JP6575301B2 (en) * 2014-10-31 2019-09-18 三菱マテリアル株式会社 Sealing paste, brazing joint material and method for producing the same, sealing lid material and method for producing the same, and package sealing method
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Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5881945A (en) * 1997-04-30 1999-03-16 International Business Machines Corporation Multi-layer solder seal band for semiconductor substrates and process
JP4475976B2 (en) * 2004-02-23 2010-06-09 三菱電機株式会社 Airtight sealed package
JP2007012706A (en) * 2005-06-28 2007-01-18 Kyocera Corp Package for housing electronic component and electronic device
JP5310309B2 (en) * 2009-06-26 2013-10-09 千住金属工業株式会社 Solder coat lid

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