JP5533722B2 - タンデム型色素増感太陽電池及びその製造方法 - Google Patents
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Description
[2] 前記第1の半導体多孔質層、前記透明多孔質絶縁層、前記透明触媒層、前記透明導電性緻密層及び前記第2の半導体多孔質層が塗布により形成されてなる[1]に記載のタンデム型色素増感太陽電池。
なお、本明細書において「基板」とは、塗布等で形成される種々の層とは異なり、ある程度の厚みと剛性のあるフィルム状の部材をいう。
透明導電性緻密層7は第1の半導体多孔質層4と第2の半導体多孔質層7とを電解質を介して直接電気的に短絡しないようにするためのものである。また、色素の吸着を阻害する疎水処理が施されているので、多孔性半導体(例えば、酸化チタン)に吸着されるべき色素が透明導電性緻密層7に吸着することが抑制される。その結果、不要な箇所へ吸着した色素による光のロスがなくなるため、入射した太陽光の利用効率を向上させることができる。
透明導電性緻密層7の厚さは、0.03〜100μmであることが好ましく、0.10〜10μmであることがより好ましい。0.03μm以上であるとピンホール等を抑制することができる。100μm以下であると抵抗成分が低くなるため、電池特性の低下を抑えることができる。
なお、電解質15は第1及び第2のそれぞれの層で別の組成であってもよい。
まず、透明導電性基板3は、透明基板1と透明導電層2とからなる。透明基板1は、石英ガラスなどの透明ガラス基板、テトラアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンフタレート(PET)、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PA)、ポリエーテルイミド(PEI)、フェノキシ樹脂等からなる可撓性フィルムから構成することができる。
透明触媒層6及び触媒層11は、Pt、Au、Ru、Os、Ti、Ni、Cr、Cu、Ag、Pd、In、Zn、Mo、Al、Ir、CoおよびCからなる群より選ばれた少なくとも1種の元素(これらの単体、合金あるいは化合物)とすることができる。
透明導電層2の導電性は、10Ω/□以下であり、光の透過率が85%以上にすることが好ましい。
これらの層の厚さは、1〜30μmであることが好ましく、5〜15μmであることがより好ましい。
例えば、ローダミンB、ローズベンガル、エオシン、エリスロシン等のキサンテン系色素、キノシアニン、クリプトシアニン等のシアニン系色素、フェノサフラニン、カブリブルー、チオシン、メチレンブルー等の塩基性染料、クロロフィル、亜鉛ポルフィリン、マグネシウムポルフィリン等のポルフィリン系化合物、その他アゾ色素、フタロシアニン化合物、クマリン系化合物、メロシアニン系化合物、Ruビピリジン錯化合物、アントラキノン系色素、多環キノン系色素等が挙げられる。この中でも、Ruビピリジン錯化合物は量子収率が高く特に好ましいが、これに限定されるものではなく、単独もしくは2種類以上混合して用いることができる。
なお、色素の吸着方法としては、各層を形成した後で色素を含有する溶液に含浸すればよい。
透明性多孔質絶縁層5の厚さは、0.03〜100μmであることが好ましく、0.10〜10μmであることがより好ましい。0.03μm以上であるとピンホール等を抑制することができる。100μm以下であると多孔質中の電解液抵抗成分が低くなるため、電池特性の低下を抑えることができる。
また、封止材13は、熱硬化性樹脂、ガラス等から構成することができる。封止材13は、素子全体を覆うことが望ましい。
なお、スクリーン印刷を採用する場合は、スクリーン版のメッシュを変えることで各層の厚みを制御することができる。
モノテルペン系化合物としては、非環式テルペンとして、例えばシトロネロール、ロジノール、ゲラニオール、リナロール、ジヒドロリナロール、ミルセノールなどが挙げられ、2環式テルペンとして、例えばミルテノール、ピノカルベオール、ボルネオール、イソボルネオールなどが挙げられ、誘導体として、例えばイソボルニルシクロヘキサノールなどが挙げられる。
図1に示すタンデム型色素増感太陽電池を作製するため、主な層を形成するためのペーストを下記のようにして作製した。
酸化チタンのナノ粒子(粒径:5〜30nm)が25質量%、エチルセルロースが5質量%、ターピネオールが70質量%の割合となるように混合した第1及び第2の半導体多孔質層用ペーストを作製した。
なお、使用したナノ粒子は事前にビーズミル分散の工程を経て高分散状態にした後ペースト化している。ペーストを印刷し焼成した後に形成された膜が透光性を有していることも確認している。
まず、テトラメトキシシラン12.67質量部、エタノール50質量部に氷冷中で混合攪拌し、別に氷冷していた1規定硝酸4.16質量部と純水24.5質量部の混合液を氷冷中で10分間混ぜ合わせた後、60℃にて2.5時間攪拌し、シリカ重合体(分子量:1000〜4000)を作製した。この後、トリメチルメトキシシランを8.67質量部添加して10分間加熱攪拌し、シリカ重合体の表面のSiの水素をメチル基で置換した。過度に置換するとバインダーとしての機能が損なわれるために、その後、室温まで放冷し低温条件で12時間反応させ、トリメチルシリコン部分置換シリカ重合体を得た。
その後、ペースト中に残存すると塗布性劣化の原因につながる未反応トリメチルメトキシシランおよびその2両体等を除去するため、エバポレータを用いて精製した。
粒径20nm以下のインジウムドープ酸化錫にPtナノ粒子コロイド(粒径:1〜5nm)をITOに対して5質量%添加した透明触媒層用ペースト(インジウムドープ酸化錫:10質量% 分散媒:α−テルピオネール)を作製した。
既述のトリメチルシリコン部分置換シリカ重合体をSiO2換算で15質量%とし、SiO2粒子の替わりにITO(粒径10〜30nm)を用い、エチルセルロースの代わりにモノテルペン誘導体であるイソボルニルシクロヘキサノールを添加した以外は「透明多孔質絶縁層用ペースト」と同様にして透明導電性緻密層用ペーストを作製した。
粒径20nm以下のインジウムドープ酸化錫を含有する透明導電層用ペースト(インジウムドープ酸化錫:20質量% 分散媒:α−テルピオネール)を作製した。
導電性高分子(PEDOT−PSS)をカーボン重量に対して30wt%含有する市販カーボンペースト(フジクラ社製 ドータイト)を触媒層用ペースト及び導電層用ペーストとして用いた。
(g)絶縁緻密膜層用ペースト
エチルセルロースの代わりにモノテルペン誘導体であるイソボルニルシクロヘキサノールを添加した以外は「透明多孔質絶縁層用ペースト」と同様にして絶縁性緻密膜層用ペーストを作製した。
透明導電性ガラス基板(ガラス基板の厚さ:1mm、透明導電層:FTOで厚さ:100μm)に、第1の半導体多孔質層用ペーストをスクリーン印刷し、500℃で焼成して第1の半導体多孔質層4(厚さ:7μm)を形成した。その後、透明多孔質絶縁層用ペーストを第1の半導体多孔質層4上にスクリーン印刷し、120℃で乾燥して透明多孔質絶縁層5(厚さ:2μm)を形成した。その上に電解質の酸化還元触媒を含有する透明触媒層用ペーストをスクリーン印刷し、500℃で乾燥して透明触媒層6(厚さ:1μm)を形成した。絶縁性緻密層用ペーストを用いて隔壁を設けるようスクリーン印刷し、500℃で乾燥して絶縁性緻密層14(厚さ:10μm)を形成した。
また、実施例に係るタンデム型色素増感太陽電池は、使用する基板の枚数は1枚だけであるため、太陽電池のコストの低減化を実現することができる。さらに、各層の形成を印刷法により行なうことができるため、生産性が高く実用的であるといえる。
2・・・透明導電層
3・・・透明導電性基板
4・・・第1の半導体多孔質層/第1の増感色素
5・・・透明性多孔質絶縁層
6・・・透明触媒層
7・・・透明導電性緻密層
8・・・透明導電層
9・・・第2の半導体多孔質層/第2の増感色素
10・・・多孔質絶縁層
11・・・触媒層
12・・・導電層
13・・・封止材
14・・・絶縁性緻密層
15・・・電解質
Claims (3)
- 透明基板上に透明導電層が形成された透明導電性基板と、前記透明導電層上に、色素が吸着した多孔質半導体からなる第1の半導体多孔質層及び第2の半導体多孔質層とを有し、
第1の半導体多孔質層と第2の半導体多孔質層との間に、透明多孔質絶縁層、透明触媒層、及び透明導電性緻密層が前記第1の半導体多孔質層側からこの順で形成されてなり、少なくともこれらの層を囲繞するように封止材が設けられてなり、該封止材の内側に電解質が注入されてなるタンデム型色素増感太陽電池であって、
前記透明導電性緻密層がインジウムドープ酸化錫(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、及びアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)からなる群から選択される導電性酸化物からなり、かつ前記色素の吸着を阻害する疎水処理が施されてなるタンデム型色素増感太陽電池。 - 前記第1の半導体多孔質層、前記透明多孔質絶縁層、前記透明触媒層、前記透明導電性緻密層及び前記第2の半導体多孔質層が塗布により形成されてなる請求項1に記載のタンデム型色素増感太陽電池。
- 請求項1に記載のタンデム型色素増感太陽電池であって、
透明基板上に透明導電層が形成された透明導電性基板の前記透明導電層上に、多孔質半導体からなる第1の半導体多孔質層と、透明多孔質絶縁層と、透明触媒層と、透明導電性緻密層と、第2の半導体多孔質層とをこの順にそれぞれ印刷法にて形成するタンデム型色素増感太陽電池の製造方法。
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