JP5532564B2 - 画像形成装置及び画像形成制御方法 - Google Patents
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Description
ここで、Ioutは、記録紙サイズ、厚紙/薄紙等の記録紙種類及び温湿度センサ13に基づく画像形成装置1の3段階の設置環境状況であるLL(低温低湿)/MM(常温常湿)/HH(高温高湿)に基づいて決定される定電流制御の目標電流値である。この帰還目標値Vtfbの演算式は、高圧発生部20のハードウェアによって、図4に示す出力電流−帰還電圧特性から決定される。
ここで、GTは、PWM更新幅係数であり、任意の値に設定することで、制御PWM値の更新幅を大きくしたり、小さくしたりすることができる。すなわち、PWM更新幅係数を大きくすると、制御PWM値を大きくして、高圧発生部20の出力を大きくすることができ、制御PWM値の更新幅を小さくすると、制御PWM値を小さくして、高圧発生部20の出力を小さくすることができる。
11 CPU
12 不揮発性メモリ
13 温湿度センサ
14 パルス発生部
15 D/A変換器
16 A/D変換器
17 比較部
18 マスク部
20 高圧発生部
21 出力モニタ部
Tr1 トランジスタ
T1 高圧トランス
D1 ダイオード
C1、C2 コンデンサ
R1〜R4 抵抗
21 出力モニタ部
30 作像ユニット
31 感光体
32 帯電ローラ
33 現像ローラ
34 転写ローラ
35 搬送センサ
Claims (15)
- 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力手段と、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力手段に出力する駆動手段と、該高圧出力手段の生成する出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還手段と、予め設定された目標出力に応じたパルス幅の駆動パルスを該駆動手段に出力させるためのPWMデューティを該駆動手段に出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動手段の生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御手段と、該駆動手段の出力する駆動パルスをマスクするマスク手段と、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク手段による該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御手段と、該高圧出力手段の出力を利用して画像形成する画像形成手段と、所定の許容差分値を該マスク制御手段に設定する許容差分値設定手段と、を備え、
前記マスク制御手段は、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク手段に前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定手段は、前記所定の許容差分値として、前記マスク手段に前記駆動パルスのマスクを開始させるマスク開始許容差分値と、該マスクを解除させるマスク解除許容差分値と、をそれぞれ独自に設定することを特徴とする画像形成装置。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力手段と、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力手段に出力する駆動手段と、該高圧出力手段の生成する出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還手段と、予め設定された目標出力に応じたパルス幅の駆動パルスを該駆動手段に出力させるためのPWMデューティを該駆動手段に出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動手段の生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御手段と、該駆動手段の出力する駆動パルスをマスクするマスク手段と、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク手段による該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御手段と、該高圧出力手段の出力を利用して画像形成する画像形成手段と、所定の許容差分値を該マスク制御手段に設定する許容差分値設定手段と、前記高圧出力手段の出力に対する負荷インピーダンスの大きさを判定する負荷インピーダンス判定手段と、を備え、
前記マスク制御手段は、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク手段に前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定手段は、該負荷インピーダンス判定手段の判定結果に基づいて前記所定の許容差分値を設定することを特徴とする画像形成装置。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力手段と、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力手段に出力する駆動手段と、該高圧出力手段の生成する出力に比例した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還手段と、予め設定された目標出力に応じたパルス幅の駆動パルスを該駆動手段に出力させるためのPWMデューティを該駆動手段に出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動手段の生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御手段と、該駆動手段の出力する駆動パルスをマスクするマスク手段と、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク手段による該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御手段と、該高圧出力手段の出力を利用して画像形成する画像形成手段と、所定の許容差分値を該マスク制御手段に設定する許容差分値設定手段と、設置環境を検出する環境検出手段と、を備え
前記マスク制御手段は、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク手段に前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定手段は、該環境検出手段の検出結果に基づいて前記許容差分値を設定することを特徴とする画像形成装置。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力手段と、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力手段に出力する駆動手段と、該高圧出力手段の生成する出力に比例した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還手段と、予め設定された目標出力に応じたパルス幅の駆動パルスを該駆動手段に出力させるためのPWMデューティを該駆動手段に出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動手段の生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御手段と、該駆動手段の出力する駆動パルスをマスクするマスク手段と、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク手段による該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御手段と、該高圧出力手段の出力を利用して画像形成する画像形成手段と、所定の許容差分値を該マスク制御手段に設定する許容差分値設定手段と、を備え、
前記マスク制御手段は、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク手段に前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定手段は、前記目標出力の大きさに応じて前記所定の許容差分値を設定することを特徴とする画像形成装置。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力手段と、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力手段に出力する駆動手段と、該高圧出力手段の生成する出力に比例した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還手段と、予め設定された目標出力に応じたパルス幅の駆動パルスを該駆動手段に出力させるためのPWMデューティを該駆動手段に出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動手段の生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御手段と、該駆動手段の出力する駆動パルスをマスクするマスク手段と、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク手段による該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御手段と、該高圧出力手段の出力を利用して画像形成する画像形成手段と、前記高圧出力手段の出力に対する負荷インピーダンスの大きさを判定する負荷インピーダンス判定手段と、前記マスク手段による前記駆動パルスのマスク継続時間を測定するマスク時間計測手段と、該負荷インピーダンス判定手段によって該負荷インピーダンスが所定の低負荷インピーダンス以下であることが検出され、かつ、該マスク時間計測手段が該マスク継続時間として所定のマスク継続時間を計測すると、前記高圧出力手段による高圧出力を停止させる出力停止手段と、を備えていることを特徴とする画像形成装置。
- 前記駆動手段は、その機能上生成する前記駆動パルスの最小パルス幅を有し、前記マスク制御手段は、該駆動手段が該最小パルス幅の駆動パルスを生成しているときにのみ、前記マスク手段による該駆動パルスのマスクを行わせることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の画像形成装置。
- 前記マスク制御手段は、前記目標出力が所定の低目標出力以下であるときにのみ、前記マスク手段に前記駆動パルスをマスクさせることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の画像形成装置。
- 前記画像形成装置は、前記マスク手段による前記駆動パルスのマスク継続時間を測定するマスク時間計測手段と、前記目標出力が所定の大目標出力よりも大きく、かつ、該マスク時間計測手段が該マスク継続時間として所定のマスク継続時間を計測すると、前記高圧出力手段による出力を停止させる出力停止手段と、を備えていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の画像形成装置。
- 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力処理ステップと、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力処理ステップに出力する駆動処理ステップと、該高圧出力処理ステップで生成される出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還処理ステップと、該駆動処理ステップに出力させるためのPWMデューティを該駆動処理ステップに出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動処理ステップで生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御処理ステップと、該駆動処理ステップの出力する駆動パルスをマスクするマスク処理ステップと、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク処理ステップによる該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御処理ステップと、該高圧出力処理ステップの出力を利用して画像形成する画像形成処理ステップと、所定の許容差分値を該マスク制御処理ステップに設定する許容差分値設定処理ステップと、を有し、
前記マスク制御処理ステップは、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク処理ステップに前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定処理ステップは、前記所定の許容差分値として、前記マスク処理ステップに前記駆動パルスのマスクを開始させるマスク開始許容差分値と、該マスクを解除させるマスク解除許容差分値と、をそれぞれ独自に設定することを特徴とする画像形成制御方法。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力処理ステップと、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力処理ステップに出力する駆動処理ステップと、該高圧出力処理ステップで生成される出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還処理ステップと、該駆動処理ステップに出力させるためのPWMデューティを該駆動処理ステップに出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動処理ステップで生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御処理ステップと、該駆動処理ステップの出力する駆動パルスをマスクするマスク処理ステップと、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク処理ステップによる該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御処理ステップと、該高圧出力処理ステップの出力を利用して画像形成する画像形成処理ステップと、所定の許容差分値を該マスク制御処理ステップに設定する許容差分値設定処理ステップと、前記高圧出力処理ステップの出力に対する負荷インピーダンスの大きさを判定する負荷インピーダンス判定処理ステップと、を有し、
前記マスク制御処理ステップは、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク処理ステップに前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定処理ステップは、該負荷インピーダンス判定処理ステップでの判定結果に基づいて前記許容差分値を設定することを特徴とする画像形成制御方法。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力処理ステップと、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力処理ステップに出力する駆動処理ステップと、該高圧出力処理ステップで生成される出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還処理ステップと、該駆動処理ステップに出力させるためのPWMデューティを該駆動処理ステップに出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動処理ステップで生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御処理ステップと、該駆動処理ステップの出力する駆動パルスをマスクするマスク処理ステップと、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク処理ステップによる該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御処理ステップと、該高圧出力処理ステップの出力を利用して画像形成する画像形成処理ステップと、所定の許容差分値を該マスク制御処理ステップに設定する許容差分値設定処理ステップと、設置環境を検出する環境検出処理ステップと、を有し、
前記マスク制御処理ステップは、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク処理ステップに前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定処理ステップは、該環境検出処理ステップでの検出結果に基づいて前記許容差分値を設定することを特徴とする画像形成制御方法。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力処理ステップと、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力処理ステップに出力する駆動処理ステップと、該高圧出力処理ステップで生成される出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還処理ステップと、該駆動処理ステップに出力させるためのPWMデューティを該駆動処理ステップに出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動処理ステップで生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御処理ステップと、該駆動処理ステップの出力する駆動パルスをマスクするマスク処理ステップと、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク処理ステップによる該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御処理ステップと、該高圧出力処理ステップの出力を利用して画像形成する画像形成処理ステップと、所定の許容差分値を該マスク制御処理ステップに設定する許容差分値設定処理ステップと、を有し、
前記マスク制御処理ステップは、前記帰還信号の帰還値と前記帰還目標値との差分を算出して該差分が前記所定の許容差分値を超えていると、前記マスク処理ステップに前記駆動パルスのマスクを行わせ、
前記許容差分値設定処理ステップは、前記目標出力の大きさに応じて前記許容差分値を設定することを特徴とする画像形成制御方法。 - 入力される駆動パルスに応じた電圧または/及び電流の高圧出力を生成する高圧出力処理ステップと、入力されるPWMデューティに応じたパルス幅の駆動パルスを生成して該高圧出力処理ステップに出力する駆動処理ステップと、該高圧出力処理ステップで生成される出力に対応した帰還値の帰還信号を帰還させる出力帰還処理ステップと、該駆動処理ステップに出力させるためのPWMデューティを該駆動処理ステップに出力するとともに、該目標出力と該帰還信号の帰還値に基づいて該PWMデューティを制御して該駆動処理ステップで生成する駆動パルスのパルス幅を制御する駆動制御処理ステップと、該駆動処理ステップの出力する駆動パルスをマスクするマスク処理ステップと、所定の制御周期毎に該帰還信号の帰還値と所定の帰還目標値とを比較して該比較結果に応じて該マスク処理ステップによる該駆動パルスのマスクを制御するマスク制御処理ステップと、該高圧出力処理ステップの出力を利用して画像形成する画像形成処理ステップと、前記高圧出力処理ステップでの出力に対する負荷インピーダンスの大きさを判定する負荷インピーダンス判定処理ステップと、前記マスク処理ステップによる前記駆動パルスのマスク継続時間を測定するマスク時間計測処理ステップと、該負荷インピーダンス判定処理ステップで該負荷インピーダンスが所定の低負荷インピーダンス以下であることを検出し、かつ、該マスク時間計測処理ステップで該マスク継続時間として所定のマスク継続時間を計測すると、前記高圧出力処理ステップによる高圧出力を停止させる出力停止処理ステップと、を有していることを特徴とする画像形成制御方法。
- 前記マスク制御処理ステップは、前記目標出力が所定の低目標出力以下であるときにのみ、前記マスク処理ステップに前記駆動パルスをマスクさせることを特徴とする請求項9から請求項13のいずれかに記載の画像形成制御方法。
- 前記画像形成制御方法は、前記マスク処理ステップによる前記駆動パルスのマスク継続時間を測定するマスク時間計測処理ステップと、前記目標出力が所定の大目標出力よりも大きく、かつ、該マスク時間計測処理ステップが該マスク継続時間として所定のマスク継続時間を計測すると、前記高圧出力処理ステップによる出力を停止させる出力停止処理ステップと、を有していることを特徴とする請求項9から請求項13のいずれかに記載の画像形成制御方法。
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