JP5532488B2 - 塗布装置用スロットダイ、塗布装置、及び、塗布システム - Google Patents

Description

本発明は、長手方向に移動する帯状の基材に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部を備え、前記吐出部よりも基材移動方向に関して上手側で基材を支持する上手側支持手段と、前記吐出部よりも基材移動方向に関して下手側で基材を支持する下手側支持手段との間に配置され、前記吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイに関する。

上記塗布装置用スロットダイは、移動する基材に所望の膜厚で塗布液を塗布するものであり、例えば、基材としての帯状の金属シートに対して塗布液としての電極活物質溶液を所望の膜厚にて塗布する場合に用いられる。この塗布装置用スロットダイを用いて所望の膜厚の塗布液を塗布するためには、塗布装置用スロットダイが備える吐出部から吐出される塗布液が、基材と吐出部との間に位置する間隙において安定した液溜りを形成する必要がある。安定した液溜りを形成するためには、移動する基材の位置を安定させ、吐出部から安定して塗布液を吐出しなければならない。基材と吐出部との間に位置する間隙は、塗布しようとする塗布膜の膜厚が薄くなるほど狭くする必要があり、この間隙が狭くなるほど、基材の僅かな位置の変動も塗布状態に影響する。
そのため、従来では、移動する基材の位置を安定させた状態で吐出部から吐出される塗布液を塗布できるように、上手側支持手段と下手側支持手段との間に基材の一方の面を巻き掛けるバックアップロールを配置し、このバックアップロールに巻き掛けられた基材の他方の面を塗布面として塗布装置用スロットダイにより塗布液を塗布するようにしている。すなわち、移動する基材の位置がバックアップロールの外周面により規定されるため、移動する基材の位置を安定させた状態で吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布できる。

特開２０１１−９２８３２号公報

従来の塗布装置用スロットダイであると、基材に対して塗布液を塗布するためには、基材の塗布面の反対側の面をバックアップロールの外周面に巻き掛けなければならない。そのため、従来の塗布装置用スロットダイを用いて基材の両面に塗布膜を加工する場合は、まず、基材の一方側の面に塗布液を塗布した後、その塗布液を乾燥させ、その後、塗布加工済みの一方側の面をバックアップロールの外周面に巻き掛けて、基材の他方側の面に塗布液を塗布するといった手順で塗布膜を加工しなければならない。
このように、従来の塗布装置用スロットダイを用いると、基材をバックアップロールの外周面に巻き掛けなければならないために、基材の表面への塗布の後に塗布液を乾燥させた後しか裏面への塗布を行うことができず、基材の両面に塗布膜を加工する作業には長い時間を要していた。

本発明は上記実情に鑑みて為されたものであって、その目的は、バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる塗布装置用スロットダイを提供する点にある。
また、本発明の別の目的は、バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布できる塗布装置用スロットダイを備えた塗布装置及び塗布システムを提供する点にある。

この目的を達成するために、本発明に係る塗布装置用スロットダイの第１特徴構成は、
長手方向に移動する帯状の基材に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部を備え、前記吐出部よりも基材移動方向に関して上手側で基材を支持する上手側支持手段と、前記吐出部よりも基材移動方向に関して下手側で基材を支持する下手側支持手段との間に配置され、前記吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイにおいて、
基材幅方向に沿う横軸心周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、前記吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、前記外周面が前記塗布面に接触する状態で基材を支持する回転支持体が設けられ、前記吐出部が、基材幅方向に沿うスリット状の吐出口を備えて前記吐出口から塗布液を基材幅方向で均一に吐出するように構成され、前記回転支持体が、基材横幅方向に対応した長さの長尺状の単一のロール体にて構成され、前記回転支持体の軸心方向を調節自在な調節手段を備えて構成されている点にある。

本特徴構成によれば、回転支持体が塗布装置用スロットダイに設けられて、この回転支持体が、吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、基材の塗布面に接触する状態で基材を支持する。すなわち、基材を塗布面側から支持する。回転支持体は、基材幅方向に沿う横軸心周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成されているので、回転支持体は、基材の移動に伴って横軸心周りに回転する。そのため、回転支持体と基材との擦れを回避しながら、吐出部に近接する箇所において移動する基材を良好に支持することができる。
基材は、吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において回転支持体に支持されるため、基材における回転支持体の支持箇所から基材移動方向で吐出部に対応する箇所までの距離が短くなる。その結果、基材の移動に起因する基材の振動を防止して吐出部と基材との距離（間隙の大きさ）を安定させることができる。また、吐出部は回転支持体により支持される箇所に近接する箇所に塗布液を吐出することになるから、吐出部から吐出された塗布液が基材を押し移動させる圧力に抗して基材の位置を保持し易くなる。
したがって、吐出部に対応する箇所の基材の位置が安定することから基材と吐出部との間の塗布液の液溜りが安定して形成されるため、バックアップローラで塗布面の反対側の面を支持することなく基材の塗布面に対して所望の膜厚にて良好に塗布液を塗布することができる。
このように、本特徴構成によれば、バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる塗布装置用スロットダイを得るに至った。

また、本特徴構成によれば、回転支持体は、基材横幅方向に対応した長さの長尺状の単一のロール体にて構成されているので、基材の横幅全体を連続的に支持できる。しかも、調節手段により回転支持体の軸心方向を調節することで、回転支持体の軸心方向をスリット状の吐出口との位置関係で本来あるべき基材幅方向に適切に一致させることができる。ここで、スリット状の吐出口は、基材の横幅方向に沿うように配置されているので、回転支持体による支持箇所からスリット状の吐出口までの距離は基材幅方向に関して一様に揃うことになる。したがって、スリット状の吐出口から塗布液を基材幅方向で均一に吐出することで、基材と吐出部との間において基材幅方向に関して同じ条件の下で液溜りを形成させることができ、塗布状態を基材幅方向で一様にすることができる。
このように、本特徴構成によれば、基材幅方向に関する液溜りの形成状態を一様に揃えることができるので、基材に対して塗布液を幅方向に関して一様に塗布できる。

本発明に係る塗布装置用スロットダイの第２特徴構成は、前記回転支持体の軸心方向での中間箇所において前記回転支持体の前記外周面に当接して、前記回転支持体の横軸心と平行な横軸心周りに回転自在なガイドローラが設けられている点にある。

吐出部に対応する箇所での基材の位置を安定させるためには、回転支持体を極力吐出部に近接させることが好ましいが、そのためには、回転支持体の外径を小さくして、吐出部との干渉を回避することが好ましい。しかしながら、回転支持体の外径を小さくすると、回転支持体の軸強度が低下し、回転支持体にて基材を支持する反作用により回転支持体の軸心が湾曲する傾向が増大する。
その点、本特徴構成によれば、回転支持体はその軸心方向の中間箇所をガイドローラにて支持されるので、回転支持体の外径を細くしても、ガイドローラにより軸強度が補われることで、回転支持体の回転軸が湾曲する事態を防止できる。したがって、回転支持体により基材を基材幅方向で一様に支持できる状態を維持しつつ、回転支持体の外径を細くして回転支持体を極力吐出部に近接させることができる。

本発明に係る塗布装置用スロットダイの第３特徴構成は、
長手方向に移動する帯状の基材に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部を備え、前記吐出部よりも基材移動方向に関して上手側で基材を支持する上手側支持手段と、前記吐出部よりも基材移動方向に関して下手側で基材を支持する下手側支持手段との間に配置され、前記吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイにおいて、
基材幅方向に沿う横軸心周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、前記吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、前記外周面が前記塗布面に接触する状態で基材を支持する回転支持体が設けられ、前記吐出部が、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出するように構成されている点にある。
本特徴構成によれば、回転支持体が塗布装置用スロットダイに設けられて、この回転支持体が、吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、基材の塗布面に接触する状態で基材を支持する。すなわち、基材を塗布面側から支持する。回転支持体は、基材幅方向に沿う横軸心周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成されているので、回転支持体は、基材の移動に伴って横軸心周りに回転する。そのため、回転支持体と基材との擦れを回避しながら、吐出部に近接する箇所において移動する基材を良好に支持することができる。
基材は、吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において回転支持体に支持されるため、基材における回転支持体の支持箇所から基材移動方向で吐出部に対応する箇所までの距離が短くなる。その結果、基材の移動に起因する基材の振動を防止して吐出部と基材との距離（間隙の大きさ）を安定させることができる。また、吐出部は回転支持体により支持される箇所に近接する箇所に塗布液を吐出することになるから、吐出部から吐出された塗布液が基材を押し移動させる圧力に抗して基材の位置を保持し易くなる。
したがって、吐出部に対応する箇所の基材の位置が安定することから基材と吐出部との間の塗布液の液溜りが安定して形成されるため、バックアップローラで塗布面の反対側の面を支持することなく基材の塗布面に対して所望の膜厚にて良好に塗布液を塗布することができる。
このように、本特徴構成によれば、バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる塗布装置用スロットダイを得るに至った。
また、本特徴構成によれば、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出することで、基材と吐出部との間隙のうち、スリット状の吐出口より基材移動方向で上手側に位置する部分に向けて塗布液が吐出され、当該部分で基材と吐出部との間に液溜りが形成される。これにより、移動する基材により塗布液の液溜りが基材移動方向で下手側に引き付けられた状態となっても、吐出口が露出し難くなるので、塗布膜に気泡が混入する塗布不良や、塗布膜が部分的にかすれる又は途切れる等の塗布不良の発生を防止できる。
本発明に係る塗布装置用スロットダイの第４特徴構成は、前記回転支持体は、前記基材における前記回転支持体の支持箇所から基材移動方向で前記吐出部に対応する箇所までの距離が、前記回転支持体の直径よりも短くなる位置に設けられている点にある。
本発明に係る塗布装置用スロットダイの第５特徴構成は、前記吐出部を備えるスロットダイ本体における前記吐出部よりも基材移動方向で上手側に位置する部分に、基材幅方向に沿う凹入部が形成され、前記回転支持体が、横軸心方向視で、その一部分が前記凹入部に凹入した状態で配置されている点にある。

本特徴構成によれば、回転支持体を、その一部分が凹入部に凹入した状態で配置することで、回転支持体とスロットダイ本体とを干渉させることなく、スロットダイ本体における吐出部に基材移動方向で上手側に極力近付けた状態で回転支持体を配置することができる。

本発明に係る塗布装置用スロットダイの第６特徴構成は、前記回転支持体が、前記吐出部を備えるスロットダイ本体に一体的に取り付けられている点にある。

本特徴構成によれば、回転支持体とスロットダイ本体とは一体として取り扱うことができるので、例えば、既存の塗布装置におけるスロットダイを本発明に係る塗布装置用スロットダイに交換する作業が行い易く、また、例えば、回転支持体とスロットダイ本体と配置関係を予め調整しておけば、回転支持体とスロットダイ本体とを一体的に位置調整等を行うことができる等、使い勝手がよいものとなる。

本発明に係る塗布装置用スロットダイの第７特徴構成は、前記吐出部が、基材の移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出するように構成されている点にある。

本特徴構成によれば、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出することで、基材と吐出部との間隙のうち、スリット状の吐出口より基材移動方向で上手側に位置する部分に向けて塗布液が吐出され、当該部分で基材と吐出部との間に液溜りが形成される。これにより、移動する基材により塗布液の液溜りが基材移動方向で下手側に引き付けられた状態となっても、吐出口が露出し難くなるので、塗布膜に気泡が混入する塗布不良や、塗布膜が部分的にかすれる又は途切れる等の塗布不良の発生を防止できる。

本発明に係る塗布装置の第１特徴構成は、本発明に係る塗布装置用スロットダイの第１〜第７特徴構成を備えた塗布面用塗布手段と、基材移動方向で当該塗布装置用スロットダイよりも上手側又は下手側の箇所で、基材の前記塗布面の反対側の面に塗布液を塗布する反対面用塗布手段を備えた点にある。

本特徴構成によれば、塗布装置は、本発明に係る塗布装置用スロットダイの第１〜第７特徴構成を備えた塗布面用塗布手段を備えているので、バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる。したがって、塗布面用塗布手段にて塗布面に塗布液を塗布し、その塗布面用塗布手段における塗布装置用スロットダイよりも基材移動方向で上手側又は下手側の箇所において、反対面用塗布手段にて塗布面の反対側の面に塗布液を塗布できる。
このように、本特徴構成によると、基材の一方の面へ塗布液を塗布した後に、その塗布液を乾燥させずに、そのまま他方の面へ塗布液を塗布することができる塗布装置を得るに至った。

本発明に係る塗布装置の第２特徴構成は、前記上手側支持手段が、基材横幅方向に沿う横軸心周りに回転自在な支持用ロール体にて構成され、前記下手側支持手段が、基材の前記塗布面とその反対側の面の夫々に対して気体を噴出して基材を非接触で支持する送風式支持手段にて構成されている点にある。

本特徴構成によれば、支持用ロール体にて構成された上手側支持手段にて基材を支持することで、吐出部の上手側で基材を確実に支持できる。
基材の塗布面とその反対側の面の夫々に対して気体を噴出して基材を非接触で支持する送風式支持手段にて構成された下手側支持手段にて基材を支持することで、吐出部の下手側で基材の塗布面に塗布された不塗布液が乾燥していなくても基材を支持できる。
したがって、両面塗布が可能な塗布装置にて基材の両面に塗布液を塗布した場合に、塗布液が乾燥していない状態で基材を適切に支持することができる。

本発明に係る塗布システムの特徴構成は、本発明に係る塗布装置用スロットダイの第１〜第７特徴構成又は本発明に係る塗布装置の第１又は第２特徴構成を備え、基材を繰り出す繰出手段、基材に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥手段、及び、塗布液が乾燥した状態の基材を巻き取る巻取手段が設けられている点にある。

本特徴構成によれば、繰出手段から繰り出された基材を、塗布面に塗布液を塗布するためにバックアップロールに巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布して、塗布された塗布液を乾燥手段にて乾燥させた後、その基材を巻取手段にて巻き取ることができる塗布システムを得ることができる。
また、塗布装置として本発明に係る塗布装置の第１又は第２特徴構成を備えたものを用いた場合は、基材の一方の面又は他方の面のいずれかを塗布面として、一方の面及び他方の面に塗布液を順次塗布した後、乾燥手段にて基材の両面をまとめて乾燥させることができる。したがって、各面毎に塗布液の塗布及び乾燥を行うシステムに比べ、基材の両面に塗布膜を加工する作業時間を短縮できる。

塗布システムの全体側面図 平板状温風送風ユニットの（ａ）斜視図及び（ｂ）側面図 塗布装置の全体側面図 裏面塗布手段の拡大側面図 第２スロットダイを取り外した状態の裏面塗布手段の拡大正面図 第２スロットダイの斜視図 第２スロットダイの分解斜視図 第２スロットダイにおけるロールユニットの分解斜視図 第２スロットダイの先端部の拡大縦断側面図

本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図１は、本実施形態に係る塗布システムＳの全体側面図である。塗布システムＳは、金属製で帯状のシート１（基材の一例）の両面に、塗布材を溶媒に溶かした流動性のある塗布液を膜状に塗布し、乾燥させる。塗布液は、シート１に対して、シート移動方向で一定間隔の隙間を空けた縞状になるように間欠的に塗布される。本実施形態では、シート１は、リチウムイオン電池などの二次電池の電極板となるアルミニウム箔や銅箔であり、塗布材は、コバルト酸リチウムなどの電極活物質やセラミックなどの多孔質絶縁膜である。

図１に示すように、塗布システムＳは、シート繰出装置Ａ、塗布装置Ｂ、初期乾燥装置Ｃ、本乾燥装置Ｄ、及び、シート巻取装置Ｅがシート移動方向で上手側から順に並ぶ状態で直線状に配置されている。

シート繰出装置Ａは、塗布対象のシート１が巻き付けられた横軸心のシートロール２と複数のガイドロールを備えて構成されている。シートロール２の一端部には、シートロール２の回転駆動を制動する繰出ブレーキ装置３を備えている。繰出ブレーキ装置３は、塗布装置Ｂにより移動駆動されるシート１が設定テンションにて塗布装置Ｂに繰り出されるように、図外の制御手段により制動トルクがサーボ制御される。これにより、シート繰出装置Ａは、シート１を繰り出す繰出手段として機能する。

塗布装置Ｂは、設定移動速度にてシート１を移動させながら、シート１の表裏両面に塗布液を塗布する。塗布装置Ｂは、シート１の表裏両面のうち一方側塗布面（以下表面という。）に塗布液を塗布する表面塗布手段Ｂ１と、シート１の表裏両面のうち他方側塗布面（以下裏面という。）に塗布液を塗布する裏面塗布手段Ｂ２とを、シート移動方向で、表面塗布手段Ｂ１が裏面塗布手段Ｂ２よりも上手側において塗布作用する状態で配置されている。表面塗布手段Ｂ１は、バックアップロール４と第１スロットダイＳＤ１とがシート１を挟んで対向配置されて構成された従来周知の塗布手段であり、本発明の反対面用塗布手段として機能する。裏面塗布手段Ｂ２は、詳しくは後述するが、本発明の塗布装置用スロットダイとしての第２スロットダイＳＤ２を備えており、本発明の塗布面用塗布手段として機能する。つまり、塗布装置Ｂは、シート１の塗布面に塗布液を塗布する第２スロットダイＳＤ２を備えた裏面塗布手段Ｂ２と、シート移動方向で第２スロットダイＳＤ２よりも上手側の箇所で、シート１の塗布面の反対側の面に塗布液を塗布する反対面用塗布手段としての表面塗布手段Ｂ１とを備えており、シート１の両面に一挙に塗布液を塗布できる塗布装置となっている。

初期乾燥装置Ｃは、シート１を通過させる間隙を形成する状態で上下に間隔を隔てて配置された一対の平板状送風ユニット５を備えて構成されている。上下一対の平板状送風ユニット５は、図２（ａ）に示すように、上側送風ユニット５Ｕ及び下側送風ユニット５Ｄからなり、それぞれが、多数の噴出孔６を互いに対向する面に備えている。そして、図２（ｂ）に示すように、上側送風ユニット５Ｕの多数の噴出孔６からシート１の表面に向けて常温又は高温のエアーが噴出され、下側送風ユニット５Ｄの多数の噴出孔６からシート１の裏面に向けて常温又は高温のエアーが噴出されることで、上側送風ユニット５Ｕ及び下側送風ユニット５Ｄの間を移動するシート１を非接触で支持した状態で、シート１両面の塗布液を乾燥させる。なお、初期乾燥装置Ｃにおけるシート１の支持高さは、上側送風ユニット５Ｕ及び下側送風ユニット５Ｄのそれぞれの送風量を変更することで調節自在となっている。
このように、初期乾燥装置Ｃは、シート１の塗布面としての裏面とその反対側の面としての表面の夫々に対して気体を噴出してシート１を非接触で支持しており、送風式支持手段として機能する。

本乾燥装置Ｄは、複数の非接触乾燥機７をシート移動方向沿って直線状に連続して並べて構成されている。各非接触乾燥機は、シート１の幅寸法よりも長い長尺状のノズル８を、その長手方向をシート１の横幅方向に沿う姿勢で、シート移動方向に間隔を隔ててかつ移動するシート１を挟んで上下に交互に配置して構成されている。

シート１の表面側（図１において本乾燥装置Ｄが設置された部分ではシート１の上側）に配置される複数のノズル８は噴出される温風流路の上流側で互いに連通しており、共通の供給部から高温のエアーが供給され、各ノズル８からシート１の表面に向けて高温のエアーが噴出される。シート１の裏面側（図１において本乾燥装置Ｄが設置された部分ではシート１の下側）に配置される複数のノズル８も同様に、各ノズル８からシート１の裏面に向けて高温のエアーが噴出される。つまり、非接触乾燥機７では、移動するシート１の両面に対して高温エアーを噴出させることで、シート１を非接触で支持しながらシート１の両面の塗布液を乾燥させる。このようにして、本乾燥装置Ｄは、複数の非接触乾燥機７によりシート１の両面の塗布液を乾燥させることができるようになっている。

このように、初期乾燥装置Ｃ及び本乾燥装置Ｄは、シート１に塗布された塗布液を乾燥させるので、乾燥手段として機能する。

シート巻取装置Ｅは、横軸心のアウトフィード駆動ロール９と、アウトフィード駆動ロール９の外周面とシート１との間のすべりを防止するべくアウトフィード駆動ロール９にシート１を押し当てる横軸心のアウトフィードピンチロール１０と、複数の横軸心のガイドロールと、塗布材が塗布されたシート１が巻き付けられる横軸心の巻付ロール１１とを備えて構成されている。

アウトフィード駆動ロール９は図外のアウトフィードモータにより回転駆動される。アウトフィードモータは、図外の制御手段が実行する回転速度制御及び回転トルク制御により、その回転速度及び回転トルクが制御される。回転速度制御は、アウトフィード用設定速度を目標値とするサーボ制御であり、回転トルク制御は、アウトフィード用設定トルクを目標値とするサーボ制御である。アウトフィード用設定速度は、塗布装置Ｂにおけるバックアップロール４を回転駆動するシート移動用モータの回転速度よりも設定比率だけ高速側で追従する形態で、シート移動用モータの回転速度に基づいて変更設定される。アウトフィード用設定トルクは、シート１の所望のテンションとアウトフィード駆動ロール９の回転半径等に基づいて設定される固定値である。

これにより、塗布装置Ｂの表面塗布手段Ｂ１により塗布液が塗布される箇所からシート移動方向で下手側の部分におけるシート１のテンション及び移動速度がそれぞれ所望の大きさに維持されるようになっている。

巻付ロール１１は、巻付モータにより回転駆動されるが、この巻付モータの回転速度は、速度制御及びトルク制御されているアウトフィードモータにより回転駆動されるアウトフィード駆動ロール９が送り出すシート１の移動速度と、巻付ロール１１に巻き付けられているシート１の外周部分の回転速度とが同期するように、アウトフィードモータの回転速度及び巻付ロールに巻き付けられているシート１の回転半径方向の厚み寸法に基づいて、サーボ制御される。

このように、シート巻取装置Ｅは、塗布液が乾燥した状態のシート１を巻き取る巻取手段として機能している。

塗布装置Ｂは、図３に示すように、シート幅方向の両外側に位置する一対の本体フレーム１２の間に、表面塗布手段Ｂ１及び裏面塗布手段Ｂ２並びにバックアップロール４及び複数のガイドロール１３を備えて構成されている。なお、図３は、塗布装置Ｂのシート幅方向の中間位置での縦断側面図であるため、一対の本体フレーム１２の一方だけが図示されている。

バックアップロール４に対してシート１を押し付けるためのニップロール１４が設けられている。ニップロール１４の両端部は、本体フレーム１２の外側の側面に横軸心周りに揺動自在に取り付けられた一対の屈曲支持アーム１５の一端部に回転自在に軸支されている。一対の屈曲支持アーム１５のそれぞれの基端部には、揺動操作用のエアシリンダ１６のロッドの先端部が連結されており、エアシリンダ１６を出退作動させることで、ニップロール１４をバックアップロール４に対して当接する当接位置とバックアップロール４から離間する離間位置とに位置切換自在となっている。

シート１をバックアップロール４に巻き掛ける作業を行うときは、ニップロール１４を離間位置して、ニップロール１４とバックアップロール４との隙間にシート１を通すことになる。また、塗布システムＳの運転時は、ニップロール１４を当接位置にして、バックアップロール４に巻き掛けられているシート１をニップロール１４にて押し付けた状態で、バックアップロール４を図外のシート移動用モータにより回転駆動することで、バックアップロール４とシート１とのすべりを防止できる。バックアップロール４は、シート移動用モータにより一定速度で回転駆動されるため、シート１も一定速度で移動する。

表面塗布手段Ｂ１が備える第１スロットダイＳＤ１は、位置調節用のエアシリンダ１７及び回転操作ノブ１８を備えた位置調節機構ＡＤＪにより図３の矢印ａに示す方向に沿って移動自在に取り付けられている。これにより、バックアップロール４に対する第１スロットダイＳＤ１の相対距離を調節して、バックアップロール４に巻き掛けられたシート１と第１スロットダイＳＤ１の先端部との間隔を所望の値に調節できるようになっている。シート１と第１スロットダイＳＤ１の先端部との間隔は、シート１の表面に塗布する塗布膜の膜厚、塗布液の粘性、シート１の移動速度、吐出される塗布液の塗布圧等に応じて適切な値が決定される。

第１スロットダイＳＤ１の位置調節機構ＡＤＪは、裏面塗布手段Ｂ２が備える第２スロットダイＳＤ２を矢印ｂに示す方向に沿って移動可能とする位置調節機構ＡＤＪと同じ構成である。第１スロットダイＳＤ１は、シート１に対する吐出角度が固定状態で取り付けられているのに対して、第２スロットダイＳＤ２は、シート１に対する吐出角度が調節可能な状態で取り付けられている点で異なるが、両者の支持構造は基本的には同じであるため、第２スロットダイＳＤ２の支持構造を代表して後に説明する。

バックアップロール４のシート移動方向で下手側に配置されたガイドロール１３ａは、運転用位置（図３で実線で示す位置）とこれより上方に位置するメンテ用位置（図３で仮想線で示す位置）とに位置切換自在に設けられている、このガイドロール１３ａをメンテ用位置に位置させることで、第２スロットダイＳＤ２とシート１とを離間させておくことができるので、第２スロットダイＳＤ２を位置調節機構ＡＤＪにより矢印ｂに沿って後退させた場合に、第２スロットダイＳＤ２とシート１との間隔が大きくなり、第２スロットダイＳＤ２についてのメンテナンス作業を行い易い。

図４にも示すように、第２スロットダイＳＤ２は、長手方向に移動するシート１に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部４０を備えている。シート１と吐出部４０との間に形成される間隙の大きさ（シート１と吐出部４０との間隔）は塗工しようとする塗布膜の膜厚に応じて好ましい大きさに設定される。第２スロットダイＳＤ２は、吐出部４０よりもシート移動方向に関して上手側でシート１を支持する上手側支持手段としてのガイドロール１３ａと、吐出部４０よりもシート移動方向に関して下手側で基材を支持する下手側支持手段としての初期乾燥装置Ｃとの間に配置されて、吐出部４０から吐出される塗布液をシート１の裏面に塗布する。そして、上手側支持手段が、シート横幅方向に沿う横軸心周りに回転自在な支持用ロール体としてのガイドロール１３ａにて構成され、下手側支持手段が、送風式支持手段としての初期乾燥装置Ｃにて構成されている。

図３〜図５に示すように、表面塗布手段Ｂ２が備える第２スロットダイＳＤ２は、矢印ｂに沿ってシート１に対して接近離間移動自在な取付プレート１９にボルト固定されている。取付プレート１９の両端部には、シート幅方向で間隔を隔てて配置された一対の位置調節機構ＡＤＪが連結されている。図５は、第２スロットダイＳＤ２を取り外した状態で取付プレート１９の取付面に垂直な方向から見た場合の取付プレート１９及び一対の位置調節機構ＡＤＪを示した図である。

位置調節機構ＡＤＪの夫々は、取付プレート１９が連結される一対のスライドブロック２０と、これらを第２スロットダイＳＤ２の接近離間方向に案内するガイドレール２１と、ガイドレール２１が固設された台座２２と、取付プレート１９の出退移動方向で後退側の端部に立設された被操作部２３と、この被操作部２３にピストンロッド１７Ｌの先端部が連結された前述の出退操作用エアシリンダ１７と、第２スロットダイＳＤ２の出退移動方向に対して傾斜した案内面２４Ｓが形成された断面台形状の楔部材２４と、前述の回転操作ノブ１８を上端部に備えたダイ位置微調整用ネジ２５と、このダイ位置微調整用ネジ２５の正逆回転に伴ってその軸心方向に沿って螺進する連係ブロック２６と、連係ブロック２６に連結されて連係ブロック２６と一体的にダイ位置微調整用ネジ２５の軸心方向に沿って移動自在なガイドブロック２７と、台座２２から立設された取付部２８に取り付けられてガイドブロック２７の移動を案内するガイドレール２９と、連係ブロック２６のダイ位置微調整用ネジ２５に関して反対側に取り付けられて多数のローラが配置された当接面が楔部材２４の案内面２４Ｓに当接する状態で配置されたローラ付きブロック３０とを備えて構成されている。

この構成であれば、位置調節用エアシリンダ１７の伸張縮退動作や回転操作ノブ１８の回転操作により、被操作部２３が矢印ｂに沿う方向に移動操作され、これにより、第２スロットダイＳＤ２の矢印ｂに沿う方向における位置が調整される。

具体的には、位置調節機構ＡＤＪの位置調節用エアシリンダ１７を設定伸張状態とすることで、ピストンロッド１７Ｌの突出動作により被操作部２３が押し操作されて、第２スロットダイＳＤ２の矢印ｂに沿う方向での大まかな位置決めが行われる。そして、この状態で回転操作ノブ１８を正逆に回転操作して連係ブロック２６を螺進させることで、ローラ付きブロック３０がダイ位置微調整用ネジ２５の軸心方向に沿って移動操作され、このローラ付きブロック３０の移動に伴って、楔部材２５の案内面２４Ｓを介して被操作部２３が矢印ｂに沿う方向に押し引き操作される。回転操作ノブ１８を一回転操作したときに被操作部２３が矢印ｂに沿って移動する量は、ダイ位置微調整用ネジ２５のネジピッチと楔部材２５の案内面２４Ｓの傾きにより決定する微小な量となっているため、回転操作ノブ１８を回転操作することで、第２スロットダイＳＤ２の矢印ｂに沿う方向における位置の微調整が可能である。

台座２２は、図４で一部切り欠いて示すように、台座取付用ブロック３１の上面に複数箇所でボルト連結されている。台座取付用ブロック３１には、台座２２が取り付けられた側とは反対側に、揺動姿勢調整用フランジ３１Ｆが形成されている。台座取付用ブロック３１は、揺動姿勢調整用フランジ３１Ｆが備えるボスにより、本体フレーム１２に横軸心Ｙ１周りで揺動自在に取り付けられている。揺動姿勢調整用フランジ３１Ｆには、揺動半径方向で異なる位置に形成された一対の円弧状の案内用長孔３３ａ・３３ｂが設けられており、本体フレーム１２には、これらの案内用長孔３３ａ・３３ｂに係合するガイドピン３４ａ・３４ｂ、及び、揺動姿勢調整用フランジ３１Ｆに先端部が当接する揺動位置設定用ボルト３５が螺合する支持ブロック３６が設けられている。

これにより、台座取付用ブロック３１を横軸心Ｙ１周りに揺動させて、第２スロットダイＳＤ２のシート１に対する姿勢を所望の姿勢に調整して、揺動位置設定用ボルト３５の先端部を揺動姿勢調整用フランジ３１Ｆに当接させることで第２スロットダイＳＤ２の姿勢を保持することができるようになっている。なお、一対の位置調節機構ＡＤＪは、それぞれの台座取付用ブロック３１に取り付けられたブラケット３１Ｂに両端が接続された断面コの字状の連結プレート３２により互いに連結されている。

ちなみに、前述の通り、第１スロットダイＳＤ１は位置調節機構ＡＤＪにより図２で矢印ａに示す方向に位置調節自在であるが、第１スロットダイＳＤ１を移動自在に支持する台座取付用ブロック３１は、本体フレーム１２に固定状態で支持されているため、第１スロットダイＳＤ１のシート１に対する姿勢は調節できず、接近離間方向の位置のみ調節できる。

図５に示すように、取付プレート１９のダイ取付領域１９Ｔには、ダイ取付用孔１９Ｂが複数形成されており、図４に示すように、ダイ取付ボルト３７を、ダイ取付用孔１９Ｂを貫通させる状態で第２スロットダイＳＤ２の側面部に形成されたボルト孔３８（図６参照）に締め込むことで、第２スロットダイＳＤ２を取付プレート１９に固定する。

第２スロットダイＳＤ２には、その内部に塗布液を供給するための供給管３９が接続されている。供給管３９は図外の塗布液供給ポンプに接続されている。第２スロットダイＳＤ２の吐出部４０から吐出される塗布液の吐出圧が所望の圧力となるように、塗布液供給ポンプの作動速度がサーボ制御されている。なお、以下の説明では、矢印ｂに沿う方向で第２スロットダイＳＤ２の供給管３９が接続された側を後端側、反対側を先端側という。

図４、図６及び図７に示すように、第２スロットダイＳＤ２は、塗布液を吐出する吐出部４０を備えるスロットダイ本体４１と、吐出部４０よりもシート移動方向で上手側に配置されるロールユニット４２とから構成されており、ロールユニット４２はスロットダイ本体４１に一体的に取り付けられている。後述するようにロールユニット４２は、回転支持体としての吐出部ロール５０を備えている。したがって、第２スロットダイＳＤ２は、回転支持体としての吐出部ロール５０が、吐出部４０を備えるスロットダイ本体４１に一体的に取り付けられている。

スロットダイ本体４１は、シート移動方向で上手側に位置する上手側ピース４１ａと、シート移動方向で下手側に位置する下手側ピース４１ｂとを複数の接合ボルト４３（図７参照）にて気密状態で接合した２ピース構造となっている。

図７に示すように、上手側ピース４１ａは、接合面４４ａからピース内部側に凹入形成したチャンバー空間４５を備えている。チャンバー空間４５には、塗布液をチャンバー空間４５まで供給する塗布液供給路４６が連通しており、供給管３９から供給された塗布液が第２スロットダイＳＤ２の内部のチャンバー空間４５に充填されるようになっている。

また、上手側ピース４１ａの接合面４４ａのうち、チャンバー空間４５から吐出部４０に至りかつシート幅方向の長さが塗工幅に相当する長さの領域には、接合面４４ａよりも僅かに凹入形成された流路形成用凹入部４７が形成されている。流路形成用凹入部４７は、上手側ピース４１ａと下手側ピース４１ｂとの接合状態において、第２スロットダイＳＤ２の内部にチャンバー空間４５と吐出部４０とを連通する流路４８（図４及び図９参照）を形成し、吐出部４０にシート幅方向に沿うスリット状の吐出口４０Ｓを形成する。下手側ピース４１ｂの接合面４４ｂは、凹入部等は形成されておらず、完全な平面状に形成されている。

図７等では流路形成用凹入部４７の形状が理解できるように流路形成用凹入部４７の凹入量を誇張して記載しているが、接合面４４ａからの実際の凹入量は例えば、０．２ｍｍ〜１．０ｍｍ程度である。供給管３９から供給された塗布液は、チャンバー空間４５に充填されることで、塗布液はシート幅方向で均圧化される。チャンバー空間４５に充填された塗布液は、流路４８に案内されてシート１に向けて上斜め方向に流動し、吐出口４０Ｓから押し出されることになる。これにより、第２スロットダイＳＤ２は、吐出口４０Ｓから塗布液をシート幅方向で均一に吐出するようになっている。

ロールユニット４２は、シート横幅方向に対応した長さの長尺状の単一のロール体にて構成された回転支持体としての吐出部ロール５０と、吐出部ロール５０の軸心Ｙ２方向（シート幅方向）での中央部及び両端部において吐出部ロール５０の外周面に当接して、吐出部ロール５０の横軸心Ｙ２と平行な横軸心周りに回転自在な複数対のガイドローラ５１とが一体的に組み付けられている。一対のガイドローラ５１にて吐出部ロール５０の軸心方向の中間箇所としての中央部を接触支持することで、吐出部ロール５０の湾曲を防止している。

吐出部ロール５０は、シート幅方向に沿う横軸心Ｙ２周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、吐出部４０にシート移動方向で上手側に近接する箇所において、外周面がシート１の裏面に接触する状態で基材を支持している。

図６〜図８に示すように、吐出部ロール５０は、一対のロール体支持ブラケット５２・５２に回転自在に両端部を支持された状態で、長手方向がシート幅方向に沿う長尺状に形成されたベースプレート５３に取り付けられている。一対のロール体支持ブラケット５２は、吐出部ロール５０の回転軸５０ａの端部が挿入される挿通孔５２ａと、一対のガイドローラ５１を回転自在に支持する回転基台５１ａの連結突部が挿入される一対の挿通孔５２ｂを備えており、ロール体支持ブラケット５２に一対のガイドローラ５１の回転基台５１ａがボルト５４にて固定さている。

ベースプレート５３の長手方向の両端部に、一対のロール体支持ブラケット５２がボルト５５にて固定され、ベースプレート５３の長手方向の中央部付近に、一対のガイドローラ５１を回転自在に支持するガイドローラ支持ブラケット５６がボルト固定されている。ガイドローラ支持ブラケット５６の頂部は、吐出部ロール５０との干渉を避けるために凹入形成されている。ベースプレート５３の両端部における長手方向でロール体支持ブラケット５２の取り付け箇所より内方側箇所には、スロットダイ本体４１が備える一対のガイドピン５７が挿通する案内ガイド孔５８が形成されている。また、ベースプレート５３には、ロールユニット固定用ボルト５９を融通状態で挿通させる長孔６０が長手方向に分散して３個形成されている。そして、後述するように一対のアジャスタボルト６５にてベースプレート５３が位置決めされた状態で、ロールユニット固定用ボルト５９により第２スロットダイＳＤ２のロールユニット取付部分６１に対してベースプレート５３が固定される。

第２スロットダイＳＤ２の上手側ピース４１ａの先端側部分には、ガイドピン支持ブロック６２及びアジャスタボルト支持ブロック６３が取り付けられている。

ガイドピン支持ブロック６２は、上手側ピース４１ａの先端側部分のロールユニット取付部分６１からシート幅方向で両端の外方側に突出する状態で、ビス６４にて固定されている。ガイドピン支持ブロック６２には、ガイドピン５７が突設されており、ベースプレート５３の取り付け時に、案内ガイド孔５８とガイドピン５７とが当接することにより、ベースプレート５３のロールユニット取付部分６１に対する位置が案内される。案内ガイド孔５８の内径はガイドピン５７の外径よりも数ｍｍ程度大きくしているので、一対のアジャスタボルト６５によりベースプレート５３の位置調整が可能となっている。

アジャスタボルト支持ブロック６３は、ベースプレート５３の上手側ピース４１ａの先端側部分におけるシート幅方向で離間した複数箇所（２箇所）にビス６６により固定されている。アジャスタボルト支持ブロック６３には、アジャスタボルト６５が螺合しており、この先端部がベースプレート５３の端面５３Ｔに当接することで、ベースプレート５３の位置及び姿勢が決定する。そして、２つのアジャスタボルト６５のねじ込み量を格別に変更することで、ベースプレート５３の位置及び姿勢を調節することができる。これにより、ロールユニット４２における吐出部ロール５０の回転横軸心Ｙ２が、吐出部４０におけるスリット状の吐出口４０Ｓの長手方向の向きに一致するように、吐出部ロール５０の取付姿勢を調節できるようになっている。このように、第２スロットダイＳＤ２は、吐出部ロール５０の軸心方向を調節自在な調節手段としてアジャスタボルト６５を備えている。

図４及び図９に示すように、スロットダイ本体４１の上手側ピース４１ａにおける吐出部４０よりもシート移動方向で上手側に位置する部分に、ロールユニット４２を配置するための凹入部４９がシート幅方向に沿って形成されている。凹入部４９は、第１凹入部４９ａと第２凹入部４９ｂとが連続する状態で形成されている。第１凹入部４９ａは、吐出部ロール５０とスロットダイ本体４１との干渉を避けるために形成されており、第２凹入部４９ｂは、一対のガイドローラ５１のうちスロットダイ本体４１に近い側のものとスロットダイ本体４１との干渉を避けるために形成されている。このように、吐出部ロール５０が、横軸心方向視で、その一部分が第１凹入部４９ａに凹入した状態で配置されている。これにより、吐出部ロール５０を吐出部４０に極力近接させて配置することが可能となっている。

第２スロットダイＳＤ２は、吐出部４０におけるスリット状の吐出口４０Ｓが形成されている端面が、移動するシート１に対して並行になるように、図９のような姿勢で配置されている。このため、塗布液が流動する流路４８は、シート１の移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め上方向に向いている。つまり、吐出部４０は、シート１の移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め上方向に向けて塗布液を吐出するように構成されている。

シート１に塗布される塗布液の塗布状態は、シート１と吐出部４０との間隙に形成される塗布液の液溜りの大きさ、形状、流動状態等により変化し、この液溜りの形成状態は、シート１の移動速度、シート１のテンション、塗布液の粘性、塗布液の吐出圧等に支配されるため、シート１の移動速度やテンションや塗布液の吐出圧が微妙に変動すると、液溜りの形成状態も変動することになる。

この点、本実施形態では、図９に示すように、流路４８による塗布液の流動方向を側面視で斜め上方とし、吐出部４０の端面を水平方向に沿う向きをすることで、吐出口４０Ｓから斜め上方向に向けて吐出された塗布液は、吐出部４０の水平方向に沿う端面のうちスリット状の吐出口４０Ｓよりシート移動方向で上手側の部分である上手側端面に広がり易く、しかも、吐出部ローラ５０と吐出部４０との間は空間が確保されている。そのため、液溜りの形成状態が変動するとしても、吐出部４０の上手側端面とシート１との間の部分である上手側部分を大小に変形させ、液溜りの下手側部分（吐出部４０の水平方向に沿う端面のうちスリット状の吐出口４０Ｓよりシート移動方向で下手側の部分である下手側端面とシート１との間に位置する部分）の形成状態を極力安定させるとことができる。したがって、液溜りの形成状態の変動があっても、シート１に塗布される塗布液の膜厚が自動的に安定調整される。

また、シート移動方向で上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出口から吐出することで、移動するシート１により塗布液の液溜りがシート移動方向で下手側に引き付けられた状態となっても、吐出部４０の上手側端面とシート１との間に安定して液溜りが形成される。このため、吐出口４０Ｓが露出することを防止でき、結果として、塗布膜に気泡が混入する塗布不良や、塗布膜が部分的にかすれる又は途切れる等の塗布不良の発生を防止できる。

以上のように、実施形態の塗布システムＳにおける第２スロットダイＳＤ２では、吐出部４０の上手側に近接する吐出部ローラ５０を吐出部４０に極力近付けて配置するべく、スロットダイ本体４１の吐出部側の端部に凹入部４９を形成するとともに、吐出部ローラ５０の外径を小さくし、さらに、小径化により低下する吐出部ローラ５０の軸強度を補うべくガイドローラ５１を設けている。

このように構成することで、吐出部４０に近接する箇所でシート１を吐出部ローラ５０にて支持することができ、シート１における吐出部ローラ５０の支持箇所からシート移動方向で吐出部４０に対応する箇所までの距離が短くなるので、シート１の移動に起因する振動の振幅が大きくなることを防止して、吐出部４０とシート１との距離（間隙の大きさ）を安定させることができる。また、吐出部４０は吐出部ローラ５０により支持される箇所に近接する箇所に塗布液を吐出することから、吐出部４０から吐出された塗布液がシート１を移動させる圧力に抗してシート１の位置を保持し易くなる。しかも、ガイドローラ５１により吐出部ローラ５０の軸強度を補っているので、吐出部ローラ５０はシート幅方向で直線状態を良好に維持でき、吐出部ローラ５０による支持箇所から吐出部４０までの距離はシート幅方向に関して一様になる。

したがって、実施形態の塗布システムＳにおける第２スロットダイＳＤ２の構成であれば、シート１と吐出部４０との間の塗布液の液溜りが時間的にもシート横幅方向に関して空間的にも安定して形成されるため、バックアップローラで塗布面の反対側の面を支持することなくシート１の裏面に対しても所望の膜厚にて良好に塗布液を塗布することができる。そして、本実施形態における塗布システムＳでは、バックアップローラで表面を支持することなくシート１の裏面に対しても良好に塗布液を塗布できるため、第１スロットダイＳＤ１によりシート１の表面に塗布した塗布液を乾燥させなくても、第２スロットダイＳＤ２による塗布を行うことが可能である。したがって、シート１の両面に塗布膜を塗布するために要する作業時間を大幅に削減できる。

〔別の実施形態〕
以上、発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。以下、本発明の別実施形態を例示する。

（１）上記実施形態では、反対面用塗布手段としての表面塗布手段Ｂ１が、基材移動方向で塗布装置用スロットダイとしての第２スロットダイＳＤ２よりも上手側の箇所で、基材の塗布面（上記実施形態でいう裏面）の反対側の面（同表面）に塗布液を塗布するものを例示したが、塗布装置用スロットダイ及び反対面用塗布手段の基材移動方向での配置順序を入れ換えたものでもよい。この場合、反対面用塗布手段は、基材移動方向で塗布装置用スロットダイよりも下手側にて基材に塗布液を塗布することになり、バックアップローラに塗布済みの面を基材を巻き掛けることはできないため、反対面用塗布手段としては、本発明の塗布装置用スロットダイを備えて構成すればよい。

（２）上記実施形態では、吐出部が、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め上方向に向けて塗布液を吐出するように、塗布装置用スロットダイの取り付け姿勢が設定されたものを例示したが、塗布装置用スロットダイの側面視の設置姿勢は適宜変更可能である。例えば、吐出部が、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め下方向に向けて塗布液を吐出するような姿勢でもよい。

（３）上記実施形態では、回転支持体の外周面に当接して、回転支持体の横軸心と平行な横軸心周りに回転自在な複数対のガイドローラが設けられたものを例示したが、例えば、回転支持体の軸心方向の長さが十分短い場合には、これらのガイドローラを設けなくてもよい。また、ガイドローラを回転支持体の軸心方向での中央部１箇所と両端部に複数対設けたものを例示したが、ガイドローラの配置個数及び配置箇所は適宜変更可能である。またいずれの場合において、ガイドローラが対を為す形態でなくてもよい。

（４）上記実施形態では、送風式支持手段が一対の平板状温風送風ユニットを備えて構成されたものを例示したが、これに代えて、断面円形の円筒体の外周面に気体噴出孔を多数設けて、円筒内部から外部に向けて気体を噴出させて、円筒体に巻き掛けられた基材を非接触で支持する非接触支持胴体を備えて構成されたものであってもよい。この場合、非接触支持胴体を基材移動方向に複数並べて、基材の一方の面と他方の面とを交互に巻き掛けるようにしてもよい。

（５）上記実施形態では、下手側支持手段が基材を非接触で支持する送風式支持手段にて構成されたものを例示したが、これに限らず、例えば、下手側支持手段が、基材の横幅方向の両端部を上下両側から挟持するローラを一対又は基材移動方向に並ぶ状態で複数対備えて構成したものでもよい。また、スロットダイの吐出部が基材幅方向で同一直線上に複数のスリットを備えて構成する等して、基材の幅方向で互いに離間した複数列の塗布領域に対して塗布液を塗布する場合は、基材の両面又は表面若しくは裏面の非塗布領域となる基材幅方向で中間箇所を回転体で接触支持する形態で下手側支持手段を構成することができる。

（６）上記実施形態では、本発明に係る塗布装置用スロットダイをシートの両面に塗布可能な塗布装置に適用したものを例示したが、本発明に係る塗布装置用スロットダイは、基材の片面にのみ塗布する塗布装置にも適用可能である。

（７）上記実施形態では、回転支持体がスロットダイ本体に一体的に取り付けられているものを例示したが、例えば、上記実施形態で、ロールユニット４２を取付プレート１９に取り付ける等、回転支持体をスロットダイ本体とは各別に取り付けてもよい。

（８）上記実施形態では、塗布液が、シート１に対して、シート移動方向で一定間隔の隙間を空けた縞状になるように間欠的に塗布されるものを例示したが、これに代えて、塗布液が、シート１に対して、シート移動方向で連続的に塗布されるものであってもよい。

Ｓ 塗布システム
Ａ 繰出手段
Ｂ 塗布装置
Ｂ１ 反対面用塗布手段
Ｂ２ 塗布面用塗布手段
Ｃ 下手側支持手段（送風式支持手段）、乾燥手段
Ｄ 乾燥手段
Ｅ 巻取手段
ＳＤ２ 塗布装置用スロットダイ
１ 基材
１３ａ 上手側支持手段（支持用ロール体）
４０ 吐出部
４０Ｓ 吐出口
４１ スロットダイ本体
４９ａ 凹入部
５０ 回転支持体（単一のロール体）
５１ ガイドローラ
６５ 調節手段

Claims (10)

1. 長手方向に移動する帯状の基材に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部を備え、前記吐出部よりも基材移動方向に関して上手側で基材を支持する上手側支持手段と、前記吐出部よりも基材移動方向に関して下手側で基材を支持する下手側支持手段との間に配置され、前記吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイであって、
   基材幅方向に沿う横軸心周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、前記吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、前記外周面が前記塗布面に接触する状態で基材を支持する回転支持体が設けられ、
   前記吐出部が、基材幅方向に沿うスリット状の吐出口を備えて前記吐出口から塗布液を基材幅方向で均一に吐出するように構成され、
   前記回転支持体が、基材横幅方向に対応した長さの長尺状の単一のロール体にて構成され、
   前記回転支持体の軸心方向を調節自在な調節手段を備えて構成されている塗布装置用スロットダイ。
2. 前記回転支持体の軸心方向での中間箇所において前記回転支持体の前記外周面に当接して、前記回転支持体の横軸心と平行な横軸心周りに回転自在なガイドローラが設けられている請求項１記載の塗布装置用スロットダイ。
3. 長手方向に移動する帯状の基材に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部を備え、前記吐出部よりも基材移動方向に関して上手側で基材を支持する上手側支持手段と、前記吐出部よりも基材移動方向に関して下手側で基材を支持する下手側支持手段との間に配置され、前記吐出部から吐出される塗布液を基材の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイであって、
   基材幅方向に沿う横軸心周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、前記吐出部に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、前記外周面が前記塗布面に接触する状態で基材を支持する回転支持体が設けられ、
   前記吐出部が、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出するように構成されている塗布装置用スロットダイ。
4. 前記回転支持体は、前記基材における前記回転支持体の支持箇所から基材移動方向で前記吐出部に対応する箇所までの距離が、前記回転支持体の直径よりも短くなる位置に設けられている請求項１〜３の何れか１項に記載の塗布装置用スロットダイ。
5. 前記吐出部を備えるスロットダイ本体における前記吐出部よりも基材移動方向で上手側に位置する部分に、基材幅方向に沿う凹入部が形成され、
   前記回転支持体が、横軸心方向視で、その一部分が前記凹入部に凹入した状態で配置されている請求項１〜４の何れか１項に記載の塗布装置用スロットダイ。
6. 前記回転支持体が、前記吐出部を備えるスロットダイ本体に一体的に取り付けられている請求項１〜５の何れか１項に記載の塗布装置用スロットダイ。
7. 前記吐出部が、基材移動方向に直交する方向よりも上手側に傾斜する斜め方向に向けて塗布液を吐出するように構成されている請求項１、２、４〜６の何れか１項に記載の塗布装置用スロットダイ。
8. 請求項１〜７の何れか１項に記載の塗布装置用スロットダイを備えた塗布面用塗布手段と、
   基材移動方向で当該塗布装置用スロットダイよりも上手側又は下手側の箇所で、基材の前記塗布面の反対側の面に塗布液を塗布する反対面用塗布手段を備えた塗布装置。
9. 前記上手側支持手段が、基材横幅方向に沿う横軸心周りに回転自在な支持用ロール体にて構成され、
   前記下手側支持手段が、基材の前記塗布面とその反対側の面の夫々に対して気体を噴出して基材を非接触で支持する送風式支持手段にて構成されている請求項８記載の塗布装置。
10. 請求項１〜７の何れか１項に記載の塗布装置用スロットダイ又は請求項８若しくは９に記載の塗布装置を備え、
    基材を繰り出す繰出手段、基材に塗布された塗布液を乾燥させる乾燥手段、及び、塗布液が乾燥した状態の基材を巻き取る巻取手段が設けられた塗布システム。

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