JP5529170B2 - レーザ光源、波長変換レーザ光源及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態に従うレーザ光源の構成を概略的に示す模式図である。図1を用いて、第1実施形態に従うレーザ光源が説明される。
レーザ媒質110を保持する保持具190は、例えば、C型の断面を有する本体部191と、本体部191の上面に形成された開口部を閉塞する蓋部192と、を備える。セラミック材料で形成されたレーザ媒質110は、本体部191と蓋部192とにより形成される空間(高反射光学膜160と出力ミラー180との間に形成された共振器の内部空間)内で保持される。
図7乃至図9は、レーザ媒質110を保持する他の保持具の構造を概略的に示す。図7は、保持具及び保持具に保持されたレーザ媒質110の概略的な斜視図である。図8及び図9は、図7に示される矢印の方向から見た保持具及び保持具に保持されたレーザ媒質110を概略的に示す。図8に示されるレーザ媒質110には、応力は発生していない。図9に示されるレーザ媒質110には応力が発生している。図1、図7乃至図9を用いて、レーザ媒質110中で発生する応力が説明される。
第2実施形態に関連して、応力を発生させるための応力発生構造が形成されたセラミックレーザ媒質が説明される。セラミックレーザ媒質に設けられた応力発生構造は、単一偏光化に好適に貢献する。
図10乃至図12は、応力発生構造が形成されたセラミックレーザ媒質を概略的に示す。図10は、セラミックレーザ媒質及びセラミックレーザ媒質を保持する保持具の概略的な斜視図である。図11は、図10に示される矢印の方向から見た保持具及び保持具に保持されたレーザ媒質を概略的に示す。図12は、図10に示される矢印の方向から見たレーザ媒質を概略的に示す。図1、図10乃至図12を用いて、セラミックレーザ媒質に設けられた応力発生構造が説明される。
図13乃至図15は、応力発生構造が形成されたセラミックレーザ媒質を概略的に示す。図13は、セラミックレーザ媒質及びセラミックレーザ媒質を保持する保持具の概略的な斜視図である。図14は、図13に示される矢印の方向から見た保持具及び保持具に保持されたレーザ媒質を概略的に示す。図15は、図13に示される矢印の方向から見たレーザ媒質を概略的に示す。図1、図13乃至図15を用いて、セラミックレーザ媒質に設けられた応力発生構造が説明される。
第3実施形態に関連して、セラミックレーザ媒質を励起する励起光と光励起により発生した発振光とのオーバーラップを利用した単一偏光化が説明される。
第4実施形態に関連して、セラミックレーザ媒質の内部に設けられた材料の密度分布を用いた単一偏光化が説明される。
第5実施形態に関連して、波長変換レーザ光源が説明される。波長変換光源には、第1実施形態及び第2実施形態に関連して説明されたレーザ媒質110,110C,110Dへの応力付加原理が適用され、単一偏光化された発振光が出力される。
本実施形態において、上述の第5実施形態に関連して説明された波長変換レーザ光源300,300H,300Iを用いた画像表示装置が説明される。
本実施形態において、上述の第5実施形態に関連して説明された波長変換レーザ光源300,300H,300Iを用いた画像表示装置が説明される。
Claims (12)
- レーザ光を発する半導体レーザ光源と、
前記半導体レーザ光源により励起され、光を発するレーザ媒質と、
前記レーザ媒質が発する前記光を閉じ込め、共振器を構成する2つの反射要素と、
前記レーザ媒質を保持する保持具と、を備え、
前記レーザ媒質が発する前記光の光路に対して、前記レーザ媒質内の前記レーザ光の光路が傾斜することにより、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路に沿う領域に熱歪みを生じさせることを特徴とするレーザ光源。 - レーザ光を発する半導体レーザ光源と、
前記半導体レーザ光源により励起され、光を発するレーザ媒質と、
前記レーザ媒質が発する前記光を閉じ込め、共振器を構成する2つの反射要素と、
前記レーザ媒質を保持する保持具と、を備え、
前記保持具は、前記レーザ媒質が発する前記光の光路に沿う領域に引張応力を生じさせる応力発生構造を含み、
前記レーザ媒質は、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路が形成される第1領域と、前記第1領域に隣接する第2領域及び第3領域と、を含み、
前記保持具は、前記第2領域及び前記第3領域に圧縮力を加えることにより、前記第1領域に前記引張応力を生じさせることを特徴とするレーザ光源。 - レーザ光を発する半導体レーザ光源と、
前記半導体レーザ光源により励起され、光を発するレーザ媒質と、
前記レーザ媒質が発する前記光を閉じ込め、共振器を構成する2つの反射要素と、
前記レーザ媒質を保持する保持具と、を備え、
前記レーザ媒質は、前記レーザ媒質が発する前記光の光路に沿う領域に引張応力を生じさせる応力発生構造を含み、
前記応力発生構造は、前記レーザ媒質において、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路に沿って延びるように形成された溝部を含み、
前記溝部が収縮されることにより、前記引張応力が生ずることを特徴とするレーザ光源。 - 前記半導体レーザ光源は、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路に対して前記レーザ光の前記光路が傾斜するように配設されることを特徴とする請求項1に記載のレーザ光源。
- 前記レーザ媒質は、前記レーザ光が入射される入射端面を含み、
前記入射端面は、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路に垂直な面に対して傾斜することを特徴とする請求項1に記載のレーザ光源。 - 前記応力発生構造は、前記レーザ媒質とは異なる材質の充填材料を含み、
前記溝部に充填された前記充填材料は、前記溝部を収縮させることを特徴とする請求項3に記載のレーザ光源。 - 前記充填材料は、樹脂材料を含むことを特徴とする請求項6に記載のレーザ光源。
- 前記充填材料は、セラミック材料を含むことを特徴とする請求項6に記載のレーザ光源。
- レーザ光を発する半導体レーザ光源と、
前記半導体レーザ光源により励起され、光を発するレーザ媒質と、
前記レーザ媒質が発する前記光の波長を変換する波長変換素子と、
前記レーザ媒質が発する前記光を閉じ込め、共振器を構成する2つの反射要素と、
前記共振器内に配設されたセラミック材料で形成された前記レーザ媒質を保持する保持具と、
前記レーザ媒質及び前記波長変換素子と異なる材質の充填材料と、を備え、
前記レーザ媒質及び前記波長変換素子には、前記レーザ媒質が発する前記光の光路に沿う溝部が形成され、
前記溝部に充填された前記充填材料は、前記溝部を収縮させ、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路に沿う領域に引張応力を生じさせ、前記レーザ媒質が発する前記光の偏光方向を制御することを特徴とする波長変換レーザ光源。 - レーザ光を発する半導体レーザ光源と、
前記半導体レーザ光源により励起され、光を発するレーザ媒質と、
前記レーザ媒質が発する前記光の波長を、変換する波長変換素子と、
前記レーザ媒質が発する前記光を閉じ込め、共振器を構成する2つの反射要素と、
前記レーザ媒質及び前記波長変換素子と異なる材質の充填材料と、を備え、
前記共振器内に配設されたセラミック材料で形成された前記レーザ媒質に光学的に接合された前記波長変換素子は、前記共振器内に配設され、
前記レーザ媒質及び前記波長変換素子には、前記レーザ媒質が発する前記光の光路に沿う溝部が形成され、
前記溝部に充填された前記充填材料は、前記溝部を収縮させ、前記レーザ媒質が発する前記光の前記光路に沿う領域に引張応力を生じさせ、前記レーザ媒質が発する前記光の偏光方向を制御することを特徴とする波長変換レーザ光源。 - 前記レーザ媒質は、前記レーザ光が入射される入射端面と、前記入射端面と反対側の出射端面と、を含み、
前記レーザ媒質には、レーザ活性物質が添加され、
前記レーザ活性物質の濃度は、前記入射端面から前記出射端面に向けて低下することを特徴とする請求項9又は10に記載の波長変換レーザ光源。 - 光を発するレーザ光源と、
前記レーザ光源に電流を供給するレーザ駆動回路と、
前記光を変調し、画像を形成する変調素子と、
前記変調素子から出射された前記光を反射する反射ミラーと、
前記変調素子を駆動するコントローラと、を備え、
前記レーザ光源は、請求項9乃至11のいずれか1項に記載の波長変換レーザ光源を含むことを特徴とする画像表示装置。
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Families Citing this family (14)
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JP6394134B2 (ja) * | 2014-07-11 | 2018-09-26 | 船井電機株式会社 | プロジェクタおよびヘッドアップディスプレイ装置 |
JP6456080B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2019-01-23 | 株式会社トプコン | レーザ発振装置 |
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EP3309914A1 (en) | 2016-10-17 | 2018-04-18 | Universität Stuttgart | Radiation field amplifier system |
EP3309913A1 (en) * | 2016-10-17 | 2018-04-18 | Universität Stuttgart | Radiation field amplifier system |
US10492907B2 (en) * | 2016-11-07 | 2019-12-03 | Medtronic Vascular, Inc. | Valve delivery system |
CN107728267B (zh) * | 2017-11-14 | 2023-04-14 | 广州杰鑫科技股份有限公司 | 一种单激光光学组件的组装结构 |
CN109962402A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种激光介质和激光器 |
JP7116568B2 (ja) * | 2018-03-27 | 2022-08-10 | 株式会社トプコン | レーザ媒質の選別方法及び照射位置検出装置 |
JP7116567B2 (ja) * | 2018-03-27 | 2022-08-10 | 株式会社トプコン | 照射位置検出装置 |
JP2019062229A (ja) * | 2018-12-18 | 2019-04-18 | 株式会社トプコン | レーザ発振装置 |
JP2022189265A (ja) * | 2021-06-11 | 2022-12-22 | 三菱重工業株式会社 | レーザ増幅媒体およびレーザ増幅媒体の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62189783A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-08-19 | スペクトラ−フイジツクス・インコ−ポレイテツド | レ−ザ−ダイオ−ドポンピング固体レ−ザ− |
JP2002057388A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-22 | Nippon Avionics Co Ltd | 固体レーザ発振器 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02202079A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-10 | Hoya Corp | レーザ装置 |
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JP3606059B2 (ja) | 1998-03-11 | 2005-01-05 | セイコーエプソン株式会社 | 面発光型半導体レーザ及びその製造方法 |
JP2004111542A (ja) * | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Topcon Corp | 半導体レーザ装置 |
JP2004128139A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Sony Corp | レーザ光発生装置及びその製造方法 |
US7593443B2 (en) * | 2005-07-26 | 2009-09-22 | Shimadzu Corporation | Solid laser apparatus excited by a semiconductor laser |
CN1822450A (zh) * | 2006-03-17 | 2006-08-23 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 单纵模单偏振相移分布反馈光纤激光器及其制作方法 |
JP2007299962A (ja) | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Covalent Materials Corp | 薄ディスクレーザ装置 |
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Patent Citations (2)
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JPS62189783A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-08-19 | スペクトラ−フイジツクス・インコ−ポレイテツド | レ−ザ−ダイオ−ドポンピング固体レ−ザ− |
JP2002057388A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-22 | Nippon Avionics Co Ltd | 固体レーザ発振器 |
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