JP5526762B2 - 誘電率異方性が負の液晶性化合物、これを用いた液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents

誘電率異方性が負の液晶性化合物、これを用いた液晶組成物および液晶表示素子 Download PDF

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Description

本発明は液晶表示素子用の材料として有用な新規液晶性化合物およびこの化合物を含有する液晶組成物に関する。詳しくは低い粘性、他の液晶性化合物との良好な相溶性を持ち、加えて適切な大きさの屈折率異方性および誘電率異方性を有し、液晶表示素子に使用した場合には急峻な電気光学特性を得ることができる新規液晶性化合物およびこの化合物を含有する液晶組成物ならびにこの液晶組成物を含有する液晶表示素子に関する。
液晶性化合物(本願において、液晶性化合物なる用語は、液晶相を示す化合物および液晶相を示さないが液晶組成物の構成成分として有用である化合物の総称として用いられる。)を用いた表示素子は、時計、電卓、ワ−プロなどのディスプレイに広く利用されている。これらの表示素子は液晶性化合物の屈折率異方性、誘電率異方性などを利用したものである。
液晶相には、ネマチック液晶相、スメクチック液晶相、コレステリック液晶相があるが、ネマチック液晶相を利用したものが最も広く用いられている。また表示方式としては動的散乱(DS)型、配向相変形(DAP)型、ゲスト/ホスト(GH)型、ねじれネマチック(TN)型、超ねじれネマチック(STN)型、薄膜トランジスタ(TFT)型、垂直配向(VA)型、インプレ−ンスイッチング(IPS)型、高分子支持配向(PSA)型などがある。
これらの表示方式で用いられる液晶性化合物は、室温を中心とする広い温度範囲で液晶相を示し、表示素子が使用される条件下で十分に安定であり、さらに表示素子を駆動させるに十分な特性を持たなくてはならないが、現在のところ単一の液晶性化合物でこの条件を満たすものは見いだされていない。
このため数種類から数十種類の液晶性化合物を混合することにより要求特性を備えた液晶組成物を調製しているのが実状である。これらの液晶組成物は、表示素子が使用される条件下で通常存在する水分、光、熱、空気に対して安定であり、また電場や電磁放射に対しても安定であるうえ、混合される化合物に対し化学的にも安定であることが要求される。また、液晶組成物には、その屈折率異方性(Δn)および誘電率異方性(Δε)などの諸物性値が表示方式や表示素子の形状に依存して適当な値をもつことが必要とされる。さらに液晶組成物中の各成分は、相互に良好な溶解性を持つことが重要である。
良好な液晶表示を行うためには、それを構成する液晶表示素子のセル厚みと使用される液晶材料のΔnの値は一定であることが好ましい(E.Jakemanら、Pyhs.Lett.,39A.69(1972))。また、液晶表示素子の応答速度は、用いられるセルの厚みの二乗に反比例する。それ故、動画などの表示にも応用できる高速応答可能な液晶表示素子を製造するには大きなΔnの値を有する液晶組成物を持たなくてはならない。大きなΔnの値を有する液晶単体成分として種々の化合物開発がおこなわれたが、一般的に、かような大きなΔnを有する化合物は高度に共役した分子構造を有するが、その他の液晶材料との相溶性が悪い傾向があり、良好な電気特性を有する液晶組成物の構成要素として用いにくい。さらに、薄膜トランジスタ方式の液晶表示素子などの、高い絶縁性(比抵抗)を要求される液晶組成物の構成要素として用いられる液晶性化合物には、高い安定性を要求される。
また、上述した動作モードの中でもIPSモード、VAモードあるいはPSAモードなどは、液晶分子の垂直配向性を利用した動作モードであり、TNモード、STNモードなどの従来の表示モードの欠点である視野角の狭さを改善可能であることが知られている。
そして、従来からこれら動作モードの液晶表示素子に使用可能な、負の誘電率異方性を有する液晶組成物の成分として、ベンゼン環上の水素がフッ素で置き換えられた液晶性化合物が数多く検討されてきている(特許文献1〜4参照。)。
例えば、特許文献1にはベンゼン環上の水素がフッ素で置き換えられた式(s−1)で示される化合物が、また、特許文献2には、式(s−2)で示される、ベンゼン環上の水素がフッ素で置き換えられ、アルケニルを有する化合物が検討されている。

Figure 0005526762
しかし、式(s−1)で示されるベンゼン環上の水素がフッ素で置き換えられた化合物は光学異方性が小さく、式(s−2)で示される化合物でも光学異方性は十分に大きくない。また、側方基がハロゲンなどの極性基である化合物として特許文献3に式(s−3)、(s−4)および(s−5)で示される化合物が開示されている。
その他にも、特許文献4には式(s−6)、(s−7)、(s−8)および(s−9)で示される側方基がハロゲンなどの極性基である化合物が開示されているが、本願のように2,3,3′位にフッ素または塩素原子を持つビフェニル環と−CHO−および−COO−結合基とを持つ化合物は開示されていない。
Figure 0005526762
Figure 0005526762
そのうえ、式(s−3)、(s−4)および(s−5)で示される化合物は、いずれも光学異方性が小さく、ネマチック相の上限温度が低く、液晶相を示さない。さらに、式(s−5)、(s−7)、(s−8)および(s−9)で示される化合物は、いずれも光学異方性が小さく、ネマチック相の上限温度が低く、誘電率異方性が小さいため、これらを含有する液晶組成物ではその駆動電圧を下げることができない。また、式(s−3)および(s−6)で示される化合物は低温相溶性が充分でないなどの、さらに改良の求められる点がある。
特開平02−4725号公報 特開2000−53602号公報 特開平09−52852号公報 特開2007−2132号公報 国際公開第2009/034867パンフレット
したがって、IPSモード、VAモードおよびPSAモードなどの動作モードで使用される液晶表示素子であっても、CRTと比較すれば表示素子としてはいまだ問題があり、例えば、応答速度の向上、コントラストの向上、駆動電圧の低下が望まれている
上述したIPSモード、VAモードあるいはPSAモードで動作する表示素子は、主として、負の誘電率異方性を有する液晶組成物から構成されているが、上記特性などをさらに向上させるためには、上記液晶組成物に含まれる液晶性化合物が、以下(1)〜(8)で示す特性を有することが必要である。すなわち、
(1)化学的な安定性と物理的な安定性を有すること。
(2)高い透明点を有すること。透明点は、液晶相−等方相の転移温度である。
(3)液晶相の低い下限温度を有すること。液晶相は、ネマチック相、スメクチック相などを意味する。
(4)小さな粘度を有すること。
(5)適切な光学異方性を有すること。
(6)適切な負の誘電率異方性を有すること。大きな誘電率異方性を有する化合物は、大きな粘度を有することが多い。
(7)適切な弾性定数K33およびK11(K33:ベンド弾性定数、K11:スプレイ弾性定数)を有すること、および
(8)他の液晶性化合物との相溶性に優れること。
(1)のように化学的、物理的に安定な液晶性化合物を含む組成物を表示素子に用いると、電圧保持率を大きくすることができる。
また、(2)、(3)のように、高い透明点、あるいは液晶相の低い下限温度を有する液晶性化合物を含む組成物ではネマチック相の温度範囲を広げることが可能となり、幅広い温度領域で表示素子として使用することが可能となる。
さらに、(4)のように粘度の小さい化合物、(7)のように大きな弾性定数K33を有する化合物を含む組成物を表示素子として用いると応答速度を向上することができ、(5)のように適切な光学異方性を有する化合物を含む組成物を用いた表示素子の場合は、表示素子のコントラストの向上を図ることができる。
加えて、液晶性化合物が負の大きな誘電率異方性を有する場合には、この化合物を含む液晶組成物のしきい値電圧を低くすることができるので、(6)のように適切な負の誘電率異方性を有する化合物を含む組成物を用いた表示素子の場合には、表示素子の駆動電圧を低くし、消費電力も小さくすることができる。さらに(7)のように適切な弾性定数K33を有する化合物を含む組成物を表示素子として用いることで表示素子の駆動電圧を調整することができ、消費電力も調整することができる。
液晶性化合物は、単一の化合物では発揮することが困難な特性を発現させるために、他の多くの液晶性化合物と混合して調製した組成物として用いることが一般的である。したがって、表示素子に用いる液晶性化合物は、(8)のように、他の液晶性化合物などとの相溶性が良好であることが好ましい。また、表示素子は、氷点下を含め幅広い温度領域で使用することもあるので、低い温度領域から良好な相溶性を示す化合物であることが好ましい場合もある。
本発明の第一の目的は、前記従来技術の欠点を解消し、液晶性化合物に必要な一般的物性、すなわち熱、光などに対する安定性、小さな粘度、適切な大きさの屈折率異方性、適切な大きさの負の誘電率異方性、適切な大きさの弾性定数K33、K11および急峻な電気光学特性、ネマチック相の広い温度範囲、および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する液晶性化合物を提供することであり、特にネマチック相の広い温度範囲を有する液晶性化合物を提供することである。
第二の目的は、この液晶性化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学異方性、および低いしきい値電圧を有する液晶組成物を提供することであり、特にネマチック相の高い上限温度およびネマチック相の低い下限温度を有する液晶組成物を提供することである。
第三の目的は、この組成物を含有し、使用できる広い温度範囲、短い応答時間、小さな消費電力、大きなコントラスト、および低い駆動電圧を有する液晶表示素子を提供することであり、特に、使用できる広い温度範囲を有する液晶表示素子を提供することである。
本発明者らは前記課題を解決するために鋭意検討した結果、側方基にハロゲンなどの極性基を有するビフェニル化合物が極めて大きな弾性定数K33(K33:ベンド弾性定数)、非常に低い粘性、高い化学的安定性、広いネマチック相温度範囲、大きな屈折率異方性および負の誘電率異方性を持つことを見出した。さらに上記化合物を含有する液晶組成物を用いると、急峻な電気光学特性、短い応答時間、広い動作温度範囲および駆動電力が小さい液晶表示素子を作製できることを見出した。従って、上記化合物は液晶表示素子、特に現在広く利用されているECB、IPS、VAあるいはPSAなどの液晶表示素子に好適であることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
本発明の要旨は下記の項などのとおりである。
1. 式(1)で表される化合物。

Figure 0005526762
[式中、RおよびRはそれぞれ独立して、炭素数1〜9のアルキル、または炭素数2〜9のアルケニル、炭素数1〜8のアルコキシ、または炭素数2〜8のアルケニルオキシであり;
およびQはそれぞれ独立して、フッ素または塩素であり;
およびQはそれぞれ独立して、水素、フッ素または塩素であり、QおよびQのいずれか一方は必ず水素であり、他方は必ずフッ素または塩素であり;
Zは−CHO−または−COO−であり;
hは1または2である。]
2. Q、QおよびQがフッ素であり、Qが水素である、項1に記載の化合物。
3. Q、QおよびQがフッ素であり、Qが水素である、項1に記載の化合物。
4.Zが−CHO−である項2または3に記載の化合物。
5. 項1〜4のいずれかに記載の化合物を少なくとも1つ含有することを特徴とする、2つ以上の化合物からなる液晶組成物。
6. 式(2)、(3)および(4)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、項5に記載の液晶組成物。

Figure 0005526762
[式中、Rは独立して炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;
は独立してフッ素、塩素、−OCF、−OCHF、−CF、−CHF、−CHF、−OCFCHFまたは−OCFCHFCFであり;
環A、環Aおよび環Aは独立して1,4−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、1−ピラン−2,5−ジイルまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい1,4−フェニレンであり;
およびZは独立して−(CH−、−(CH−、−COO−、−CFO−、−OCF−、−CH=CH−、−C≡C−、−CHO−または単結合であり;
およびLは独立して水素またはフッ素である。]
7. 式(5)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、項5に記載の液晶組成物。

Figure 0005526762
[式中、Rは炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;
は−C≡Nまたは−C≡C−C≡Nであり;
環B、環Bおよび環Bは独立して1,4−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、1−ピラン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい1,4−フェニレンであり;
は−(CH−、−COO−、−CFO−、−OCF−、−C≡C−、−CHO−または単結合であり;
およびLは独立して水素またはフッ素であり;
qは0、1または2であり、rは0または1であり、q+rは0、1または2である。]
8. 式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)および(11)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、項5に記載の液晶組成物。

Figure 0005526762
[式中、RおよびRは独立して炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;
環C、環C、環Cおよび環Cは独立して1,4−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、6−ピラン−2,5−ジイルまたはデカヒドロ−2,6−ナフタレンであり;
、Z、ZおよびZは独立して−(CH−、−COO−、−CHO−、−OCF−、−OCF(CH−または単結合であり;
およびLは独立してフッ素または塩素であり;
j、k、l、m、n、およびpは独立して0または1であり、k+l+m+nは1または2である。]
9. 式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、項5に記載の液晶組成物。

Figure 0005526762
[式中、RおよびRは独立して炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて任意の−CH−は−O−で置き換えられてもよく;
環D、環Dおよび環Dは独立して1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイル、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレンまたは2,5−ジフルオロ1,4−フェニレンであり;
およびZは独立して−C≡C−、−COO−、−(CH−、−CH=CH−または単結合である。]
10. 式(5)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、項6に記載の液晶組成物。
11. 式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、項6に記載の液晶組成物。
12. 式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、項7に記載の液晶組成物。
13. 式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、項8に記載の液晶組成物。
14. 少なくとも1つの光学活性化合物および/または重合可能な化合物をさらに含有する、項5〜13のいずれか1項に記載の液晶組成物。
15. 少なくとも1つの酸化防止剤および/または紫外線吸収剤をさらに含有する、項5〜14のいずれか1項に記載の液晶組成物。
16. 項5〜15のいずれか1項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
本発明の化合物は、液晶性化合物に必要な一般的物性、熱、光などに対する安定性、小さな粘度、適切な大きさの光学異方性、適切な大きさの負の誘電率異方性、および他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、これらの化合物の少なくとも一つを含有し、そしてネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な大きさの光学異方性、適切な弾性定数K33(K33:ベンド弾性定数)および低いしきい値電圧を有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含有し、そして使用できる広い温度範囲、短い応答時間、小さな消費電力、大きなコントラスト比、および低い駆動電圧を有する。
すなわち、本発明の化合物は、公知の同様な構造の化合物に比べ、他の液晶材料との相溶性に優れかつ低粘度であり、液晶温度レンジも広い。また、類似の化合物と比較し、低いしきい値電圧を有するうえ比較的低粘度を示す。さらに本発明化合物は液晶表示素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に十分安定であり、ネマチック液晶組成物の構成成分として極めて優れ、TN型、STN型、TFT型、VA型、IPS型、およびPSA型用の液晶組成物の構成成分として好適に使用することができる。
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。ネマチック相の上限温度はネマチック相−等方相の相転移温度であり、そして単に上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を単に下限温度と略すことがある。式(1)で表わされる化合物を化合物(1)と略すことがある。この略記は式(2)などで表される化合物にも適用することがある。式(1)〜(14)において、六角形で囲んだA、B、C、Dなどの記号はそれぞれ環A、環B、環C、環Dなどに対応する。複数の同じ記号を同一の式または異なった式に記載したが、これらはそれぞれが同一であってもよいし、または異なってもよい。
「任意の」は、位置だけでなく個数についても任意であることを示すが、個数が0である場合を含まない。任意のAがB、CまたはDで置き換えられてもよいという表現は、任意のAがBで置き換えられる場合、任意のAがCで置き換えられる場合および任意のAがDで置き換えられる場合に加えて、複数のAがB〜Dの少なくとも2つで置き換えられる場合をも含むことを意味する。例えば、任意の−CH−が−O−または−CH=CH−で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルなどが含まれる。なお、本発明においては、連続する2つの−CH−が−O−で置き換えられて、−O−O−のようになることは好ましくない。そして、アルキルにおける末端の−CH−が−O−で置き換えられることも好ましくない。百分率で表した化合物の量は組成物の全重量に基づいた重量百分率(重量%)である。以下に本発明をさらに説明する。
〔液晶性化合物〕
第一に、本発明の化合物(1)をさらに説明する。

Figure 0005526762
化合物(1)について後述の実施例における[表9]に記載したように、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の構造に分けて、各構造について説明する。化合物(1)は2,3,3′位にフッ素または塩素原子を持つビフェニル環を有する三環または四環の化合物である。この化合物は、素子が通常使用される条件下において物理的および化学的に極めて安定であり、そして他の液晶性化合物との相溶性がよい。この化合物を含有する組成物は素子が通常使用される条件下で安定である。この組成物を低い温度で保管しても、この化合物が結晶(またはスメクチック相)として析出することがない。この化合物は、化合物に必要な一般的物性、適切な光学異方性、そして適切な負の誘電率異方性を有する。
化合物(1)の末端基、環構造および結合基を適切に選択することによって、光学異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。化合物(1)における好ましい末端基、結合基Zとそれらの種類が、化合物(1)の物性に与える効果を以下に説明する。
化合物(1)中、RおよびRにおいて、これらは直鎖であることが好ましい。直鎖であるときは液晶相の温度範囲が広くそして粘度が小さい。RおよびRのいずれかが分岐鎖であるときは他の液晶性化合物との相溶性がよい。RおよびRのいずれかが光学活性基である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン(Reverse twisted domain)を防止することができる。RおよびRが光学活性基でない化合物は組成物の成分として有用である。
化合物(1)中、RおよびRはそれぞれ独立して、炭素数1〜9のアルキル、または炭素数2〜9のアルケニル、炭素数1〜8のアルコキシ、または炭素数2〜8のアルケニルオキシである。RおよびRに関しては、化合物の用途に応じて下記の具体例を参照し選択することができる。ここでアルケニルまたはアルケニルオキシは、アルキルにおいて任意の−(CH−が−CH=CH−などで置き換えられた基であり、一例で示す。CH(CH−において任意の−(CH−を−CH=CH−で置き換えた基の例は、HC=CH−(CH−、CH−CH=CH−CH−などである。このように「任意の」語は、「区別なく選択された少なくとも一つの」を意味する。化合物の安定性を考慮して、二重結合が隣接したCH=CH−CH=CH−CH−CH−よりも、二重結合が隣接しないCH=CH−CH−CH−CH=CH−の方が好ましい。
アルケニルにおける−CH=CH−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−CH=CHCH、−CH=CHC、−CH=CHCおよび−CH=CHCのような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。上述のような好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、液晶相の温度範囲が広く、大きな弾性定数K33を有し、化合物の粘度を小さくすることができ、さらに、この液晶性化合物を液晶組成物に添加すると、ネマチック相の上限温度(TNI)を高くすることができる。また、−CHCH=CHCH、−CHCH=CHC、および−CHCH=CHCのような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。
好ましいRおよびRの具体的な例は、−CH、−C、−C、−C、−C11、−C13、−C15、−C17、−C19、−OCH、−OC、−OC、−OC、−OC11、−OC13、−OC15、−OC17、−CH=CH、−CH=CHCH、−CH=CHC、−(CHCH=CH、−CH=CHC、−(CHCH=CHCH、−CH=CHC、−(CHCH=CHC、−CH=CH(CHCH=CH、−CH=CHC、−(CHCH=CHC、−CH=CH(CHCH=CHCH、−CH=CHC、−(CHCH=CHC、−CH=CH(CHCH=CHC、−OCH=CH、−OCH=CHCH、−OCHCH=CH、−OCH=CHC、−OCHCH=CHCH、−O(CHCH=CH、−OCH=CHC、−OCHCH=CHC、−O(CHCH=CHCH、−O(CHCH=CH、−(CHCH=CH(CHCH=CH、−(CHCH=CH(CHCH=CHCH、−OCHCH=CH(CHCH=CH、および−OCHCH=CH(CHCH=CHCHである。
さらに好ましいRおよびRの具体的な例は、−CH、−C、−C、−C、−C11、−C13、−C15、−C17、−C19、−OCH、−OC、−OC、−OC、−OC11、−OC13、−CH=CH、−CH=CHCH、−(CHCH=CH、−(CHCH=CHCH、−OCH=CH、−OCH=CHCH、−OCHCH=CH、−OCH=CHC、−OCHCH=CHCH、−O(CHCH=CH、−OCH=CHC、−OCHCH=CHC、−O(CHCH=CHCH、および−O(CHCH=CHである。
最も好ましいRおよびRの具体的な例は、−CH、−C、−C11、−C15、−C19、−OCH、−OC、−OC、−OC13、−OC17、−CH=CH、−CH=CHCH、−(CHCH=CH、−(CHCH=CHCH、−OCH=CHおよび−OCHCH=CHである。
化合物(1)における側方基としては、QおよびQはそれぞれ独立して、フッ素または塩素であり、QおよびQはそれぞれ独立して、水素、フッ素または塩素であり、QおよびQのいずれか一方は必ず水素であり、他方は必ずフッ素または塩素である。
化合物(1)は、誘電率異方性が負に大きい。大きな誘電率異方性を有する化合物は、組成物のしきい値電圧を下げるための成分として有用である。
化合物(1)における結合基Zは、−COO−または−CHO−である。この結合基であることにより光学異方性が負に大きい。さらに結合基Zが−CHO−であるときは粘度が小さい。
液晶性化合物がこれら液晶性化合物(1)で示される構造を有する場合には、適切な負の誘電率異方性を有し、他の液晶性化合物との相溶性が極めてよい。さらに、熱、光などに対する安定性を有し、広い温度範囲でネマチック相となり、粘度が小さく、大きな光学異方性、および適切な弾性定数K33、K11を有している。液晶性化合物(1)が三環を有するときは粘度が小さい。液晶性化合物(1)が四環を有するときは上限温度が高い。以上のように、末端基、環構造および結合基の種類、環の数を適当に選択することにより目的の物性を有する化合物を得ることができる。また、この液晶性化合物(1)を含有する液晶組成物は、液晶表示素子が通常使用される条件下で安定であり、低い温度で保管してもこの化合物が結晶(またはスメクチック相)として析出することがない。
したがって、液晶性化合物(1)は、PC、TN、STN、ECB、OCB、IPS、VAもしくはPSAなどの表示モードの液晶表示素子に用いる液晶組成物に好適に適用することができ、IPS、VAもしくはPSAなどの表示モードの液晶表示素子に用いる液晶組成物に、特に好適に適用することができる。
本発明の式(1)で示される化合物は、該式中のR、R、Q、Q、Q、QおよびZに所定の基を導入することにより得られるが、このような基の導入は公知の一般的な有機合成法により行い得る。代表的な合成例は、新実験化学講座 14 有機化合物の合成と反応(1978年)丸善 あるいは第四版 実験化学講座 19〜26 有機合成I〜VIII (1991)丸善 などに記載の方法をあげることができる。
結合基Zを生成する方法の一例に関して、最初にスキームを示し、次に項(I)および(II)でスキームを説明する。このスキームにおいて、MSGまたはMSGは少なくとも一つの環を有する1価の有機基である。スキームで用いた複数のMSG(またはMSG)は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物(1A)および(1B)は化合物(1)に相当する。
Figure 0005526762

Figure 0005526762
(I)−COO−の生成
化合物(22)にn−ブチルリチウムを、続いて二酸化炭素を反応させてカルボン酸(23)を得る。化合物(23)と、公知の方法で合成されるフェノール(24)とをDDC(1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド)とDMAP(4−ジメチルアミノピリジン)の存在下で脱水させて−COO−を有する化合物(1A)を合成する。
(II)−CHO−の生成
化合物(25)を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物(26)を得る。これを塩化チオニルなどでハロゲン化して化合物(27)を得る。炭酸ナトリウムなどの塩基の存在下で、化合物(27)を化合物(24)と反応させて化合物(1B)を合成する。
次に液晶性化合物(1)、すなわち上記式(1)で表される液晶性化合物の製造例を示す。なお、下記反応経路においてR、R、Z、Q、Q、Q、Qおよびhは前記と同一の意味である。

Figure 0005526762
化合物(1a)とn−ブチルリチウムとを反応させリチウム塩を調製し、それとホウ酸エステルとを反応させ、酸性雰囲気下で加水分解することによりジヒドロキシボラン誘導体(1b)を得る。この化合物(1b)とフェノール誘導体(1c)とを炭酸ナトリウムなどの塩基、およびPd−Cなどの触媒存在下反応させることにより、ビフェニル誘導体(1d)を得る。

Figure 0005526762
化合物(1e)と、ビフェニル誘導体(1d)とをDDC(1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド)とDMAP(4−ジメチルアミノピリジン)の存在下で脱水させて本発明の液晶性化合物(1)の一例である液晶性化合物(1f)を製造することができる。

Figure 0005526762
本発明の式(1)で示される化合物のうち、より好ましい化合物は式(1−1)〜(1−4)で示される化合物である。

Figure 0005526762
式(1)で示される化合物が式(1−1)および(1−2)で示される化合物であるときは、他の液晶組成物との相溶性がよく粘度が小さい。式(1)で示される化合物が式(1−3)および(1−4)で示される化合物であるときは、ネマチック相の上限温度(TNI)が高い。
(II)−CHO−の生成
化合物(1g)と、ビフェニル誘導体(1d)とを炭酸ナトリウムなどの塩基の存在下反応させて本発明の液晶性化合物(1)の一例である液晶性化合物(1h)を製造することができる。
〔液晶組成物〕
第二に、本発明の組成物をさらに説明する。本発明の液晶組成物は、前記本発明の式(1)で示される化合物を成分Aとして含む必要がある。この成分Aのみの組成物、または成分Aと本明細書中で特に成分名を示していないその他の成分との組成物でもよいが、この成分Aに以下に示す成分B、C、DおよびE成分から選ばれた成分を加えることにより種々の特性を有する本発明の液晶組成物が提供できる。
成分Aに加える成分として、前記式(2)、(3)および(4)からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物からなる成分B、前記式(5)からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物からなる成分C、前記式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)および(11)からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物からなる成分D、または式(12)、(13)および(14)からなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物からなる成分Eを混合したものが好ましい。これらの各成分は、組成物の使用される目的により適宜組み合わされて使用することができる。
また、本発明に使用される液晶組成物の各成分は、各元素の同位体元素からなる類縁体でもその物理特性に大きな差異がない。
上記成分Bのうち、式(2)で示される化合物の好適例として式(2−1)〜(2−16)、式(3)で示される化合物の好適例として式(3−1)〜(3−112)、式(4)で示される化合物の好適例として式(4−1)〜(4−54)をそれぞれ挙げることができる。
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
(式中、R、Xは前記と同じ意味を表す)
これらの式(2)〜(4)で示される化合物すなわち成分Bは、誘電率異方性が正であり、熱安定性や化学的安定性が非常に優れているので、TFT用およびPSA用の液晶組成物を調製する場合に用いられる。本発明の液晶組成物における成分Bの含有量は、液晶組成物の全重量に対して1〜99重量%の範囲が適するが、好ましくは10〜97重量%、より好ましくは40〜95重量%である。また式(12)〜(14)で表される化合物(成分E)をさらに含有させることにより粘度調整をすることができる。
前記、式(5)で示される化合物すなわち成分Cのうちの好適例として、(5−1)〜(5−64)を挙げることができる。
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
(式中、RおよびXは前記と同じ意味を表す)
これらの式(5)で示される化合物すなわち成分Cは、誘電率異方性が正でその値が非常に大きいのでSTN,TN用、PSA用の液晶組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Cを含有させることにより、組成物のしきい値電圧を小さくすることができる。また、粘度の調整、屈折率異方性の調整および液晶相温度範囲を広げることができる。さらに急峻性の改良にも利用できる。
STNまたはTN用の液晶組成物を調製する場合には、成分Cの含有量は0.1〜99.9重量%の範囲が適用できるが、好ましくは10〜97重量%、より好ましくは40〜95重量%である。また、後述の成分を混合することによりしきい値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性、誘電率異方性及び粘度などを調整できる。
式(6)〜(11)からなる群から選ばれた少なくとも一種の化合物からなる成分Dは、垂直配向モ−ド(VAモ−ド)、高分子支持配向モード(PSAモ−ド)などに用いられる誘電率異方性が負の本発明の液晶組成物を調製する場合に、好ましい成分である。
この式(6)〜(11)で示される化合物(成分D)の好適例として、それぞれ式(6−1)〜(6−6)、(7−1)〜(7−15)、(8−1)、(9−1)〜(9−3)、(10−1)〜(10−11)、および(11−1)〜(11−10)を挙げることができる。
Figure 0005526762
Figure 0005526762
(式中、R,Rは前記と同じ意味を表す)
これら成分Dの化合物は主として誘電率異方性の値が負であるVAモ−ド、PSAモード用の液晶組成物に用いられる。その含有量を増加させると組成物のしきい値電圧が低くなるが、粘度が大きくなるので、しきい値電圧の要求値を満足している限り含有量を少なくすることが好ましい。しかしながら、誘電率異方性の絶対値が5程度であるので、含有量が40重量%より少なくなると電圧駆動ができなくなる場合がある。
成分Dのうち式(6)で表される化合物は2環化合物であるので、主としてしきい値電圧の調整、粘度調整または屈折率異方性の調整の効果がある。また、式(7)および式(8)で表される化合物は3環化合物であるので透明点を高くする、ネマチックレンジを広くする、しきい値電圧を低くする、屈折率異方性を大きくするなどの効果が得られる。また、式(9)、(10)および(11)はしきい値電圧を低くするなどの効果が得られる。
成分Dの含有量は、VAモ−ド、PSAモード用の組成物を調製する場合には、組成物全量に対して好ましくは40重量%以上、より好ましくは50〜95重量%である。また、成分Dを混合することにより、弾性定数をコントロ−ルし、組成物の電圧透過率曲線を制御することが可能となる。成分Dを誘電率異方性が正である組成物に混合する場合はその含有量が組成物全量に対して30重量%以下が好ましい。
式(12)、(13)および(14)で表わされる化合物(成分E)の好適例として、それぞれ式(12−1)〜(12−11)、(13−1)〜(13−19)および(14−1)〜(14−6)を挙げることができる。
Figure 0005526762
Figure 0005526762
(式中、RおよびRは前記と同じ意味を表す)
式(12)〜(14)で表される化合物(成分E)は、誘電率異方性の絶対値が小さく、中性に近い化合物である。成分Eを混合することにより、しきい値電圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性、誘電率異方性および粘度などを調整することができる。
式(12)で表される化合物は主として粘度調整または屈折率異方性の調整の効果があり、また式(13)および(14)で表される化合物は透明点を高くするなどのネマチックレンジを広げる効果、または屈折率異方性の調整の効果がある。
成分Eで表される化合物の含有量を増加させると液晶組成物のしきい値電圧が高くなり、粘度が低くなるので、液晶組成物のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが望ましい。TFT用、PSA用の液晶組成物を調製する場合に、成分Eの含有量は、組成物全量に対して好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以上である。また、TN用、STN用またはPSA用の液晶組成物を調製する場合には、成分Eの含有量は、組成物全量に対して好ましくは30重量%以上、より好ましくは40重量%以上である。
本発明の液晶組成物は、本発明の式(1)で示される化合物の少なくとも1種類を0.1〜99重量%の割合で含有することが、優良な特性を発現せしめるために好ましい。
本発明の液晶組成物の調製は、公知の方法、例えば必要な成分を高温度下で溶解させる方法などにより一般に調製される。また、用途に応じて当業者によく知られている添加物を添加して、例えばつぎに述べるような光学活性化合物、または重合可能な化合物、重合開始剤を含む本発明の液晶組成物、染料を添加したGH型用の液晶組成物を調製することができる。通常、添加物は当該業者によく知られており、文献などに詳細に記載されている。
本発明の液晶組成物は、さらに1種以上の光学活性化合物を含有してもよい。
光学活性化合物として、公知のキラルド−プ剤を添加する。このキラルド−プ剤は液晶のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれを防ぐといった効果を有する。キラルド−プ剤の例として以下の光学活性化合物を挙げることができる。
Figure 0005526762
本発明の液晶組成物は、通常これらの光学活性化合物を添加して、ねじれのピッチを調整する。ねじれのピッチはTFT用およびTN用の液晶組成物であれば40〜200μmの範囲に調整するのが好ましい。STN用の液晶組成物であれば6〜20μmの範囲に調整するのが好ましい。また、双安定TN(Bistable TN)モ−ド用の場合は、1.5〜4μmの範囲に調整するのが好ましい。また、ピッチの温度依存性を調整する目的で2種以上の光学活性化合物を添加しても良い。
本発明の液晶組成物は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系、テトラジン系などの二色性色素を添加すれば、GH型用の液晶組成物として使用することもできる。
本発明の液晶組成物は、ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したNCAPや、液晶中に三次元網目状高分子を形成して作製したポリマ−分散型液晶表示素子(PDLCD)例えばポリマ−ネットワ−ク液晶表示素子(PNLCD)用をはじめ、複屈折制御(ECB)型やDS型用の液晶組成物としても使用できる。
紫外線吸収剤、あるいは酸化防止剤を本発明に係る液晶組成物に添加した場合には、液晶組成物や該液晶組成物を含む液晶表示素子の劣化を防止することなどが可能となる。例えば酸化防止剤は、液晶組成物を加熱したときに比抵抗値の低下を抑制することが可能である。
上記紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、トリアゾール系紫外線吸収剤などを挙げることができる。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例は、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノンである。
ベンゾエート系紫外線吸収剤の具体例は、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエートである。
トリアゾール系紫外線吸収剤の具体例は、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,6−テトラヒドロキシフタルイミド−メチル)−5−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、および2−(3−t−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールである。
上記酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、有機硫黄系酸化防止剤などを挙げることができる。
特に、液晶組成物の物性値を変化させずに酸化防止効果が高いという観点からは、下記式で表される酸化防止剤が好ましい。

Figure 0005526762
式(15)中、wは1〜15の整数である。
化合物(15)において、好ましいwは、1、3、5、7、または9である。さらに好ましいwは1または7である。wが1である化合物(15)は、揮発性が大きいので、大気中での加熱による比抵抗の低下を防止するときに有効である。wが7である化合物(15)は、揮発性が小さいので、素子を長時間使用したあと、室温だけではなくネマチック相の上限温度に近い温度でも大きな電圧保持率を維持するのに有効である。
フェノール系酸化防止剤の具体例は、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−プロピルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ブチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ペンチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ヘキシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ヘプチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−オクチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ノニルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−デシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ウンデシルフェノール、2,
6−ジ−t−ブチル−4−ドデシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−トリデシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−テトラデシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ペンタデシルフェノール、2,2’−メチレンビス(6−t−ブチルー4−メチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−4−(2−オクタデシルオキシカルボニル)エチルフェノール、およびペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]である。
有機硫黄系酸化防止剤の具体例は、ジラウリル−3,3’−チオプロピオネート、ジミリスチル−3,3’−チオプロピオネート、ジステアリル−3,3’−チオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、および2−メルカプトベンズイミダゾールである。
紫外線吸収剤、酸化防止剤などに代表される上記添加物の添加量は、本発明の目的を損なわず、かつ添加物を添加する目的を達成できる量の範囲で添加して用いることができる。
例えば、上記紫外線吸収剤、あるいは酸化防止剤を添加する場合には、その添加割合は、本発明に係る液晶組成物の全重量に基づいて、通常10ppm〜500ppmの範囲、好ましくは30〜300ppmの範囲、より好ましくは40〜200ppmの範囲である。
なお、本発明に係る液晶組成物は、液晶組成物を構成する各化合物の合成工程、液晶組成物の調製工程などにおいて混入する合成原料、副生成物、反応溶媒、合成触媒などの不純物を含んでいる場合もある。
PSA(Polymer sustained alignment)モードの素子に適合させるために重合可能な化合物が組成物に混合される。重合可能な化合物の好ましい例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル、ビニルオキシ、プロペニルエーテル、エポキシ(オキシラン、オキセタン)、ビニルケトンなどの重合可能な基を有する化合物である。特に好ましい例は、アクリレート、またはメタクリレートの誘導体である。重合可能な化合物の好ましい割合は、その効果を得るために、0.05重量%以上であり、不良表示を防ぐために10重量%以下である。さらに好ましい割合は、0.1重量%から2重量%の範囲である。重合可能な化合物は、好ましくは光重合開始剤などの適切な開始剤存在下でUV照射などにより重合する。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。例えば光重合開始剤であるIrgacure651(登録商標)、Irgacure184(登録商標)、またはDarocure1173(登録商標)(Ciba JAPAN K.K.)がラジカル重合に対して適切である。重合可能な化合物は、好ましくは光重合開始剤を0.1重量%から5重量%の範囲で含む。特に好ましくは、光重合開始剤を1重量%から3重量%の範囲で含む。
本発明に係る液晶組成物は、例えば、各成分を構成する化合物が液体の場合には、それぞれの化合物を混合し振とうさせることにより、また固体を含む場合には、それぞれの化合物を混合し、加熱溶解によってお互い液体にしてから振とうさせることにより調製することができる。また、本発明に係る液晶組成物はその他の公知の方法により調製することも可能である。
本発明に係る液晶組成物では、ネマチック相の上限温度を70℃以上とすること、ネマチック相の下限温度は−20℃以下とすることができ、ネマチック相の温度範囲が広い。したがって、この液晶組成物を含む液晶表示素子は広い温度領域で使用することが可能である。
本発明に係る液晶組成物では、組成などを適宜調整することで、0.05〜0.18の範囲の光学異方性、好ましくは、0.09〜0.13の範囲の光学異方性を有する液晶組成物を得ることができる。上記数値範囲にある液晶組成物は、TNモード、STNモード、またはTFTモードで動作する液晶表示素子として好適に使用することができる。
また、本発明に係る液晶組成物では、通常、−5.0〜−2.0の範囲の誘電率異方性、好ましくは、−4.5〜−2.5の範囲の誘電率異方性を有する液晶組成物を得ることができる。上記数値範囲にある液晶組成物は、IPSモード、VAモード、またはPSAモードで動作する液晶表示素子として好適に使用することができる。
〔液晶表示素子〕
本発明に係る液晶組成物は、PCモード、TNモード、STNモード、OCBモードなどの動作モードを有し、AM方式で駆動する液晶表示素子だけでなく、PCモード、TNモード、STNモード、OCBモード、VAモード、IPSモードまたはPSAモードなどの動作モードを有しパッシブマトリクス(PM)方式で駆動する液晶表示素子にも使用することができる。
これらAM方式、およびPM方式の液晶表示素子は、反射型、透過型、半透過型、いずれの液晶ディスプレイなどにも適用ができる。
また、本発明に係る液晶組成物は、導電剤を添加させた液晶組成物を用いたDS(dynamic scattering)モード素子や、液晶組成物をマイクロカプセル化して作製したNCAP(nematic curvilinear aligned phase)素子や、液晶組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたPD(polymer dispersed)素子、例えばPN(polymer network)素子にも使用できる。
中でも本発明に係る液晶組成物では、上述のような特性を有するので、VAモード、IPSモード、またはPSAモードなどの負の誘電率異方性を有する液晶組成物を利用した動作モードで駆動するAM方式の液晶表示素子に好適に用いることができ、特に、VAモードで駆動するAM方式の液晶表示素子に好適に用いることができる。
なお、TNモード、VAモードまたはPSAモードなどで駆動する液晶表示素子においては、電場の方向は、ガラス基板面に対して垂直である。一方、IPSモードなどで駆動する液晶表示素子においては、電場の方向は、基板面に対して平行である。なお、VAモードで駆動する液晶表示素子の構造は、K. Ohmuro, S. Kataoka, T. Sasaki and Y. Koike, SID '97 Digest of Technical Papers, 28, 845 (1997) に報告されており、IPSモードで駆動する液晶表示素子の構造は、国際公開91/10936号パンフレット(ファミリー:US5576867)に報告されている。
〔液晶性化合物(1)の実施例〕
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例によって制限されない。なお特に断りのない限り、「%」は「重量%」を意味する。得られた化合物は、H−NMR分析で得られる核磁気共鳴スペクトル、ガスクロマトグラフィー(GC)分析で得られるガスクロマトグラムなどにより同定した。これらによる測定方法は後述する方法に従った。なお、各実施例中において、Cは結晶を、SAはスメクチックA相を、SBはスメクチックB相を、SXは相構造未解析のスメクチック相を、Nはネマチック相を、Iは等方相を示し、相転移温度の単位はすべて℃である。
H−NMR分析:測定は、DRX−500(ブルカーバイオスピン(株)製)を用いた。CDClなど重水素化されたサンプルが可溶な溶媒に溶解させた溶液を、室温にて核磁気共鳴装置を用いて測定した。なお、δ値のゼロ点の基準物質にはテトラメチルシラン(TMS)を用いた。なお、sはシングレット、dはダブレット、tはトリプレット、qはカルテット、mはマルチプレットの意味である。
ガスクロマトグラフ分析:測定には島津製作所製のGC−2014型ガスクロマトグラフを用いた。キャリアーガスはヘリウム(2ml/分)である。試料気化室を280℃に、検出器(FID)を300℃に設定した。成分化合物の分離には、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムDB−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm;固定液相はジメチルポリシロキサン;無極性)を用いた。このカラムは、180℃で2分間保持したあと、5℃/分の割合で280℃まで昇温した。試料はアセトン溶液(0.1重量%)に調製したあと、その1μlを試料気化室に注入した。記録計は島津製作所製のC−R7A型Chromatopac、またはその同等品である。得られたガスクロマトグラムは、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積を示した。
試料はトルエンに溶解して、1重量%の溶液となるように調製し、得られた溶液1μlを試料気化室に注入した。
記録計としては島津製作所製のC−R7A型Chromatopac、またはその同等品を用いた。得られたガスクロマトグラムには、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積値が示されている。
なお、試料の希釈溶媒としては、例えば、クロロホルム、ヘキサンを用いてもよい。また、カラムとしては、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムDB−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)、Agilent Technologies Inc.製のHP−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)、Restek Corporation製のRtx−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)、SGE International Pty.Ltd製のBP−1(長さ30m、内径0.32mm、膜厚0.25μm)などを用いてもよい。
ガスクロマトグラムにおけるピークの面積比は成分化合物の割合に相当する。一般には、分析サンプルの成分化合物の重量%は、分析サンプルの各ピークの面積%と完全に同一ではないが、本発明において上述したカラムを用いる場合には、実質的に補正係数は1であるので、分析サンプル中の成分化合物の重量%は、分析サンプル中の各ピークの面積%とほぼ対応している。成分の液晶性化合物における補正係数に大きな差異がないからである。ガスクロクロマトグラムにより液晶組成物中の液晶性化合物の組成比をより正確に求めるには、ガスクロマトグラムによる内部標準法を用いる。一定量正確に秤量された各液晶性化合物成分(被検成分)と基準となる液晶性化合物(基準物質)を同時にガスクロ測定して、得られた被検成分のピークと基準物質のピークとの面積比の相対強度をあらかじめ算出する。基準物質に対する各成分のピーク面積の相対強度を用いて補正すると、液晶組成物中の液晶性化合物の組成比をガスクロ分析からより正確に求めることができる。
[実施例1]
4−エトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4′−((プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−1−8)を下記に示す合成スキームに従って合成した。
Figure 0005526762
1−エトキシ−2,3−ジフルオロベンゼン(T−2)の合成
2,3−ジフルオロフェノール(T−1)(195.0g)、ブロモエタン(196.2g)およびテトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB)(24.2g)の水(400ml)溶液に、水酸化ナトリウム(75.9g)を加え、窒素雰囲気下80℃で6時間加熱撹拌した。反応終了後ヘプタンにて抽出し、有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒色油状物を得た。このものを蒸留にて精製することにより、1−エトキシ−2,3−ジフルオロベンゼン(T−1)を無色油状物として(230.0g)得た。収率97%。
1−エトキシ−2,3−ジフルオロフェニルボロン酸(T−3)の合成
上記操作で得られた化合物(T−2)(129.5g)を乾燥テトラヒドロフラン(以下、DryTHFという)(500ml)に溶解させ、−70℃まで冷却した。窒素雰囲気下n−BuLi(500ml)を滴下し、−70℃で2時間撹拌した。その後ホウ酸トリメチル(129.5g)のDryTHF溶液を−70℃でゆっくりと滴下し、室温まで昇温して16時間撹拌した。反応終了後2N−HCl(200ml)を加えた後、トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものを再結晶(容量比で、ヘプタン:トルエン=4:1)することにより、(T−3)を白色粉末として(117.2g)得た。収率71%。
4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(T−5)の合成
上記操作で得られた化合物(T−3)(88.8g)、4−ブロモ−2−フルオロフェノール(T−4)(76.4g)、炭酸ナトリウム(50.8g)およびPd−C(NXタイプ)(0.21g)をソルミックス (400ml)に溶解させ、窒素雰囲気下6時間加熱還流した。反応終了後セライトろ過し、ろ液をトルエンにて抽出した。有機層を2N水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものを再結晶(容量比で、ヘプタン:トルエン=4:1)することにより、4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(T−5)を白色粉末として(72.0g)得た。収率67%。
4−エトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4′−((プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−1−8)の合成
上記操作で得られた化合物(T−5)(4.02g)、1−クロロメチル−4−プロピルシクロヘキサン(T−6)(3.15g)、をDMF(100ml)に溶解させ、炭酸ナトリウム(2.39g)を加え、窒素雰囲気下80℃で3時間加熱撹拌した。反応終了後トルエンにて抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(容量比で、ヘプタン:酢酸エチル=20:1)、及び再結晶(容量比で、ヘプタン:エタノール=1:1)することにより、表題化合物(1−1−8)を白色粉末として(4.7g)得た。収率77%。
物性値は下記組成例の項に記載した様に、15重量%の化合物および85重量%の母液晶Aを混合することによって試料を調製し、測定によって得られた値から外挿法によって算出した。外挿値=(試料の測定値−0.85×母液晶Aの測定値)/0.15。この化合物の物性値は、NI=123.9℃,Δε=−7.24, Δn=0.170, η=97.2mPa・s, K33/K11=1.267, C 91.2 N 129.7 Iso であった。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.25(d,1H)、7.19(d,1H)、7.05(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、4.15(q,2H)、3.86(d,2H)、1.93(d,2H)、1.81(d,3H)、1.48(t,3H)、1.37−1.16(m,5H)、1.07(q,2H)、0.96(t,2H)、0.89(t,3H).
[実施例2]
4−エトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4′−((ペンチルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−1−29)を実施例1に示した方法と同様にして、4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(3.00g)および1−クロロメチル−4−ペンチルシクロヘキサン(2.95g)より、白色粉末として(3.66g)得た。収率62%。
この化合物の物性値は、NI=126.6℃,Δε=−7.10, Δn=0.167, η=81.9mPa・s, K33/K11=1.430, C 59.4 C 82.5 N 132.0 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.23(d,1H)、7.18(d,1H)、7.05(t,1H)、6.97(t,1H)、6.78(t,1H)、4.09(q,2H)、3.90(d,2H)、1.99−1.93(md,1H)、1.58−1.39(m,10H)、1.37−1.26(m,8H)、1.32(t,3H)、0.88(t,3H).
[実施例3]
4−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4′−((ペンチルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−1−34)を実施例1に示した方法と同様にして、4′−ブトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(4.44g)および1−クロロメチル−4−ペンチルシクロヘキサン(3.65g)より、白色粉末として(2.0g)得た。収率31%。
この化合物の物性値は、NI=118.6℃,Δε=−6.79, Δn=0.175, η=101.1mPa・s, K33/K11=1.373, C 95.9 (S 92.1) N 123.1 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.24(d,1H)、7.19(d,1H)、7.04(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、4.08(t,2H)、3.86(d,2H)、1.93(d,2H)、1.86−1.77(m,5H)、1.58−1.48(m,2H)、1.35−1.16(m,9H)、1.07(q,2H)、0.99(t,3H)、0.97(q,2H)、0.89(t,3H).
[実施例4]
4−((4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−プロピルビシクロヘキサン(1−3−8)を実施例1に示した方法と同様にして、4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(2.68g)および4−クロロメチル−4′−プロピルビシクロヘキサン(3.61g)より、白色粉末として(2.2g)得た。収率45%。
この化合物の物性値は、NI=228.6℃,Δε=−6.04, Δn=0.191, η=79.5mPa・s, K33/K11=1.223, C 137.7 N 252.3 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.24(d,1H)、7.19(d,1H)、7.05(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、4.15(q,2H)、3.85(d,2H)、1.96(s,2H)、1.83−1.68(m,7H)、1.48(t,3H)、1.34−1.26(m,2H)、1.18−0.80(m,13H)、0.88(t,3H).
[実施例5]
4−((4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−ペンチルビシクロヘキサン(1−3−29)を実施例1に示した方法と同様にして、4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(2.50g)および4−クロロメチル−4′−ペンチルビシクロヘキサン(3.99g)より、白色粉末として(4.2g)得た。収率87%。
この化合物の物性値は、NI=226.6℃,Δε=−7.23, Δn=0.187, η=69.9mPa・s, K33/K11=1.261, C 49.5C 121.2 S 131.7 N 242.0 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.24(d,1H)、7.19(d,1H)、7.05(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、4.16(q,2H)、3.86(d,2H)、1.96(s,2H)、1.53−1.38(m,12H)、1.48(t,3H)、1.35−1.26(m,12H)、0.88(t,3H).
[実施例6]
4−((4′−ブトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−ペンチルビシクロヘキサン(1−3−34)を実施例1に示した方法と同様にして、4′−ブトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(4.44g)および4−クロロメチル−4′−ペンチルビシクロヘキサン(8.73g)より、白色粉末として(2.3g)得た。収率28%。
この化合物の物性値は、NI=211.3℃,Δε=−5.72, Δn=0.181, η=89.9mPa・s, K33/K11=1.202, C 84.8 S 172.5 N 228.9 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.24(d,1H)、7.19(d,1H)、7.04(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、4.08(t,2H)、3.85(d,2H)、1.97(s,2H)、1.86−1.68(m,8H)、1.57−1.48(m,2H)、1.34−0.80(m,20H)、0.99(t,3H)、0.89(t,3H).
[実施例7]
4−((4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−ビニルビシクロヘキサン(1−3−51)を実施例1に示した方法と同様にして、4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(4.02g)および4−クロロメチル−4′−ビニルビシクロヘキサン(6.79g)より、白色粉末として(4.5g)得た。収率64%。
この化合物の物性値は、NI=207.3℃,Δε=−6.32, Δn=0.192, η=88.6mPa・s, K33/K11=1.264, C 113.8 N 240.3 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.24(d,1H)、7.19(d,1H)、7.04(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、5.82−5.73(m,1H)、4.96(d,1H)、4.88(d,1H)、4.15(q,2H)、3.85(d,2H)、2.00−1.73(m,10H)、1.48(t,3H)、1.13−0.99(m,10H).
[実施例8]
4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4−((プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−2−13)を下記に示す合成スキームに従って合成した。
Figure 0005526762
4−ブロモ−1−ブトキシ−2−フルオロベンゼン(T−8)の合成
4−ブロモ−2−フルオロフェノール(T−7)(76.4g)、ブロモブタン(65.8g)およびテトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB)(6.44g)の水(400ml)溶液に、水酸化ナトリウム(20.2g)を加え、窒素雰囲気下80℃で6時間加熱撹拌した。反応終了後ヘプタンにて抽出し、有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して黒色油状物を得た。このものを蒸留にて精製することにより、4−ブロモ−1−ブトキシ−2−フルオロベンゼン(T−8)を無色油状物として(97.5g)得た。収率98%。
4−ブトキシ−3−フルオロフェニルボロン酸(T−9)の合成
上記操作で得られた化合物(T−8)(97.5g)をDryTHF(500ml)に溶解させ、−70℃まで冷却した。窒素雰囲気下n−BuLi(241ml)を滴下し、−70℃で2時間撹拌した。その後ホウ酸トリメチル(62.4g)のDryTHF溶液を−70℃でゆっくりと滴下し、室温まで昇温して16時間撹拌した。反応終了後2N−HCl(200ml)を加えた後、トルエンにて抽出し、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものを再結晶(容量比で、ヘプタン:トルエン=4:1)することにより、(T−9)を白色粉末として(54.8g)得た。収率66%。
4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(T−11)の合成
上記操作で得られた化合物(T−9)(30.0g)、4−ブロモ−2,3−ジフルオロフェノール(T−10)(26.9g)、炭酸ナトリウム(37.5g)およびPd−C(NXタイプ)(0.11g)をソルミックス (300ml)に溶解させ、窒素雰囲気下6時間加熱還流した。反応終了後セライトろ過し、ろ液をトルエンにて抽出した。有機層を2N水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものを再結晶(容量比で、ヘプタン:トルエン=4:1)することにより、4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(T−11)を白色粉末として(24.1g)得た。収率56%。
4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4−((プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−2−13)の合成
上記操作で得られた化合物(T−11)(2.50g)、1−クロロメチル−4−プロピルシクロヘキサン(T−6)(2.22g)、をDMF(100ml)に溶解させ、炭酸ナトリウム(1.75g)を加え、窒素雰囲気下80℃で3時間加熱撹拌した。反応終了後トルエンにて抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(容量比で、ヘプタン:酢酸エチル=20:1)、及び再結晶(容量比で、ヘプタン:エタノール=1:1)することにより、表題化合物(1−2−13)を白色粉末として(3.0g)得た。収率82%。
この化合物の物性値は、NI=118.6℃,Δε=−6.79, Δn=0.170, η=101.1mPa・s, K33/K11=1.373, C 95.9 (S 92.1) N 123.1 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.43(d,1H)、7.41(d,1H)、7.31(t,1H)、7.08(t,1H)、6.78(t,1H)、4.06(q,2H)、3.90(d,2H)、2.00−1.78(m,1H)、1.65−1.58(m,2H)、1.56−1.39(m,7H)、1.35−1.28(m,8H)、0.99(t,3H)、0.89(t,3H).
[実施例9]
4−((4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−プロピルビシクロヘキサン(1−4−13)を実施例8に示した方法と同様にして、4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(2.00g)および4−クロロメチル−4′−プロピルビシクロヘキサン(2.64g)より、白色粉末として(2.9g)得た。収率83%。
この化合物の物性値は、NI=214.6℃,Δε=−6.06, Δn=0.174, η=88.5mPa・s, K33/K11=1.424, C 86.8 S 179.8 N 235.5 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.43(d,1H)、7.41(d,1H)、7.30(t,1H)、7.08(t,1H)、6.78(t,1H)、4.05(t,2H)、3.90(d,2H)、2.00−1.77(m,1H)、1.66−1.58(m,2H)、1.56−1.31(m,15H)、1.30−1.15(m,10H)、0.99(t,3H)、0.89(t,3H).
[実施例10]
4−((4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−ビニルビシクロヘキサン(1−4−55)を実施例8に示した方法と同様にして、4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(2.67g)および4−クロロメチル−4′−ビニルビシクロヘキサン(3.39g)より、白色粉末として(3.2g)得た。収率71%。
この化合物の物性値は、NI=206.6℃,Δε=−6.63, Δn=0.176, η=98.6mPa・s, K33/K11=1.112, C 91.7 S 151.0 N 230.4 Isoであった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.43(d,1H)、7.41(d,1H)、7.04(t,1H)、6.99(t,1H)、6.78(t,1H)、5.82−5.73(m,1H)、4.99(d,2H)、4.93(d,1H)、4.06(t,2H)、3.90(d,2H)、2.25−2.08(m,1H)、1.99−1.88(m,2H)、1.78−1.65(m,2H)、1.63−1.41(m,10H)、1.40−1.21(m,9H)、0.90(t,3H).
[実施例11]
4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イル 4′−プロピルビシクロヘキサン−4−カルボキシレート(1−4−14)を下記に示す合成スキームに従って合成した。
Figure 0005526762
4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イル 4′−プロピルビシクロヘキサン−4−カルボキシレート(1−4−14)の合成
実施例8で合成した4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(T−11)(2.00g)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)(1.46g)およびジメチルアミノピリジン(DMAP)(0.08g)をトルエン(100ml)に溶解させ、4′−プロピルビシクロヘキサン−4−カルボン酸(1.70g)を加え、室温で16時間撹拌した。反応終了後ろ過し、ろ液をトルエンにて抽出した。有機層を1N−HCl水溶液、1N−水酸化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して淡茶色固体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(容量比で、ヘプタン:酢酸エチル=20:1)、及び再結晶(容量比で、ヘプタン:トルエン=4:1)することにより、4′−ブトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イル 4′−プロピルビシクロヘキサン−4−カルボキシレート(1−8−14)を白色粉末として(2.39g)得た。収率67%。
この化合物の物性値は、NI=244.6℃,Δε=−4.76, Δn=0.167, η=75.7mPa・s, K33/K11=1.274, C 72.0 N 303.2 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl):δ(ppm);7.43(d,1H)、7.40(d,1H)、7.28(t,1H)、7.10(t,1H)、6.78(t,1H)、4.06(t,2H)、2.38−2.25(m,1H)、1.78−1.66(m,2H)、1.58−1.38(m,15H)、1.36−1.25(m,10H)、0.99(t,3H)、0.89(t,3H).
[実施例12]
3−クロロ−4−エトキシ−2,3′−ジフルオロ−4′−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(1−1−10)を実施例1に示した方法と同様にして、3′−クロロ−4′−エトキシ−2′,3−ジフルオロビフェニル−4−オール(2.85g)および4−クロロメチル−4′−プロピルシクロヘキサン(1.93g)より、白色粉末として(2.30g)得た。収率54%。
この化合物の物性値は、NI=112.6℃,Δε=−6.58, Δn=0.161, η=125.6mPa・s, K33/K11=1.299, C 76.8 N 117.3 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl3):δ(ppm);7.27−7.16(m,3H)、6.99(t,1H)、6.77(d,1H)、4.15(q,2H)、3.86(d,2H)、1.93(d,2H)、1.81(d,3H)、1.50(t,3H)、1.37−0.90(m,9H)、0.88(t,3H).
[実施例13]
4−((3′−クロロ−4′−エトキシ−2′,3−ジフルオロビフェニル−4−イルオキシ)メチル)−4′−プロピルビ(シクロヘキサン)(1−3−10)を実施例1に示した方法と同様にして、3′−クロロ−4′−エトキシ−2′,3−ジフルオロビフェニル−4−オール(2.85g)および4−クロロメチル−4′−プロピルビシクロヘキサン(2.57g)より、白色粉末として(3.50g)得た。収率69%。
この化合物の物性値は、NI=212.6℃,Δε=−5.71, Δn=0.171, η=121.2mPa・s, K33/K11=1.328, C 102.4 N 237.3 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl3):δ(ppm);7.26−7.16(m,3H)、6.98(t,1H)、6.77(d,1H)、4.15(q,2H)、3.85(d,2H)、1.95(brs,2H)、1.83−1.38(m,7H)、1.49(t,3H)、1.35−0.80(m,15H)、0.87(t,3H).
[実施例14]
4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−イル 4−プロピルシクロヘキサンカルボキシレート(1−1−9)を実施例11に示した方法と同様にして、4′−エトキシ−2′,3,3′−トリフルオロビフェニル−4−オール(T−5)(5.36g)、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)(4.53g)、ジメチルアミノピリジン(DMAP)(0.244g)および4′−プロピルシクロヘキサン−4−カルボン酸(5.10g)より、白色粉末として(2.70g)得た。収率32%。
この化合物の物性値は、NI=145.9℃,Δε=−6.08, Δn=0.164, η=65.8mPa・s, K33/K11=1.438, C 101.9 N 194.9 Iso であった。物性値は[実施例1]と同様にして測定した。
H−NMR(CDCl3):δ(ppm);7.31(d,1H)、7.26(d,1H)、7.16(t,1H)、7.07(t,1H)、6.79(t,1H)、4.16(q,2H)、2.52−2.59(m,1H)、2.17(d,2H)、1.89(d,2H)、1.64−1.53(m,2H)、1.48(t,3H)、1.38−1.18(m,5H)、1.04−0.95(m,2H)、0.90(t,3H).
[実施例1]〜[実施例14]に記載した合成法をもとに、下記の[表1]〜[表8]に示した化合物を合成する。なお、[実施例1]〜[実施例14]で得られる化合物(1−1−8、1−1−9、1−1−10、1−1−29、1−1−34、1−2−13、1−3−8、1−3−10、1−3−29、1−3−34、1−3−51、1−4−13、1−4−14および1−4−55)も再掲した。

Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762

Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
Figure 0005526762
本発明の代表的組成の一例を以下に示す。物性値の測定方法は後述する方法に従った。
液晶性化合物の物性値を測定する試料としては、化合物そのものを試料とする場合、化合物を母液晶と混合して試料とする場合の2種類がある。
化合物を母液晶と混合した試料を用いる後者の場合には、以下の方法で測定を行う。まず、得られた液晶性化合物15重量%と母液晶85重量%とを混合して試料を作製する。そして、得られた試料の測定値から、下記式に示す式に示す外挿法にしたがって、外挿値を計算する。この外挿値をこの化合物の物性値とする。
〈外挿値〉=(100×〈試料の測定値〉−〈母液晶の重量%〉×〈母液晶の測定値〉)/〈液晶性化合物の重量%〉
液晶性化合物と母液晶との割合がこの割合であっても、スメクチック相、または結晶が25℃で析出する場合には、液晶性化合物と母液晶との割合を10重量%:90重量%、5重量%:95重量%、1重量%:99重量%の順に変更をしていき、スメクチック相、または結晶が25℃で析出しなくなった組成で試料の物性値を測定し上記式にしたがって外挿値を求めて、これを液晶性化合物の物性値とする。
上記測定に用いる母液晶としては様々な種類が存在するが、例えば、母液晶Aの組成は以下のとおりである。
母液晶A:
Figure 0005526762
組成物Aの物性値は次のとおりであった。上限温度(NI)=74.6℃;光学異方性(Δn)=0.087;誘電率異方性(Δε)=−1.3。
この組成物Aに実施例1に記載の4−エトキシ−2,3,3′−トリフルオロ−4′−((プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニルを15重量%添加して物性値を測定した。その結果、上限温度(NI)=123.9℃;光学異方性(Δn)=0.170;誘電率異方性(Δε)=−7.24であった。
[比較例1]
4−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロ−フェニル)−4′−プロピル−ビシクロヘキシル(s−1)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.114、Δεは−5.81となり、本願化合物の方が大きなΔnおよび負に大きなΔεを有することが分かった。
[比較例2]
4−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロ−フェニル)−4′−ビニル−ビシクロヘキシル(s−2)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.120、Δεは−5.79となり、本願化合物の方が大きなΔnおよび負に大きなΔεを有することが分かった。
[比較例3]
2,2′,3,3′−テトラフルオロ−4,4′−ビス(オクチルオキシ)ビフェニル(s−3)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.120、ネマチック相の上限温度(NI)は9.3℃となり、本願化合物の方が大きなΔnと高いNIを有することが分かった。また、この化合物の相転移温度はC 52.2℃ Iであり液晶相を示さなかった。
[比較例4]
2,3,3′−トリフルオロ−4,4′−ビス(オクチルオキシ)ビフェニル(s−4)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.132、ネマチック相の上限温度(NI)は21.9℃となり、本願化合物の方が大きなΔnと高いNIを有することが分かった。また、この化合物の相転移温度はC 40.2℃ Iであり液晶相を示さなかった。
[比較例5]
2,2′,3′−トリフルオロ−4,4′−ビス(オクチルオキシ)ビフェニル(s−5)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.135、Δεは−4.51、ネマチック相の上限温度(NI)は10.6℃となり、本願化合物の方が大きなΔnと高いNIおよび負に大きなΔεを有することが分かった。また、この化合物の相転移温度はC 45.7℃ Iであり液晶相を示さなかった。
[比較例6]
4−エトキシ−2,2′,3,3′−テトラフルオロ−4′−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(s−6)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.147、ネマチック相の上限温度(NI)は111.3℃、粘度(η20)は106.9mPa・sとなり、本願化合物の方が大きなΔnと高いNI、負に大きなΔεおよび小さな粘度を有することが分かった。
[比較例7]
4−メトキシ−2,2′,3−トリフルオロ−4′−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ビフェニル(s−7)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔεは−3.65、ネマチック相の上限温度(NI)は112.6℃、粘度(η20)は100.3mPa・sとなり、本願化合物の方が高いNIおよび負に大きなΔεを有することが分かった。
[比較例8]
4−エトキシ−2,3,−ジフルオロ−4′−(2−(4−プロピルシクロヘキシル)エチル)ビフェニル(s−8)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.145、ネマチック相の上限温度(NI)は110.6℃となり、本願化合物の方が大きなΔnおよび高いNIを有することが分かった。
[比較例9]
4′−(ジフルオロ(4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)−4−エトキシ−2,3,3′−トリフルオロビフェニル(s−9)を合成し、この化合物の15重量%と母液晶Aの85重量%とからなる組成物を調製し、[実施例1]と同様にして物性値を測定した。その結果、この化合物のΔnは0.127、Δεは−4.33、ネマチック相の上限温度(NI)は111.6℃となり、本願化合物の方が大きなΔnと高いNIおよび負に大きなΔεを有することが分かった。
さらに本発明の代表的な組成物を[組成物例1]〜[組成物例14]にまとめた。最初に、組成物の成分である化合物とその量(重量%)を示した。化合物は[表9]の取り決めに従い、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の記号によって表示した。1,4−シクロヘキシレンの立体配置はトランスである。末端基の記号がない場合は、末端基が水素であることを意味する。次に組成物の物性値を示した。
Figure 0005526762
特性値の測定は下記の方法にしたがって行うことができる。それらの多くは、日本電子機械工業会規格(Standard of Electric Industries Association of Japan)EIAJ・ED−2521Aに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。測定に用いたTN素子には、TFTを取り付けなかった。
転移温度(℃):次のいずれかの方法で測定した。1)偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート(メトラー社FP−52型ホットステージ)に試料を置き、1℃/分の速度で加熱した。試料が相変化したときの温度を測定した。2)パーキンエルマー社製走査熱量計DSC−7システムを用い3℃/分速度で測定した。
結晶はCと表した。結晶の区別がつく場合は、それぞれCまたはCと表した。スメクチック相はSと表した。結晶はNと表した。液体(アイソトロピック)はIsoと表した。ネマチック相はNと表した。スメクチック相の中で、スメクチックB相、スメクチックC相またはスメクチックA相の区別がつく場合は、それぞれS、SまたはSと表した。転移温度の表記として、「C 50.0 N 100.0 Iso」とは、結晶からネマチック相への転移温度(CN)が50.0℃であり、ネマチック相から液体への転移温度(NI)が100.0℃であることを示す。他の表記も同様である。
ネマチック相の上限温度(NI;℃):偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、1℃/分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。
ネマチック相の下限温度(T;℃):ネマチック相を有する試料を0℃、−10℃、−20℃、−30℃、および−40℃のフリーザー中に10日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−20℃ではネマチック相のままであり、−30℃では結晶(またはスメクチック相)に変化したとき、Tを<−20℃と記載する。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
化合物の相溶性:類似の構造を有する幾つかの化合物を混合してネマチック相を有する母液晶を調製した。測定する化合物とこの母液晶とを混合した組成物を得た。混合する割合の一例は、15重量%の化合物と85重量%の母液晶である。この組成物を−20℃、−30℃のような低い温度で30日間保管した。この組成物の一部が結晶(またはスメクチック相)に変化したか否かを観察した。必要に応じて混合する割合と保管温度とを変更した。このようにして測定した結果から、結晶(またはスメクチック相)が析出する条件および結晶(またはスメクチック相)が析出しない条件を求めた。これらの条件が相溶性の尺度である。
粘度(バルク粘度;η;20℃で測定;mPa・s):測定にはE型回転粘度計を用いた。
粘度(回転粘度;γ1;25℃で測定;mPa・s):
測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が20μmのVA素子に試料を入れた。この素子に30ボルト〜50ボルトの範囲で1ボルト毎に段階的に印加した。0.2秒の無印加のあと、ただ1つの矩形波(矩形パルス;0.2秒)と無印加(2秒)の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流(transient current)のピーク電流(peak current)とピーク時間(peak time)を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、40頁の計算式(8)とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性で測定した値を用いた。
光学異方性(屈折率異方性;Δn;25℃で測定):測定は、波長589nmの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビング(rubbing)したあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率(n‖)は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率(n⊥)は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学異方性の値は、Δn=n‖−n⊥、の式から計算した。試料が組成物のときはこの方法によって光学異方性を測定した。試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと光学異方性を測定した。化合物の光学異方性は外挿値である。
誘電率異方性(Δε;25℃で測定):試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあと誘電率異方性を測定した。化合物の誘電率異方性は外挿値である。
よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン(0.16mL)のエタノール(20mL)溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、150℃で1時間加熱した。2枚のガラス基板から、間隔(セルギャップ)が20μmであるVA素子を組み立てた。
同様の方法で、ガラス基板にポリイミドの配向膜を調製した。得られたガラス基板の配向膜にラビング処理をした後、2枚のガラス基板の間隔が9μmであり、ツイスト角が80度であるTN素子を組み立てた。
得られたVA素子に試料(液晶組成物、または液晶性化合物と母液晶との混合物)を入れ、0.5V(1kHz、サイン波)を印加して、液晶分子の長軸方向における誘電率(ε‖)を測定した。
また、得られたTN素子に試料(液晶組成物、または液晶性化合物と母液晶との混合物)を入れ、0.5V(1kHz、サイン波)を印加して、液晶分子の短軸方向における誘電率(ε⊥)を測定した。
誘電率異方性の値は、Δε=ε‖−ε⊥の式から計算した。
この値が負である組成物が、負の誘電率異方性を有する組成物である。
しきい値電圧(Vth;25℃で測定;V):試料が化合物のときは、化合物を適切な組成物に混合したあとしきい値電圧を測定した。化合物のしきい値電圧は外挿値である。
2枚のガラス基板の間隔(ギャップ)が約9μmであり、ホメオトロピック配向に処理したノーマリーブラックモード(normally black mode)の液晶表示素子に試料を入れた。この素子に周波数が32Hzである矩形波を印加した。矩形波の電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率10%になったときの電圧の値を測定した。
電圧保持率(VHR;25℃で測定;%):測定に用いたTN素子はポリイミド配向膜を有し、そして2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)は6μmである。この素子は試料を入れたあと紫外線によって重合する接着剤で密閉した。このTN素子にパルス電圧(5Vで60マイクロ秒)を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で16.7ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Aを求めた。面積Bは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Bに対する面積Aの百分率である。
[組成例1]
3−H1OB(2F,3F)B(F)−O4 (1−2−13) 4%
V−HH1OB(2F,3F)B(F)−O4 (1−4−55) 4%
3−HHEB(2F,3F)B(F)−O4 (1−4−14) 5%

5−HH−O1 (12−1) 4%
3−HH−4 (12−1) 5%
3−HB(2F,3F)−O2 (6−1)16%
5−HB(2F,3F)−O2 (6−1)21%
3−HHB(2F,3F)−1 (7−1) 7%
3−HHB(2F,3F)−O2 (7−1)14%
5−HHB(2F,3F)−O2 (7−1)20%
NI=82.3℃;Δn=0.093;η=32.6mPa・s;Δε=−4.8.
[組成例2]
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−29) 5%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 3%
3−HH1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−3−8) 3%

3−HB−O1 (12−5)15%
3−HH−4 (12−1) 5%
3−HB(2F,3F)−O2 (6−1)12%
5−HB(2F,3F)−O2 (6−1)12%
2−HHB(2F,3F)−1 (7−1)12%
3−HHB(2F,3F)−1 (7−1) 7%
3−HHB(2F,3F)−O2 (7−1)13%
5−HHB(2F,3F)−O2 (7−1)13%
NI=87.7℃;Δn=0.097;Δε=−4.0.
[組成例3]
5−HH1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−3−29) 3%
5−HH1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−3−34) 3%
V−HH1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−3−51) 3%

3−HB−O1 (12−5)15%
3−HH−4 (12−1) 5%
3−HB(2F,3F)−O2 (6−1)12%
5−HB(2F,3F)−O2 (6−1)12%
2−HHB(2F,3F)−1 (7−1)12%
3−HHB(2F,3F)−1 (7−1) 3%
3−HHB(2F,3F)−O2 (7−1)13%
5−HHB(2F,3F)−O2 (7−1)13%
6−HEB(2F,3F)−O2 (6−6) 6%
NI=89.8℃;Δn=0.095;η=39.3mPa・s;Δε=−4.0.
[組成例4]
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−29) 3%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 3%
3−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−8) 3%

3−HH−4 (12−1) 8%
3−H2B(2F,3F)−O2 (6−4)22%
5−H2B(2F,3F)−O2 (6−4)22%
3−HHB(2F,3Cl)−O2 (7−12) 3%
5−HHB(2F,3Cl)−O2 (7−12) 2%
3−HBB(2F,3F)−O2 (7−7) 9%
5−HBB(2F,3F)−O2 (7−7) 4%
V−HHB−1 (13−1) 6%
3−HHB−3 (13−1) 6%
3−HHEBH−3 (14−6) 3%
3−HHEBH−4 (14−6) 3%
3−HHEBH−5 (14−6) 3%
NI=89.5℃;Δn=0.102;η=31.8mPa・s;Δε=−4.1.
[組成例5]
3−HH1OB(2F,3F)B(F)−O4 (1−4−13) 3%
V−HH1OB(2F,3F)B(F)−O4 (1−4−55) 3%
3−HHEB(2F,3F)B(F)−O4 (1−4−14) 3%

2−HH−5 (12−1) 3%
3−HH−4 (12−1)15%
3−HH−5 (12−1) 4%
3−H2B(2F,3F)−O2 (6−4)15%
5−H2B(2F,3F)−O2 (6−4)15%
3−HHB(2F,3Cl)−O2 (7−12) 5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (7−7) 9%
5−HBB(2F,3F)−O2 (7−7) 9%
3−HHB−3 (13−1) 4%
3−HB−O2 (12−5)12%
NI=81.6℃;Δn=0.097;η=24.5mPa・s;Δε=−4.4.
上記組成物100部に(Op−05)を0.25部添加したときのピッチは61.3μmであった。
[組成例6]
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−29) 5%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 5%

2−BEB(F)−C (5−14) 5%
3−BEB(F)−C (5−14) 4%
4−BEB(F)−C (5−14)12%
1V2−BEB(F,F)−C (5−15) 9%
3−HB−O2 (12−5) 8%
3−HH−4 (12−1) 5%
3−HHB−F (3−1) 3%
3−HHB−1 (13−1) 8%
3−HHB−O1 (13−1) 4%
3−HBEB−F (3−37) 4%
3−HHEB−F (3−10) 6%
5−HHEB−F (3−10) 5%
3−H2BTB−2 (13−17) 4%
3−H2BTB−3 (13−17) 4%
3−H2BTB−4 (13−17) 4%
3−HB(F)TB−2 (13−18) 5%
[組成例7]
3−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−8) 8%

2−HB−C (5−1) 5%
3−HB−C (5−1)12%
3−HB−O2 (12−5)15%
2−BTB−1 (12−10) 3%
3−HHB−F (3−1) 4%
3−HHB−1 (13−1) 8%
3−HHB−O1 (13−1) 5%
3−HHB−3 (13−1)14%
3−HHEB−F (3−10) 4%
5−HHEB−F (3−10) 4%
2−HHB(F)−F (3−2) 4%
3−HHB(F)−F (3−2) 4%
5−HHB(F)−F (3−2) 5%
3−HHB(F,F)−F (3−3) 5%
[組成例8]
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−29) 7%

5−HB−CL (2−2)16%
3−HH−4 (12−1)12%
3−HH−5 (12−1) 4%
3−HHB−F (3−1) 4%
3−HHB−CL (3−1) 3%
4−HHB−CL (3−1) 4%
3−HHB(F)−F (3−2) 8%
4−HHB(F)−F (3−2) 7%
5−HHB(F)−F (3−2) 7%
7−HHB(F)−F (3−2) 7%
5−HBB(F)−F (3−23) 4%
1O1−HBBH−5 (14−1) 3%
3−HHBB(F,F)−F (4−6) 2%
4−HHBB(F,F)−F (4−6) 3%
5−HHBB(F,F)−F (4−6) 3%
3−HH2BB(F,F)−F (4−15) 3%
4−HH2BB(F,F)−F (4−15) 3%
[組成例9]
3−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−8) 5%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 6%

3−HHB(F,F)−F (3−3) 9%
3−H2HB(F,F)−F (3−15) 8%
4−H2HB(F,F)−F (3−15) 8%
5−H2HB(F,F)−F (3−15) 8%
3−HBB(F,F)−F (3−24)20%
5−HBB(F,F)−F (3−24)15%
3−H2BB(F,F)−F (3−27) 5%
5−HHBB(F,F)−F (4−6) 3%
5−HHEBB−F (4−17) 3%
3−HH2BB(F,F)−F (4−15) 2%
1O1−HBBH−4 (14−1) 4%
1O1−HBBH−5 (14−1) 4%
[組成例10]
3−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−8)12%

5−HB−CL (2−2)11%
3−HH−4 (12−1) 8%
3−HHB−1 (13−1) 5%
3−HHB(F,F)−F (3−3) 8%
3−HBB(F,F)−F (3−24)13%
5−HBB(F,F)−F (3−24)10%
3−HHEB(F,F)−F (3−12)10%
4−HHEB(F,F)−F (3−12) 3%
5−HHEB(F,F)−F (3−12) 3%
2−HBEB(F,F)−F (3−39) 3%
3−HBEB(F,F)−F (3−39) 5%
5−HBEB(F,F)−F (3−39) 3%
3−HHBB(F,F)−F (4−6) 6%
[組成例11]
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−29) 4%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 4%

3−HB−CL (2−2) 6%
5−HB−CL (2−2) 4%
3−HHB−OCF3 (3−1) 5%
3−H2HB−OCF3 (3−13) 5%
5−H4HB−OCF3 (3−19)14%
V−HHB(F)−F (3−2) 5%
3−HHB(F)−F (3−2) 5%
5−HHB(F)−F (3−2) 5%
3−H4HB(F,F)−CF3 (3−21) 8%
5−H4HB(F,F)−CF3 (3−21)10%
5−H2HB(F,F)−F (3−15) 5%
5−H4HB(F,F)−F (3−21) 7%
2−H2BB(F)−F (3−26) 3%
3−H2BB(F)−F (3−26) 5%
3−HBEB(F,F)−F (3−39) 5%
[組成例12]
3−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−8) 8%

5−HB−CL (2−2) 3%
7−HB(F)−F (2−3) 7%
3−HH−4 (12−1) 9%
3−HH−EMe (12−2)15%
3−HHEB−F (3−10) 8%
5−HHEB−F (3−10) 8%
3−HHEB(F,F)−F (3−12)10%
4−HHEB(F,F)−F (3−12) 5%
4−HGB(F,F)−F (3−103) 5%
5−HGB(F,F)−F (3−103) 6%
2−H2GB(F,F)−F (3−106) 4%
3−H2GB(F,F)−F (3−106) 5%
5−GHB(F,F)−F (3−109) 7%
[組成例13]
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−29) 5%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 5%

3−HH−4 (12−1) 8%
3−HHB−1 (13−1) 6%
3−HHB(F,F)−F (3−3) 10%
3−H2HB(F,F)−F (3−15) 9%
3−HBB(F,F)−F (3−24)15%
3−BB(F,F)XB(F,F)−F (3−97)25%
1O1−HBBH−5 (14−1) 7%
2−HHBB(F,F)−F (4−6) 3%
3−HHBB(F,F)−F (4−6) 3%
3−HH2BB(F,F)−F (4−15) 4%
[組成例14]
3−H1OB(2F)B(2F,3F)−O2 (1−1−8) 3%
5−H1OB(2F)B(2F,3F)−O4 (1−1−34) 5%

3−HB―CL (2−2)13%
3−HB−O2 (12−5)10%
3−PyB(F)−F (2−15)10%
5−PyB(F)−F (2−15)10%
3−HBB(F,F)−F (3−24) 7%
3−PyBB−F (3−80) 8%
3−PyBB−F (3−80) 7%
3−PyBB−F (3−80) 7%
5−HBB(F)B−2 (14−5)10%
5−HBB(F)B−3 (14−5)10%
本発明は、他の液晶材料との相溶性に優れ、大きなΔnの値を有し、負に大きなΔεを有する新規液晶性化合物を提供する。
また、本発明は、この液晶性化合物を成分として、その化合物を構成する環、置換基、結合基などを適当に選択することにより、所望の物性を有する上記の特徴を備えた新たな液晶組成物を提供し、さらにこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子を提供する。

Claims (16)

  1. 式(1)で表される化合物。

    Figure 0005526762
    [式中、RおよびRはそれぞれ独立して、炭素数1〜9のアルキル、または炭素数2〜9のアルケニル、炭素数1〜8のアルコキシ、または炭素数2〜8のアルケニルオキシであり;
    およびQはそれぞれ独立して、フッ素または塩素であり;
    およびQはそれぞれ独立して、水素、フッ素または塩素であり、QおよびQのいずれか一方は必ず水素であり、他方は必ずフッ素または塩素であり;
    Zは−CHO−または−COO−であり;
    hは1または2である。]
  2. 、QおよびQがフッ素であり、Qが水素である、請求項1に記載の化合物。
  3. 、QおよびQがフッ素であり、Qが水素である、請求項1に記載の化合物。
  4. Zが−CHO−である請求項2または3に記載の化合物。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載の化合物を少なくとも1つ含有することを特徴とする、2つ以上の化合物からなる液晶組成物。
  6. 式(2)、(3)および(4)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項5に記載の液晶組成物。

    Figure 0005526762
    [式中、Rは独立して炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
    は独立してフッ素、塩素、−OCF3、−OCHF2、−CF3、−CHF2、−CH2F、−OCF2CHF2または−OCF2CHFCF3であり;
    環A、環Aおよび環Aは独立して1,4−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、1−ピラン−2,5−ジイルまたは任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい1,4−フェニレンであり;
    およびZは独立して−(CH22−、−(CH24−、−COO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=CH−、−C≡C−、−CHO−または単結合であり;
    およびLは独立して水素またはフッ素である。]
  7. 式(5)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項5に記載の液晶組成物。

    Figure 0005526762
    [式中、Rは炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
    は−C≡Nまたは−C≡C−C≡Nであり;
    環B、環Bおよび環Bは独立して1,4−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、1−ピラン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイル、または任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい1,4−フェニレンであり;
    は−(CH22−、−COO−、−CF2O−、−OCF2−、−C≡C−、−CHO−または単結合であり;
    およびLは独立して水素またはフッ素であり;
    qは0、1または2であり、rは0または1であり、q+rは0、1または2である。]
  8. 式(6)、(7)、(8)、(9)、(10)および(11)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項5に記載の液晶組成物。

    Figure 0005526762
    [式中、RおよびRは独立して炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて任意の水素はフッ素で置き換えられてもよく、任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
    環C、環C、環Cおよび環Cは独立して1,4−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、6−ピラン−2,5−ジイルまたはデカヒドロ−2,6−ナフタレンであり;
    、Z、ZおよびZは独立して−(CH22−、−COO−、−CHO−、−OCF−、−OCF(CH22−または単結合であり;
    およびLは独立してフッ素または塩素であり;
    j、k、l、m、n、およびpは独立して0または1であり、k+l+m+nは1または2である。]
  9. 式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物を含有する、請求項5に記載の液晶組成物。

    Figure 0005526762
    [式中、RおよびRは独立して炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて任意の−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
    環D、環Dおよび環Dは独立して1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイル、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレンまたは2,5−ジフルオロ1,4−フェニレンであり;
    およびZは独立して−C≡C−、−COO−、−(CH22−、−CH=CH−または単結合である。]
  10. 請求項7に記載の式(5)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、請求項6に記載の液晶組成物。
  11. 請求項9に記載の式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、請求項6に記載の液晶組成物。
  12. 請求項9に記載の式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、請求項7に記載の液晶組成物。
  13. 請求項9に記載の式(12)、(13)および(14)のそれぞれで表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する、請求項8に記載の液晶組成物。
  14. 少なくとも1つの光学活性化合物および/または重合可能な化合物をさらに含有する、請求項5〜13のいずれか1項に記載の液晶組成物。
  15. 少なくとも1つの酸化防止剤および/または紫外線吸収剤をさらに含有する、請求項5〜14のいずれか1項に記載の液晶組成物。
  16. 請求項5〜15のいずれか1項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
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