JP5519649B2 - 官能化されたシランの形成法 - Google Patents
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Description
本出願は、2008年5月29日提出のMethod of Forming Functionalized Silanesなる表題の米国特許仮出願第61/130,271号の優先権の恩典を主張し、その開示は全体が参照により本明細書に組み入れられる。
本研究は、Defense Microelectronics Activityの助成番号DMEA H94003-08-2-0801およびNational Science Foundationの助成番号EPS-0447679によって一部助成を受けた。米国政府は本発明における支払い済みの実施権を有し、特定の限定された状況において、国防総省により与えられた助成の期間によって規定されるものを含む、妥当な期間、他者に実施権を付与するよう特許権者に要求する権利を有する。
ポリマーは電子材料の可撓層として評価の中心であったが、最近、より高い可動性を達成する手段として無機半導体へのプリント経路の開発に興味が持たれている。ロール・ツー・ロール製造環境において対費用効果の高いポリマー基板を用いるために、望ましい電気的性質を有する半導体への低温で大気圧の成膜経路が必要である。シクロヘキサシランなどの環式シランは、a-Si:H整流ダイオードおよび電界効果トランジスタへの液体シラン前駆体として有用であることが明らかにされている。液体環式シランは報告によるとアモルファスシリコンに変換し、続いて適当な条件下で結晶Siに変換することができる。初期の研究では、フィルム表面で集まる傾向のある、単純な無機ホウ素またはリン化合物をドーパントとして用いると、ドーパントの分布が不均一となる可能性が報告された。そのような不均一なドーピングは、得られる半導体フィルムの電気的性質が最適以下となる原因となりうる。シラン骨格に共有結合した1つまたは複数のヘテロ原子ドーパントを含む液体シランが入手可能であれば、他のシランとの良好な混和性を提供し、原子レベルでの混合および均一なドーパント分布が得られる可能性がある。
[先行技術文献]
・Wingeleth et al., Phosphorus and Sulfur and Related Elements, 39(1-2), 123-129 (1988).
・Norman et al., Inorg. Chem., 9(1), 98-103 (1970).
・Gokhale et al., Inorg. Chem., 3(8), 1141-1143 (1964)
・米国特許出願公開第2003/0229190号
・米国特許第6,541,354号
・米国特許第6,527,847号
本出願は、ヘテロ原子ドープシラン化合物およびそのような化合物の生成方法を目的とする。この方法は一般に、Si-E結合を有するドープシランを形成するためにハロゲン置換シランを求核試薬と反応させる段階を含み、ここで「E」は第13族、第14族、第15族および/または第16族元素から選択してもよい。ドープシランは望ましくは周囲温度かつ周囲圧の条件下(例えば、298℃、1気圧)で液体である。
SinHm-y(EHz)y
式中、nは3以上の整数であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;yは1からnまでの整数であり;zは2または3であり;かつEは第13族、第14族、第15族および/または第16族元素から選択される。
SinHm-y(PH2)y
式中、nは3以上の整数(一般には3から10)であり;mは2n-2または2nであり;かつyは1からnまでの整数である。
SinHm-y(PH2)y
式中、nは3以上の整数であり;mは2n+2であり;かつyは1からnまでの整数である。
SinHm-yXy
式中、nは3以上の整数(一般には約3から10)であり;mは2n-2から2nまでの整数であり;yは1または2であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。適当な例には、シクロトリシラン、シクロペンタシラン、シクロヘキサシラン、シリルシクロペンタシラン、シリルシクロヘキサシランおよびスピロ[4.4]ノナシランのモノまたはジハロゲン化誘導体が含まれる。
SinHm-yXy
式中、nは3以上の整数(一般には約3から10)であり;mは2n-2または2nであり;yは1または2であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。この方法は、式:SinHm-yXyを有するハロ-シランを提供するために環式シラン(例えば、単環式または二環式のいずれか)をハロゲン化剤と反応させる段階を含む:
式中、nは3以上の整数(一般には約3から10であり;mは2n-2から2nまでの整数であり;yは1または2であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。適当なハロゲン化剤の例にはAgCl、HgCl2、HgBr2、N-クロロスクシンイミド(「NCS」)、N-ブロモスクシンイミド(「NBS」)、SnCl4およびヨウ素(I2)が含まれる。
[本発明1001]
下記の式を有するドープシラン:
Si n H m-y (PH 2 ) y
式中、nは3以上の整数であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;かつyは1からnまでの整数である。
[本発明1002]
下記の式を有する環式化合物である、本発明1001のドープシラン:
Si n H m-y (PH 2 ) y
式中、nは3から10までの整数であり;mは2n-2または2nであり;かつyは1からnまでの整数である。
[本発明1003]
nが3から10までの整数である、本発明1001のドープシラン。
[本発明1004]
シクロトリシランに結合している1つまたは2つの-PH 2 部分を有する該シクロトリシランである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1005]
シクロペンタシランに結合している1つまたは2つの-PH 2 部分を有する該シクロペンタシランである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1006]
シクロヘキサシランに結合している1つまたは2つの-PH 2 部分を有する該シクロヘキサシランである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1007]
シリルシクロペンタシランに結合している1つまたは2つの-PH 2 部分を有する該シリルシクロペンタシランである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1008]
シリルシクロヘキサシランに結合している1つまたは2つの-PH 2 部分を有する該シリルシクロヘキサシランである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1009]
スピロ[4.4]ノナシランに結合している1つまたは2つの-PH 2 部分を有する該スピロ[4.4]ノナシランである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1010]
周囲温度かつ周囲圧の条件下(例えば、298℃、1気圧)で液体である、本発明1001のドープシラン。
[本発明1011]
mが2nである、本発明1001のドープシラン。
[本発明1012]
mが2n-2である、本発明1001のドープシラン。
[本発明1013]
mが2n+2である、本発明1001のドープシラン。
[本発明1014]
式:Si 6 H 11 (PH 2 )を有する、本発明1001のドープシラン。
[本発明1015]
式:Si 6 H 10 (PH 2 ) 2 を有する、本発明1001のドープシラン。
[本発明1016]
式:Si 5 H 9 (PH 2 )を有する、本発明1001のドープシラン。
[本発明1017]
式:Si 5 H 8 (PH 2 ) 2 を有する、本発明1001のドープシラン。
[本発明1018]
下記の式を有するヘテロ原子ドープシラン:
Si n H m-y (P(SiH 3 ) 2 ) y
式中、nは3から10までの整数であり;mは2n-2または2nであり;かつyは1または2である。
[本発明1019]
下記の式を有するヘテロ原子ドープシラン:
Si n H 2n-y (P(SiH 3 ) 2 ) y
式中、nは3から7までの整数であり;かつyは1または2である。
[本発明1020]
下記の式を有するハロゲン置換環式シラン:
Si n H m-y X y
式中、nは3以上の整数(一般には3から10)であり;mは2n-2または2nであり;yは1または2であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。
[本発明1021]
ドープシランの調製方法であって、
式:Si n H m-y (PH 2 ) y を有するヘテロ原子ドープシランを提供するためにSi n H m-y X y およびM(PH 2 ) z を含む混合物を反応させる段階を含み、
式中、nは3以上の整数であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;yは1からnまでの整数であり;zは1から4までの整数であり;Xはそれぞれ独立にハロゲン原子であり;かつMは金属原子含有部分である、方法。
[本発明1022]
Mがアルカリ金属である、本発明1021の方法。
[本発明1023]
M(PH 2 ) z がLiPH 2 、NaPH 2 、KPH 2 、LiAl(PH 2 ) 4 、またはNaAl(PH 2 ) 4 である、本発明1021の方法。
[本発明1024]
ドープシランの調製方法であって、
式:Si n H m-y (PRSiH 3 ) y を有するヘテロ原子ドープシランを提供するためにSi n H m-y X y およびM * PRSiH 3 を含む混合物を反応させる段階を含み、
式中、nは3以上の整数であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;yは1からnまでの整数であり;M * はアルカリ金属であり;RはHまたはSiH 3 であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す、方法。
[本発明1025]
M * PRSiH 3 がLiPHSiH 3 および/またはLiP(SiH 3 ) 2 である、本発明1024の方法。
[本発明1026]
ドープシランの調製方法であって、
式:Si n H m-y (P(SiH 3 ) 2 ) y を有するヘテロ原子ドープシランを提供するためにSi n H m-y X y およびM * P(SiH 3 ) 2 を含む混合物を反応させる段階を含み、
式中、nは3以上の整数であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;yは1からnまでの整数であり;M * はアルカリ金属(例えばLi)であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す、方法。
[本発明1027]
ハロゲン原子が臭素および/または塩素原子である、本発明1026の方法。
本ヘテロ原子ドープシラン化合物は、ドープシランを形成するためにハロゲン置換シランを求核試薬と反応させることにより生成してもよい。例えば、ハロゲン化シランをリン含有求核剤と反応させて、Si-P結合を含む化合物を形成してもよい。得られる生成物、すなわちリンドープシランは、望ましくは周囲温度かつ周囲圧(例えば、298℃、1気圧)で液体である。
シクロトリシランに結合している1個または2個のハロゲン原子を有する該シクロトリシラン;
シクロペンタシランに結合している1個または2個のハロゲン原子を有する該シクロペンタシラン;
シクロヘキサシランに結合している1個または2個のハロゲン原子を有する該シクロヘキサシラン;
シリルシクロペンタシランに結合している1個または2個のハロゲン原子を有する該シリルシクロペンタシラン;
シリルシクロヘキサシランに結合している1個または2個のハロゲン原子を有する該シリルシクロヘキサシラン;および
スピロ[4.4]ノナシランに結合している1個または2個のハロゲン原子を有する該スピロ[4.4]ノナシラン。
AgCl、HgCl2、HgBr2、SnCl4、I2、N-クロロスクシンイミド(「NCS」)、およびN-ブロモスクシンイミド(「NBS」)。
LiPH2、NaPH2、KPH2、LiAl(PH2)4、NaAl(PH2)4、LiHPSiH3、LiP(SiH3)2およびLiAl(PHSiH3)4。
所望のクロロシラン生成物、Si6H12-nCln(n=1、2)を下記のとおりに調製した:2mLの塩化メチレン(CH2Cl2)中に185.5mg(1.03mmol、1.00当量)のシクロヘキサシラン、Si6H12を溶解し、これに過剰量(515.4mg、3.60mmol、3.50当量)の塩化銀、AgClを固体で激しく撹拌しながら加えた。銀化合物は光感受性であるため、反応混合物を暗所で撹拌した。室温(25℃)で3.5時間撹拌した後、反応混合物は金属銀、Ag0の形成を示す暗灰色であった。この混合物をろ過して灰色沈澱(ppt)を除去し、無色澄明の溶液を得た。この生成物溶液をGC-MSで分析し(図1参照)、Si6H12の69.1%がモノクロロシクロヘキサシラン、Si6H11Clに変換され、11.8%がジクロロシクロヘキサシラン、Si6H1OCl2に変換されたことが確立された。したがって、Si6H12出発原料の19.1%は未反応のままであった。
所望のクロロシラン生成物、Si6H12-nCln(n=1、2)を下記のとおりに調製した:5mLのCH2Cl2中に217.5mg(1.20mmol、1.00当量)のSi6H12を溶解し、これに過剰量(1.31g、4.81mmol、4.00当量)の塩化水銀(II)、HgCl2を固体で激しく撹拌しながらゆっくり加えた。最初、観察可能な反応は認められず、したがって、反応混合物を撹拌した。夜の間に液体水銀が生じ、所望の反応が起こったことを示唆した。溶液混合物をろ過して未反応のHgCl2を除去した。これは、生じた液体水銀副生成物から溶液混合物を注意深くデカンテーションすることにより行った。ろ過後、ろ液は無色澄明溶液となった。生成物溶液をGC-MSで分析し(図2参照)、Si6H12の91.5%がSi6H11Clに変換され、7.6%がSi6H1OCl2に変換されたことが結論づけられた。したがって、0.9%の未反応Si6H12が残っていた。
所望のクロロシラン生成物、Si6H12-nCln(n=1、2)を下記のとおりに調製した:まず100mLフラスコ内の30mLのCH2Cl2中に2.40g(13.33mmol)のSi6H12を溶解した。次いで、この溶液を-10℃に冷却し、その時点で過剰のSnCl4(5.20g、20mmol)を混合物に加えた。反応物を2分間激しく撹拌し、次いでフリーザー(-10℃)内で2日間保存した。生じた白色沈澱をろ去し、ろ液を減圧下で蒸留して、無色の液体1.8gを得た。液体生成物をGC-MSで分析し、Si6H12の65%がSi6H11Clに変換され、5%がSi6H1OCl2に変換されたことが結論づけられた。したがって、30%の未反応Si6H12が残っていた。
NaAl(PH2)4を下記のとおりに調製した:2mLのジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグリム)中に懸濁した50.4mgのNaPH2(0.90mmol、1.00当量)を1mLに溶解した30.8mgのAlCl3(0.231mmol、3.90当量)と反応させ、混濁白色スラリーを生じた。この白色沈澱は塩化ナトリウム、NaClの形成に一致した。バイアルを3×1mLのジグリムで洗浄することによりAlCl3を定量的に移して6mLの混合物とし、これを終夜撹拌した。終夜撹拌した後、反応混合物をろ過して淡黄色澄明ろ液および白色固体を得た。固体を3×1mLのジグリムで洗浄して所望の生成物を溶液に定量的に移した。このNaAl(PH2)4の溶液を撹拌しながら、これに103μLのクロロジメチルシラン(0.852g/mL、0.93mmol、4.01当量)、HSiMe2Clをマイクロシリンジにより加え、混濁溶液を生じた。混濁はNaCl副生成物の形成によるものであった。混合物を10分間撹拌した後、ろ過し、淡黄色の生成物溶液を得た。この生成物ろ液をGC-MSで分析し(図3)、所望のH2PHSiMe2のSi-P含有生成物の形成が示された。
以下、本明細書に記載する対象物のいくつかの例示的態様に言及する。以下の態様は本明細書に記載する対象物の様々な特徴、特性、および利点を含みうる例示的態様を記載する。したがって、以下の態様は可能な態様すべてを包括するものと考えられるべきではなく、またはそうではなく、本明細書に記載する方法、材料およびコーティングの範囲を限定すると考えられるべきではない。
またはSinH2n-yXyをNaAl(PH2)4と反応させる段階;例えば、
Si6H11ClをNaAl(PH2)4と;
Si5H9ClをNaAl(PH2)4と;
Si3H5ClをNaAl(PH2)4と;または
Si7H13ClをNaAl(PH2)4と反応させる段階を含んでいてもよい。
SinHm-y(PH2)y
式中、nは3以上の整数であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;かつyは1からnまでの整数であり、しばしばyは1または2である。本ヘテロ原子ドープシラン化合物は、望ましくは下記の式の1つまたは複数を有する化合物を含んでいてもよい:
Si6H11(PH2);
Si6H10(PH2)2;
Si5H9(PH2);および
Si5H8(PH2)2。
SinHm-y(PH2)y
式中、nは3から10までの整数であり;mは2n-2または2nであり;かつyは1からnまでの整数である。
SinHm-y(P(SiH3)2)y
式中、nは3以上の整数(典型的には3から10)であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;かつyは1からnまでの整数(しばしば望ましくは1または2)である。
SinHm-y(PHSiH3)y
式中、nは3以上の整数(典型的には3から10)であり;mは2n-2から2n+2までの整数であり;かつyは1からnまでの整数(しばしば望ましくは1または2)である。
SinHm-yXy
式中、nは3以上の整数(一般には3から10)であり;mは2nまたは2n-2であり;yは1または2であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。適当な例には下記が含まれる:
nが3であり;mが6であり;yが1であり;かつXが塩素原子である、ハロゲン置換環式シラン;
nが5であり;mが10であり;yが1であり;かつXが塩素原子である、ハロゲン置換環式シラン;
nが6であり;mが12であり;yが1であり;かつXが塩素原子である、ハロゲン置換環式シラン;または
nが7であり;mが14であり;yが1であり;かつXが塩素原子である、ハロゲン置換環式シラン。
nが3であり;mが6であり;yが1であり;かつXが臭素原子である、ハロゲン置換環式シラン;
nが5であり;mが10であり;yが1であり;かつXが臭素原子である、ハロゲン置換環式シラン;
nが6であり;mが12であり;yが1であり;かつXが臭素原子である、ハロゲン置換環式シラン;または
nが7であり;mが14であり;yが1であり;かつXが臭素原子である、ハロゲン置換環式シラン。
クロロシクロペンタシランおよび/またはジクロロシクロペンタシラン;
クロロシクロヘキサシランおよび/またはジクロロシクロヘキサシラン;
シリルシクロヘキサシランのモノクロロおよび/またはジクロロ誘導体;
シリルシクロペンタシランのモノクロロおよび/またはジクロロ誘導体;
スピロ[4.4]ノナシランのモノクロロおよび/またはジクロロ誘導体;
1および/または2つの塩素置換基を有するシリルシクロペンタシラン;
1および/または2つの塩素置換基を有するスピロ[4.4]ノナシラン;
1および/または2つの塩素置換基を有するシリルシクロヘキサシラン;
1および/または2つの塩素置換基を有するシクロヘキサシラン;
1および/または2つの塩素置換基を有するシクロペンタシラン;ならびに
1および/または2つの塩素置換基を有するシクロトリシラン。
ブロモシクロペンタシランおよび/またはジブロモシクロペンタシラン;
ブロモシクロヘキサシランおよび/またはジブロモシクロヘキサシラン;
シリルシクロヘキサシランのモノブロモおよび/またはジブロモ誘導体;
シリルシクロペンタシランのモノブロモおよび/またはジブロモ誘導体;
スピロ[4.4]ノナシランのモノブロモおよび/またはジブロモ誘導体;
1および/または2つの臭素置換基を有するシリルシクロペンタシラン;
1および/または2つの臭素置換基を有するスピロ[4.4]ノナシラン;
1および/または2つの臭素置換基を有するシリルシクロヘキサシラン;
1および/または2つの臭素置換基を有するシクロヘキサシラン;
1および/または2つの臭素置換基を有するシクロペンタシラン;ならびに
1および/または2つの臭素置換基を有するシクロトリシラン。
Claims (19)
- 下記の式を有する環式ドープシラン:
SinHm−y(PR’R)y
式中、nは3以上の整数であり;mは2nまたは2n−2であり;RおよびR’は独立にHまたはSiH3であり;かつyは1からnまでの整数である。 - 下記の式を有する環式化合物である、請求項1記載のドープシラン:
SinHm−y(PH2)y
式中、nは3から10までの整数である。 - 置換シクロペンタシラン、置換シクロヘキサシラン、置換シリルシクロペンタシラン、置換シリルシクロヘキサシラン、または置換スピロ[4.4]ノナシランであり;−PR’Rが−PH2であり;かつyが1である、請求項2記載のドープシラン。
- 式:Si6H11(PH2)を有する、請求項2記載のドープシラン。
- 式:Si5H9(PH2)を有する、請求項2記載のドープシラン。
- 298℃、1気圧で液体である、請求項1記載のドープシラン。
- mが2nである、請求項1記載のドープシラン。
- yが1または2である、請求項1記載のドープシラン。
- 下記の式を有する請求項1記載のドープシラン:
SinHm−y(P(SiH3)R)y
式中、nは3から10までの整数であり;mは2n−2または2nであり;RはHまたはSiH3であり;かつyは1または2である。 - 下記の式を有する請求項1記載のドープシラン:
SinH2n−y(P(SiH3)2)y
式中、nは3から7までの整数であり;かつyは1または2である。 - 請求項8記載のドープシランの調製方法であって、
SinHm−yXyおよびM(PR’R)zを含む混合物を反応させて、式:Si n H m−y (PR’R) y を有するヘテロ原子ドープシランを提供する段階を含み、
式中、nは3〜10の整数であり;mは2nまたは2n−2であり;yは1または2であり;Zは1〜4の整数であり;Xはそれぞれ独立にハロゲン原子であり;RおよびR’は独立にHまたはSiH3であり;かつMは金属原子含有部分である、方法。 - 反応させる段階が、
SinHm−yXyおよびM*PRSiH3を含む混合物を反応させて、式:Si n H m−y (PRSiH 3 ) y を有するドープシランを提供する段階を含み、
式中、M*はアルカリ金属であり;かつXはそれぞれ独立に塩素原子または臭素原子を表す、請求項11記載の方法。 - M*PRSiH3がLiPHSiH3および/またはLiP(SiH3)2である、請求項12記載の方法。
- 反応させる段階が、
SinHm−yXyおよびM(PH2)zを含む混合物を反応させて、式:Si n H m−y (PH 2 ) y を有するドープシランを提供する段階を含み、
式中、zは1から4までの整数であり;かつMは金属原子含有部分である、請求項11記載の方法。 - M(PH2)zがLiPH2、NaPH2、KPH2、LiAl(PH2)4、またはNaAl(PH2)4である、請求項14記載の方法。
- nが5または6であり;mが2nであり;yが1であり;かつXが塩素原子である、請求項11記載の方法。
- 下記の式を有する環式シラン:
SinHm−yXy
式中、nは3から10の整数であり;mは2n−2または2nであり;yは1または2であり;かつXはそれぞれ独立にハロゲン原子を表す。 - yが1であり;かつXが塩素原子である、請求項17記載の環状シラン。
- nが5または6であり;かつmが2nである、請求項18記載の環式シラン。
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DE102013021306A1 (de) | 2013-12-19 | 2015-06-25 | Johann Wolfgang Goethe-Universität | Verfahren zum Herstellen von linearen, cyclischen und/oder käfigartigen perhalogenierten Oligo- und Polysilyl-Anionen |
JP7055674B2 (ja) * | 2018-03-15 | 2022-04-18 | 株式会社日本触媒 | ポリシラン組成物、及びヘテロ元素導入ポリシラン組成物の製造方法 |
US11649560B2 (en) * | 2019-06-20 | 2023-05-16 | Applied Materials, Inc. | Method for forming silicon-phosphorous materials |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4447633A (en) * | 1983-06-14 | 1984-05-08 | North Dakota State University | Ultrasonically promoted hydrosilations |
JPS6060915A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-08 | Tokuyama Soda Co Ltd | 低ハロゲン化シランまたはモノシランの製造方法 |
JPS6060916A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-08 | Tokuyama Soda Co Ltd | 低ハロゲン化シランまたはモノシランの製造方法 |
US4683147A (en) * | 1984-04-16 | 1987-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of forming deposition film |
US4657777A (en) * | 1984-12-17 | 1987-04-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Formation of deposited film |
US4695331A (en) * | 1985-05-06 | 1987-09-22 | Chronar Corporation | Hetero-augmentation of semiconductor materials |
US4910153A (en) * | 1986-02-18 | 1990-03-20 | Solarex Corporation | Deposition feedstock and dopant materials useful in the fabrication of hydrogenated amorphous silicon alloys for photovoltaic devices and other semiconductor devices |
JPS62232116A (ja) * | 1986-04-01 | 1987-10-12 | Hitachi Metals Ltd | 水素化アモルフアスシリコン及びその製造方法 |
US4841083A (en) * | 1987-06-03 | 1989-06-20 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Ladder polysilanes |
US4827009A (en) * | 1987-09-03 | 1989-05-02 | North Dakota State University | Hydrosilation process |
JP3878278B2 (ja) * | 1997-05-12 | 2007-02-07 | 株式会社トクヤマ | 燐含有量の少ない多結晶シリコンの製造方法 |
US5942637A (en) * | 1998-03-30 | 1999-08-24 | North Dakota State University Research Foundation | Compounds containing tetradecachlorocyclohexasilane dianion |
DE60041569D1 (de) * | 1999-03-30 | 2009-04-02 | Seiko Epson Corp | Herstellungsverfahren für eine solarzelle |
TW486824B (en) * | 1999-03-30 | 2002-05-11 | Seiko Epson Corp | Method of manufacturing thin-film transistor |
KR100436319B1 (ko) * | 1999-03-30 | 2004-06-18 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 실리콘 막의 형성방법 |
EP1092755A4 (en) * | 1999-03-30 | 2004-12-22 | Jsr Corp | COATING COMPOSITION |
KR100420441B1 (ko) | 1999-03-30 | 2004-03-04 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 실리콘막 형성 방법 및 잉크 젯용 잉크 조성물 |
DE60128611T2 (de) * | 2000-03-13 | 2008-01-31 | Jsr Corp. | Cyclosilan, eine flüssige Zusammensetzung und ein Verfahren zur Bildung eines Silicium-Films |
JP3745959B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2006-02-15 | セイコーエプソン株式会社 | シリコン薄膜パターンの形成方法 |
AU2002306436A1 (en) * | 2001-02-12 | 2002-10-15 | Asm America, Inc. | Improved process for deposition of semiconductor films |
KR100627203B1 (ko) * | 2001-08-14 | 2006-09-22 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 실란 조성물, 실리콘막의 형성법 및 태양 전지의 제조법 |
JP2003313299A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-06 | Seiko Epson Corp | 高次シラン組成物及び該組成物を用いたシリコン膜の形成方法 |
US7473443B2 (en) * | 2002-08-23 | 2009-01-06 | Jsr Corporation | Composition for forming silicon film and method for forming silicon film |
JP4042685B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2008-02-06 | セイコーエプソン株式会社 | トランジスタの製造方法 |
US7879696B2 (en) * | 2003-07-08 | 2011-02-01 | Kovio, Inc. | Compositions and methods for forming a semiconducting and/or silicon-containing film, and structures formed therefrom |
US7498015B1 (en) * | 2004-02-27 | 2009-03-03 | Kovio, Inc. | Method of making silane compositions |
US7675926B2 (en) * | 2004-05-05 | 2010-03-09 | Cisco Technology, Inc. | Hierarchical QoS behavioral model |
US7531588B2 (en) * | 2004-07-30 | 2009-05-12 | Momentive Performance Materials Inc. | Silane compositions, processes for their preparation and rubber compositions containing same |
US7314513B1 (en) * | 2004-09-24 | 2008-01-01 | Kovio, Inc. | Methods of forming a doped semiconductor thin film, doped semiconductor thin film structures, doped silane compositions, and methods of making such compositions |
US7674926B1 (en) | 2004-10-01 | 2010-03-09 | Kovio, Inc. | Dopant group-substituted semiconductor precursor compounds, compositions containing the same, and methods of making such compounds and compositions |
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