JP5516456B2

JP5516456B2 - シールド付き電気絶縁ケーブル

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Publication number: JP5516456B2
Application number: JP2011038431A
Authority: JP
Inventors: 周岩崎; 明成中山
Original assignee: Hitachi Metals Ltd
Current assignee: Hitachi Metals Ltd
Priority date: 2011-02-24
Filing date: 2011-02-24
Publication date: 2014-06-11
Anticipated expiration: 2031-02-24
Also published as: US20120217035A1; JP2012174645A

Description

本発明は、金属編組に接する絶縁層を有するシールド付き電気絶縁ケーブルに関するものである。

図４は、従来のシールド付き電気絶縁ケーブルを示す断面図である。

図４に示すように、シールド付き電気絶縁ケーブル４０は、導体４１上に、内層セパレータ４２、絶縁層４３、中間セパレータ４４、金属編組４５、外層セパレータ４６、シース４７が順次形成されてなる。

従来、絶縁層４３に適用するゴム材料としては、クロロプレンゴムやフッ素ゴムをはじめとするハロゲンゴム、またはエチレン−プロピレンゴム、アクリルゴム、ブチルゴム、ニトリルゴムやシリコーンゴムなどのノンハロゲンゴムが用いられている。

このようなシールド付き電気絶縁ケーブル４０は、製造時に高温高圧下で架橋処理が施されるため、導体４１や金属編組４５に対する絶縁層４３やシース４７の密着を防止する必要があり、この密着を防止するために複数のセパレータを用いている。

特開昭６３−１２８５０９号公報特開２００８−８４８３３号公報

しかしながら、前述したようなシールド付き電気絶縁ケーブルは、セパレータを複数有することにより可撓性が低下したり、端末加工時にセパレータの一部が残留し、端末加工性が低下するといった問題があった。

この問題を防ぐためにセパレータを省略すると、導体や金属編組に絶縁層やシースが密着し、端末加工性が低下する。特に、絶縁層は金属編組の織目間に食い込み、金属編組の折り返し作業が困難となる。

金属との剥離性が良い材料としてフッ素ゴムが挙げられるが、フッ素ゴムを含むハロゲンゴムは燃焼などの廃棄時において、有害ガスを発生することがある。

一方、ノンハロゲンゴムは難燃性を付与するために水酸化マグネシウムなどをはじめとするノンハロゲン難燃剤を大量に添加する必要があり、機械的特性や耐熱性の低下を招くことがある。

また、ノンハロゲンゴムには耐熱性の良好なシリコーンゴムがあるが耐摩耗性が低いことに加え、高温下に曝されると低分子シロキサンが揮発し電気接点部に付着して接点不良の原因になることがある。

そこで、本発明の目的は、絶縁層と金属編組との密着を防止し、金属編組の折り返し作業が容易で、かつ高い耐熱性を有するシールド付き電気絶縁ケーブルを提供することにある。

この目的を達成するために創案された本発明は、金属編組に接する絶縁層を有するシールド付き電気絶縁ケーブルにおいて、前記絶縁層が、シリコーンゴム以外のノンハロゲンゴム１００質量部に対し、ヒンダードフェノール化合物とチオエーテル化合物とからなる添加物を１〜２０質量部含むノンハロゲン架橋ゴムからなるシールド付き電気絶縁ケーブルである。

前記絶縁層の２００℃における酸化誘導期が１０分以上であると良い。

前記絶縁層は０．１ｍｍ以上の厚みを有すると良い。

本発明によれば、絶縁層と金属編組との密着を防止し、金属編組の折り返し作業が容易で、かつ高い耐熱性を有するシールド付き電気絶縁ケーブルを提供することができる。

本発明に係るシールド付き電気絶縁ケーブルを示す断面図である。剥離強度とレオメータトルクの関係を示す図である。耐熱性の評価と酸化誘導期の関係を示す図である。従来のシールド付き電気絶縁ケーブルを示す断面図である。

以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面にしたがって説明する。

図１は、本発明の好適な実施の形態に係るシールド付き電気絶縁ケーブルを示す断面図である。

図１に示すように、本実施の形態に係るシールド付き電気絶縁ケーブル１０は、導体１１上に、内層セパレータ１２、内層絶縁層１３、外層絶縁層１４、金属編組１５、外層セパレータ１６、シース１７が順次形成されたものであり、金属編組１５に接する絶縁層（即ち、外層絶縁層１４）を有する。

導体１１及び金属編組１５の表面には、錫めっき、ニッケルめっき、銀めっき、金めっきなどが施されることが好ましい。これにより、耐熱性をより向上させることができる。

内層セパレータ１２、外層セパレータ１６の材料としては、ナイロンやポリエステルなどの樹脂、または紙や布などが挙げられる。

内層絶縁層１３の材料については特に限定しないが、後述する外層絶縁層１４と同様の材料で形成することにより、耐熱性を向上させることができる。

さて、本実施の形態に係るシールド付き電気絶縁ケーブル１０は、外層絶縁層１４が、シリコーンゴム以外のノンハロゲンゴム１００質量部に対し、ヒンダードフェノール化合物とチオエーテル化合物とからなる添加物を１〜２０質量部含むノンハロゲン架橋ゴムからなることを特徴とする。

以下、外層絶縁層１４に好適なノンハロゲン架橋ゴムについて述べる。

ケーブルシース架橋処理時に高温高圧環境下となるため、金属編組１５に接触した架橋後の絶縁層（即ち、外層絶縁層１４）の粘度が低いと、絶縁層は金属編組１５の織目間に食い込み、金属編組１５の折り返し作業が困難となる。ここで、架橋後の粘度の指標としてレオメータトルクを適用することが可能である。

外層絶縁層１４の材料において、レオメータトルクが１０ｄＮ・ｍ未満だと金属編組の折り返し作業が困難となるため、外層絶縁層１４の材料のレオメータトルクとしては１０ｄＮ・ｍ以上が好ましく、この特性はノンハロゲンゴムをベースとすることで達成可能である。

レオメータトルクを１０ｄＮ・ｍ以上得るノンハロゲンゴムは示差走査熱量計を用いて、結晶が融解する吸熱ピークが観測されない弾性体のことである。

これらの条件を満たすノンハロゲンゴムとしては、エチレン−プロピレン共重合体ゴム（ＥＰＲ）、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、水素添加ＮＢＲ（ＨＮＢＲ）、アクリルゴム、エチレン−アクリル酸エステル共重合体ゴム、エチレンオクテン共重合体ゴム（ＥＯＲ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体ゴム、エチレン−ブテン−１共重合体ゴム（ＥＢＲ）、ブタジエン−スチレン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、イソブチレン−イソプレン共重合体ゴム（ＩＩＲ）、ポリスチレンブロックを有するブロック共重合体ゴム、ウレタンゴム、ホスファゼンゴムなどが挙げられ、これらを単独で用いても良いし、２種以上を混合して用いても良い。

なお、結晶が融解する吸熱ピークが観測されるポリオレフィンなどは、一般的にノンハロゲンゴムより分子量が小さいためレオメータトルクが低く、１０ｄＮ・ｍ以上にすることが難しいため、本発明には不適である。

ノンハロゲンゴムに添加するヒンダードフェノール化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］、ベンゼンプロパン酸，３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ，Ｃ７−Ｃ９側鎖アルキルエステル、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリル）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）フェノール、ヒンダードフェノール、ヒンダードビスフェノールなどが挙げられる。

また、ノンハロゲンゴムに添加するチオエーテル化合物としては、例えば、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジトリデシル３，３’−チオジプロピオネート、含硫黄エステル系化合物、１，１’−チオビス（２−ナフトール）などがある。

これらヒンダードフェノール化合物とチオエーテル化合物とからなる添加物をノンハロゲンゴム１００質量部に対して１〜２０質量部添加するのは、１２０℃定格の耐熱性を付与するためである。つまり、ヒンダードフェノール化合物とチオエーテル系化合物の総量を１質量部以上用いないと良好な耐熱性を得ることができず、２０質量部より多いと難燃性が低下するためである。

特に、ヒンダードフェノール化合物の添加量は、０．１〜１９．９質量部、チオエーテル化合物の添加量は０．１〜１９．９質量部であることが好ましい。ヒンダードフェノール化合物はポリマラジカルの捕捉効果があり、チオエーテル系化合物はポリマ過酸化物の分解効果がある。１２０℃定格の耐熱性を付与するためにはこれらの相乗効果が必要となる。耐熱性を付与させるためにイミダゾール系化合物やリン系化合物が挙げられるが、これらは架橋阻害を引き起こす要因となる。

このような理由から、外層絶縁層１４の材料として、シリコーンゴム以外のレオメータトルクが１０ｄＮ・ｍ以上のノンハロゲンゴム１００質量部に対し、ヒンダードフェノール化合物とチオエーテル化合物とからなる添加物を１〜２０質量部含むノンハロゲン架橋ゴムを用いることが最も好適である。

また、架橋剤については特に規定はないが、例えば、有機過酸化物の場合、ノンハロゲンゴム１００質量部に対し、１〜５質量部が好ましく、十分に架橋が進行するのに必要な量であれば良い。

更に、外層絶縁層１４の難燃性を高めるために、難燃剤を添加することができる。難燃剤は水酸化マグネシウムや水酸化アルミニウムなどの金属水酸化物系難燃剤、メラミンシアヌレートなどのチッ素系難燃剤、赤リンやリン酸エステルなどのリン系難燃剤、ヒドロキシスズ酸亜鉛やホウ酸亜鉛などの亜鉛系難燃剤などが挙げられ、これらを単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。難燃剤は分散性などを考慮し、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、ステアリン酸などの脂肪酸などによって表面処理を施すことができる。

これらの材料で構成された外層絶縁層１４には必要に応じて架橋剤、架橋助剤、紫外線吸収剤、光安定剤、軟化剤、滑剤、着色剤、補強剤、界面活性剤、無機充てん剤、カップリング剤、可塑剤、金属キレート剤、発泡剤、相溶化剤、加工助剤、安定剤などを添加することができる。

また、外層絶縁層１４の２００℃における酸化誘導期が１０分以上であることが好ましく、外層絶縁層１４は０．１ｍｍ以上の厚みを有することが好ましい。これは、外層絶縁層１４の２００℃における酸化誘導期が１０分未満では十分な耐熱性を得ることができず、また、外層絶縁層１４が０．１ｍｍ未満だと耐熱性を確保できないためである。

この外層絶縁層１４の架橋処理は常法に従い有機過酸化物、硫黄化合物、アミン化合物、シラングラフト水架橋などの化学架橋や電子線照射架橋などが適用可能である。

以上説明した本発明によれば、中間セパレータを省略しても、絶縁層と金属編組との密着を防止し、金属編組の折り返し作業が容易で、かつ高い耐熱性を有するシールド付き電気絶縁ケーブルを提供することができる。

なお、本実施の形態においては、絶縁層を内層絶縁層１３と外層絶縁層１４からなる２層構造とし、このうち外層絶縁層１４の材料を規定することで本発明の目的を達成するものとしたが、絶縁層を１層構造とし、その材料に本発明で規定した条件を満たすノンハロゲン架橋ゴムを用いることも可能である。

図１に示した構造のシールド付き電気絶縁ケーブルを作製し、レオメータトルク、密着性、耐熱性、酸化誘導期、難燃性について評価した。

（シールド付き電気絶縁ケーブルの作製）
導体には錫めっき銅素線を用いた。導体サイズは３５ＳＱであり、導体構成は親撚り本数／子撚り本数／素線径（ｍｍ）＝１９／３５／０．２６とした。

導体の上に厚さ３８μｍ、幅２５ｍｍのポリエチレンテレフタレートテープを内層セパレータとして１／４ラップで巻いた。

内層絶縁層および外層絶縁層は、表１，２に示す配合を適用した。内層絶縁層および外層絶縁層は４．５インチ連続蒸気架橋押出機で２層押出を行い、２層の合計肉厚が１ｍｍになるように被覆した。架橋は１．８ＭＰａの高圧蒸気を用いて５分間行った。

金属編組は素線径０．１２ｍｍの錫めっき銅素線を用い、絶縁層上に編組密度９０％以上となるように成形した。

外層セパレータとして厚さ３８μｍ、幅２５ｍｍのポリエチレンテレフタレートテープを１／４ラップで巻いた。

シースは、表１，２に示す配合を絶縁層同様に４．５インチ連続蒸気架橋押出機で被覆した。架橋は１．８ＭＰａの高圧蒸気を用いて５分間実施し、シールド付き電気絶縁ケーブルを作製した。

（特性評価）
レオメータトルクの評価は、ＪＩＳＫ６３００に準拠して試験温度１９２℃、１０分間の最大トルク値を測定して行った。

外層絶縁層と金属編組との密着性の評価は、外層絶縁層と金属編組を接触させたまま１２．５ｍｍ幅に切り出し、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎのＴ字剥離試験で剥離強度を測定した。剥離強度０．５Ｎ／ｍｍ以下の場合、金属編組の折り返し作業が容易であるため、剥離強度０．５Ｎ／ｍｍ以下を合格（○）、０．５Ｎ／ｍｍを超える場合を不合格（×）とした。

耐熱性の評価は、シールド付き電気絶縁ケーブルを４５０ｍｍに切断し、１２０℃で１００００時間熱処理後、φ４５ｍｍマンドレルに１ターン巻きつけ、シース、外層セパレータ、金属編組を取除き、外層絶縁層を観察することにより行った。外層絶縁層が割れた場合を×、割れなかったものを○とした。割れなかった場合、さらにφ９ｍｍマンドレルに１ターン巻きなおし、割れなかった場合を◎とした。◎と○を合格とし、×を不合格とした。

酸化誘導期の評価はシース、外層セパレータ、金属編組を取除き、外層絶縁層を５ｍｇ採取し、示差走査熱量計を用いて２００℃環境下で発熱開始するまでの時間を測定して行った。１０分以上経過してから発熱反応を開始したものを合格とし、それより早く反応を開始したものを不合格とした。

難燃性の評価は、ＩＳＯ６７２２に準拠し、７０秒以内に自己消火するものは○とし、７０秒を超えて燃焼し続けるものは×とした。

総合評価としては、耐熱性の評価で◎、かつ他の評価で合格のものを◎、耐熱性の評価で○、かつ他の評価で合格のものを○、いずれかが不合格となったものを×とした。

また、実施例および比較例で示した剥離強度とレオメータトルクの関係を図２に示し、耐熱性の評価と酸化誘導期の関係を図３に示した。これらの図からレオメータトルク、および酸化誘導期の値を規定範囲とすることで、課題を解決できることがわかる。以下、実施例について詳述する。

（実施例１〜４）
内層絶縁層、外層絶縁層、シースにおいて、ＥＰＤＭとしてＥＰＴ１０４５（三井化学製）、難燃剤として水酸化マグネシウム（キスマ５Ｌ、協和化学工業製）、有機過酸化物として１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（化薬アクゾ製、パーカドックス１４）、架橋助剤として亜鉛華３号（堺化学工業製）、ヒンダードフェノール化合物としてペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（チバ・ジャパン製、イルガノックス１０１０）、チオエーテル化合物としてペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）（シプロ化成製、シーノックス４１２Ｓ）、滑剤としてオレイン酸アマイドを表１に示した配合で、５５Ｌニーダを用いて、コンパウンドを作製した。得られたコンパウンドを図１に示したシールド付き電気絶縁ケーブル形状に押出成形した。

その結果を表１に示す。どの評価においても良好な結果が得られたため総合評価で◎または○とした。

（実施例５，６）
内層絶縁層およびシースは実施例１〜４と同様にコンパウンドを作製した。外層絶縁層において、ＨＮＢＲとしてゼットポール２０１０Ｌ（日本ゼオン製）、難燃剤として水酸化マグネシウム（キスマ５Ｌ、協和化学工業製）、有機過酸化物として１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン（化薬アクゾ製、パーカドックス１４）、架橋助剤として亜鉛華３号（堺化学工業製）、ヒンダードフェノール化合物としてペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（チバ・ジャパン製、イルガノックス１０１０）、チオエーテル化合物としてペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）（シプロ化成製シーノックス４１２Ｓ）、滑剤としてオレイン酸アマイドを表１に示した配合で、５５Ｌニーダを用いて、コンパウンドを作製した。得られたコンパウンドを図１に示したシールド付き電気絶縁ケーブル形状に押出成形した。

（比較例１）
内層絶縁層およびシースにおいて、ＥＰＤＭ１００質量部、水酸化マグネシウム１００質量部、１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン２質量部、亜鉛華３号２質量部、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．５質量部、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）０．５質量部、オレイン酸アマイド１質量部をコンパウンドに作製した。外層絶縁層において、エチレン−エチルアクリレート共重合体（ＭＦＲ：０．４ｇ／１０ｍｉｎ、エチルアクリレート含有量：１０ｍａｓｓ％）１００質量部、水酸化マグネシウム１００質量部、１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン２質量部、亜鉛華３号２質量部、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．５質量部、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）０．５質量部、オレイン酸アマイド１質量部をコンパウンドに作製した。得られたコンパウンドを図１に示したシールド付き電気絶縁ケーブル形状に押出成形した。

その結果を表２に示す。耐熱性、難燃性については良好であったが、レオメータトルクが４．１ｄＮ・ｍであった。金属編組に外層絶縁層が食い込み、剥離強度が０．５Ｎ／ｍｍ以上であり金属編組の折り返し作業が困難であると判断し、総合評価で×とした。

（比較例２）
内層絶縁層およびシースにおいて、比較例１と同様にコンパウンドを作製した。外層絶縁層において、ポリエチレン（密度：９２４ｋｇ／ｍ³、ＭＦＲ：０．２ｇ／１０ｍｉｎ）１００質量部、水酸化マグネシウム１００質量部、１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン２質量部、亜鉛華３号２質量部、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を０．５質量部、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）０．５質量部、オレイン酸アマイド１質量部をコンパウンドに作製した。得られたコンパウンドを図１に示したシールド付き電気絶縁ケーブル形状に押出成形した。

その結果を表２に示す。耐熱性、難燃性については良好であったが、レオメータトルクが３．３ｄＮ・ｍであった。金属編組に外層絶縁層が食い込み、剥離強度が０．５Ｎ／ｍｍ以上であり金属編組の折り返し作業が困難であると判断し、総合評価で×とした。

（比較例３）
内層絶縁層およびシースにおいて、比較例１と同様にコンパウンドを作製した。外層絶縁層において、ＥＰＤＭ１００質量部、水酸化マグネシウム１００質量部、１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン２質量部、亜鉛華３号２質量部、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を０．４質量部、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）０．５質量部、オレイン酸アマイド１質量部をコンパウンドに作製した。得られたコンパウンドを図１に示したシールド付き電気絶縁ケーブル形状に押出成形した。

その結果を表２に示す。密着性および難燃性については良好であったが、酸化誘導期は９分で耐熱性試験においてクラックが発生したため、総合評価で×とした。

（比較例４）
内層絶縁層およびシースにおいて、比較例１と同様にコンパウンドを作製した。外層絶縁層において、ＥＰＤＭ１００質量部、水酸化マグネシウム１００質量部、１，３−ビス（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン２質量部、亜鉛華３号２質量部、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を１１質量部、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）１０質量部、オレイン酸アマイド１質量部をコンパウンドに作製した。得られたコンパウンドを図１に示したシールド付き電気絶縁ケーブル形状に押出成形した。

その結果を表２に示す。密着性および耐熱性については良好であったが、難燃性試験において７０秒よりも長く燃焼し続けたため、総合評価で×とした。

以上より、本発明によれば、絶縁層と金属編組との密着を防止し、金属編組の折り返し作業が容易で、かつ高い耐熱性を有するシールド付き電気絶縁ケーブルを得られることが分かる。

１０シールド付き電気絶縁ケーブル
１１導体
１２内層セパレータ
１３内層絶縁層
１４外層絶縁層
１５金属編組
１６外層セパレータ
１７シース

Claims

金属編組に接する絶縁層を有するシールド付き電気絶縁ケーブルにおいて、
前記絶縁層が、シリコーンゴム以外のノンハロゲンゴム１００質量部に対し、ヒンダードフェノール化合物とチオエーテル化合物とからなる添加物を１〜２０質量部含むノンハロゲン架橋ゴムからなることを特徴とするシールド付き電気絶縁ケーブル。
前記絶縁層の２００℃における酸化誘導期が１０分以上である請求項１に記載のシールド付き電気絶縁ケーブル。
前記絶縁層は０．１ｍｍ以上の厚みを有する請求項１又は２に記載のシールド付き電気絶縁ケーブル。