JP5516023B2 - 位相差基板の製造方法および位相差基板、ならびに半透過液晶表示装置 - Google Patents
位相差基板の製造方法および位相差基板、ならびに半透過液晶表示装置 Download PDFInfo
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Description
前記平面体上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造をなしている液晶材料層を形成する成膜工程と、
前記液晶材料層の第1領域および第2領域に光を照射する第1の露光工程と、
第1の露光工程後の前記液晶材料層の第3領域および前記第2領域に、前記第1の露光工程より弱い露光効果が得られる条件で光を照射する第2の露光工程と、
第2の露光工程後の前記液晶材料層を、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、少なくとも前記第2領域および前記第3領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
前記配向の程度を低下させたまま、前記液晶材料層の未反応の前記サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させ、所定の複屈折率を有する第1領域と、前記第1領域より小さく、かつ互いに異なる複屈折率を有する第2領域および第3領域とを得る定着工程と、
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法が提供される。
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部および前記第2着色部に隣接し着色層のない第2非着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素とを有し、
前記固体化液晶層の形成は、
前記平面体上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造をなしている液晶材料層を形成する成膜工程と、
前記液晶材料層のうち、前記第1着色部の少なくとも一部に向き合う第1領域と、前記第1非着色部に向き合う第1サブ領域、前記第2着色部の少なくとも一部および前記第2非着色部に向き合う第2サブ領域、ならびに前記第3非着色部に向き合う第3サブ領域よりなる第2領域とに光を照射する第1の露光工程と、
第1の露光工程後の前記液晶材料層のうち、前記第3着色部の少なくとも一部に向き合う第3領域と、前記第2領域とに、前記第1の露光工程より弱い露光効果が得られる条件で光を照射する第2の露光工程と、
第2の露光工程後の前記液晶材料層を、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、少なくとも前記第2領域および前記第3領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
前記配向の程度を低下させたまま、前記液晶材料層の未反応の前記サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させ、所定の複屈折率を有する第1領域と、前記第1領域より小さく、かつ互いに異なる複屈折率を有する第2領域および第3領域とを得る定着工程と
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法が提供される。
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素と、前記第2着色画素に隣接して主として前記第2の着色層と同一の波長の光を透過し、前記第2の着色層より透過率の高い第4の着色層よりなる第4着色部を含む第4着色画素とを有し、
前記固体化液晶層の形成は、
前記平面体上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造をなしている液晶材料層を形成する成膜工程と、
前記液晶材料層のうち、前記第1着色部の少なくとも一部に向き合う第1領域と、前記第1非着色部に向き合う第1サブ領域、前記第4着色部に向き合う第2サブ領域、および前記第3非着色部に向き合う第3サブ領域よりなる第2領域とに光を照射する第1の露光工程と、
第1の露光工程後の前記液晶材料層のうち、前記第3着色部の少なくとも一部に向き合う第3領域と、前記第2領域とに、前記第1の露光工程より弱い露光効果が得られる条件で光を照射する第2の露光工程と、
第2の露光工程後の前記液晶材料層を、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、少なくとも前記第2領域および前記第3領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
前記配向の程度を低下させたまま、前記液晶材料層の未反応の前記サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させ、所定の複屈折率を有する第1領域と、前記第1領域より小さく、かつ互いに異なる複屈折率を有する第2領域および第3領域とを得る定着工程と
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法が提供される。
前記平面体に支持されたカラーフィルタ層と、
前記平面体に支持され、同一材料よりなる連続膜として形成された光学異方性を有する固体化液晶層とを具備する位相差基板であって、
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部および前記第2着色部に隣接し着色層のない第2非着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素とを有し、
前記固体化液晶層は、
前記第1着色部の少なくとも一部に向き合った第1領域と、
前記第1非着色部に向き合った第1サブ領域と、前記第2着色部の少なくとも一部および前記第2非着色部に向き合った第2サブ領域と、前記第3非着色部に向き合った第3サブ領域とにより構成される第2領域と、
前記第3着色画素の着色部の少なくとも一部に向き合った第3領域とを含み、
前記第1乃至第3領域は互いに異なる複屈折率を有し、
前記第1領域と前記第1サブ領域の境界部は、前記第1領域と前記第1サブ領域との間の複屈折率のみを有し、
前記第3領域と前記第3サブ領域の境界部は、前記第3領域と前記第3サブ領域との間の複屈折率のみを有していることを特徴とする位相差基板が提供される。
前記平面体に支持されたカラーフィルタ層と、
前記平面体に支持され、同一材料よりなる連続膜として形成された光学異方性を有する固体化液晶層とを具備する位相差基板であって、
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素と、前記第2着色画素に隣接して主として前記第2の着色層と同一の波長の光を透過し、前記第2の着色層より透過率の高い第4の着色層よりなる第4着色部を含む第4着色画素とを有し、
前記固体化液晶層は、
前記第1着色部の少なくとも一部に向き合った第1領域と、
前記第1非着色部に向き合った第1サブ領域と、前記第4着色部に向き合った第2サブ領域と、前記第3非着色部に向き合った第3サブ領域とにより構成される第2領域と、
前記第3着色部の少なくとも一部に向き合った第3領域とを含み、
前記第1乃至第3領域は互いに異なる複屈折率を有し、
前記第1領域と前記第1サブ領域の境界部は、前記第1領域と前記第1サブ領域との間の複屈折率のみを有し、
前記第3領域と前記第3サブ領域の境界部は、前記第3領域と前記第3サブ領域との間の複屈折率のみを有していることを特徴とする位相差基板が提供される。
透過表示用領域および反射表示用領域をそれぞれ有する多数の画素によってドットマトリクス表示を行なう半透過液晶表示装置であって、
前記画素は、少なくとも第1乃至第3着色画素を含み、
前記2枚の平面体のいずれかと前記液晶層との間に配置されたカラーフィルタ層を備え、前記カラーフィルタ層は、
前記第1着色画素の反射表示用領域の一部および透過表示用領域に設けられた第1の着色層よりなる第1着色部と、
前記第1着色部に隣接し、前記第1着色画素の反射表示用領域の残部に設けられた着色層のない第1非着色部と、
前記第2着色画素の反射表示用領域の一部および透過表示用領域に設けられた第2の着色層よりなる第2着色部と、
前記第2着色部に隣接し、前記第2着色画素の反射表示用領域の残部に設けられた着色層のない第2非着色部と、
前記第3着色画素の反射表示用領域の一部および透過表示用領域に設けられた第3の着色層よりなる第3着色部と、
前記第3着色部に隣接し、前記第3着色画素の反射表示用領域の残部に設けられた着色層のない第3非着色部とを有し、
前記2枚の平面体のいずれか一方と前記液晶層との間に配置された固体化液晶層を備え、前記固体化液晶層は、
前記第1着色部における反射表示用領域に向き合った第1領域と、
前記第1非着色部に向き合った第1サブ領域と、前記第2着色部における反射表示用領域および前記第2非着色部に向き合った第2サブ領域と、前記第3非着色部に向き合った第3サブ領域とにより構成される第2領域と、
前記第3着色画素における反射表示用領域に向き合った第3領域とを含み、
前記第1乃至第3領域は互いに異なる複屈折率を有し、
前記第1領域と前記第1サブ領域の境界部は、前記第1領域と前記第1サブ領域との間の複屈折率のみを有し、
前記第3領域と前記第3サブ領域の境界部は、前記第3領域と前記第3サブ領域との間の複屈折率のみを有することを特徴とする半透過液晶表示装置が提供される。
透過表示用領域および反射表示用領域をそれぞれ有する多数の画素によってドットマトリクス表示を行なう半透過液晶表示装置であって、
前記画素は、少なくとも第1乃至第3着色画素を含み、
前記2枚の平面体のいずれかと前記液晶層との間に配置されたカラーフィルタ層を備え、前記カラーフィルタ層は、
前記第1着色画素の反射表示用領域の一部および透過表示用領域に設けられた第1の着色層よりなる第1着色部と、
前記第1着色部に隣接し、前記第1着色画素の反射表示用領域の残部に設けられた着色層のない第1非着色部と、
前記第2着色画素の透過表示用領域に設けられた第2の着色層よりなる第2着色部と、
前記第3着色画素の反射表示用領域の一部および透過表示用領域に設けられた第3の着色層よりなる第3着色部と、
前記第3着色部に隣接し、前記第3着色画素の反射表示用領域の残部に設けられた着色層のない第3非着色部と、
前記第2着色画素の反射表示用領域に設けられ、主として前記第2の着色層と同一の波長の光を透過し、前記第2の着色層より透過率の高い第4の着色層よりなる第4着色部とを有し、
前記2枚の平面体のいずれかと前記液晶層との間に配置された前記固体化液晶層を備え、前記固体化液晶層は、
前記第1着色部における反射表示用領域に向き合った第1領域と、
前記第1非着色部に向き合った第1サブ領域と、前記第4着色部に向き合った第2サブ領域と、前記第3非着色部に向き合った第3サブ領域とにより構成される第2領域と、
前記第3着色画素における反射表示用領域に向き合った第3領域とを含み、
前記第1乃至第3領域は互いに異なる複屈折率を有し、
前記第1領域と前記第1サブ領域の境界部は、前記第1領域と前記第1サブ領域との間の複屈折率のみを有し、
前記第3領域と前記第3サブ領域の境界部は、前記第3領域と前記第3サブ領域との間の複屈折率のみを有することを特徴とする半透過液晶表示装置が提供される。
(配向膜の形成)
乾燥膜厚が0.05μmになるように、配向膜材料(日産化学工業株式会社製「SE−1410」)をガラス基板上にスピンコーターで塗布した。塗膜は、ホットプレート上90℃で1分間加熱乾燥させた後、クリーンオーブン中230℃で40分間焼成して硬化させた。硬化された膜に対し一定方向にラビング処理を施すことにより、配向能を有する基板を得た。
下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合し、0.6μmのフィルターで濾過して液晶組成物を調製した。得られた液晶組成物を、前述の基板の配向膜の上に、スピンコーターで乾燥膜厚が1.9μmになるように塗布し、ホットプレートにて90℃で2分間加熱乾燥して液晶材料層を形成した。
(DIC株式会社製「UCL−017」)
光重合開始剤 0.5質量部
(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製「イルガキュアーOXE01」)
界面活性剤 0.7質量部
(ビックケミー社製「BYK330」3%シクロヘキサノン溶液)
シクロヘキサノン 79.3質量部
(第1の露光工程)
図15に示したように液晶材料層230’の上に二値マスク300を配置し、超高圧水銀灯を用いて、液晶材料層230’の一部の領域を紫外線で露光した。紫外線の照射量は、50mJ/cm2とした。
次に、図16に示したように二値マスク300を水平にずらし、10mJ/cm2の紫外線を照射した。液晶材料層230’においては、第1の露光工程で紫外線を照射された領域の一部、および紫外線を照射されなかった領域の一部が露光された。
第2露光後の基板をクリーンオーブン内に載置し、クリーンオーブンを常温から230℃に昇温した。この温度を60分間維持して焼成することにより固体化液晶層を形成し、位相差基板を得た。
位相差基板において、第1の露光工程のみで紫外線を照射された領域は第1領域に相当する。第1の露光工程および第2の露光工程で紫外線を照射された領域は第2領域に相当し、第2の露光工程のみで紫外線を照射された領域は第3領域に相当する。これを、下記表1にまとめる。
まず、実施例1と同様の手法により、ガラス基板上に配向膜を形成した。配向膜の上には、下記組成の液晶組成物を用いる以外は実施例1と同様の手法により液晶材料層を形成した。ここで用いた液晶組成物は、実施例1と同様の手法により調製した。
(BASFジャパン株式会社製「Paliocolor LC 242」)
光重合開始剤 0.4質量部
(チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製「イルガキュアー907」)
界面活性剤 2.0質量部
(ビックケミー社製「BYK330」3%シクロヘキサノン溶液)
シクロヘキサノン 158.0質量部
(第1の露光工程)
図15に示したように液晶材料層230’の上に二値マスク300を配置し、超高圧水銀灯を用いて、液晶材料層230’の一部の領域を紫外線で露光した。紫外線の照射量は、80mJ/cm2とした。
次に、図16に示したように二値マスク300を水平にずらし、5mJ/cm2の紫外線を照射した。液晶材料層230’においては、第1の露光工程で紫外線を照射された領域の一部、および紫外線を照射されなかった領域の一部が露光された。
位相差基板における領域と露光工程とは、実施例1の場合と同様、上記表1に示されるように対応する。
下記表9に示す設定特性の位相差層について、光学計算を行なった。ここでの位相差層においては、緑色画素に非着色部が存在しない。複屈折率は、波長550nmにおける値である。コントラスト比は60であった。
150R…反射電極: 150T…透明電極; 160…配向膜; 210…平面体
220…カラーフィルタ層: 221…第1着色部; 222…第2着色部
223…第3着色部; 224…第4着色部; 230…固体化液晶層
231R…第1領域; 232R…第2領域; 232Ra…第1サブ領域
232Rb…第2サブ領域; 232Rc…第3サブ領域; 233R…第3領域
231T…領域; 232T…領域; 233T…領域; 250…対向電極
260…配向膜; 270…貫通孔(非着色部); 271…貫通孔(第1非着色部)
272…貫通孔(第2非着色部); 273…貫通孔(第3非着色部)
230’…液晶材料層; 231’…領域; 232’…領域; 233’…領域
300…二値マスク; 300R…反射表示用領域対応部
300T…透過表示用領域対応部; 310…光透過孔; 311…光透過孔
312…光透過孔; 313…光透過孔。
Claims (28)
- 光透過性の平面体上に固体化液晶層を形成することを含み、前記固体化液晶層の形成は、
前記平面体上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造をなしている液晶材料層を形成する成膜工程と、
前記液晶材料層の第1領域および第2領域に光を照射する第1の露光工程と、
第1の露光工程後の前記液晶材料層の第3領域および前記第2領域に、前記第1の露光工程より弱い露光効果が得られる条件で光を照射する第2の露光工程と、
第2の露光工程後の前記液晶材料層を、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、少なくとも前記第2領域および前記第3領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
前記配向の程度を低下させたまま、前記液晶材料層の未反応の前記サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させ、所定の複屈折率を有する第1領域と、前記第1領域より小さく、かつ互いに異なる複屈折率を有する第2領域および第3領域とを得る定着工程と、
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法。 - 前記第2領域は、前記第1領域に接する第1サブ領域、前記第3領域に接する第3サブ領域、および前記第1領域と前記第3領域との間に位置する第2サブ領域を含み、
前記第1領域と前記第1サブ領域とにより構成される領域は、前記第2サブ領域と面積および形状が等しく、前記第2サブ領域は、前記第3領域と前記第3サブ領域とにより構成される領域と面積および形状が等しいことを特徴とする請求項1に記載の製造方法。 - 光透過性の平面体上にカラーフィルタ層および固体化液晶層を形成することを含み、
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部および前記第2着色部に隣接し着色層のない第2非着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素とを有し、
前記固体化液晶層の形成は、
前記平面体上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造をなしている液晶材料層を形成する成膜工程と、
前記液晶材料層のうち、前記第1着色部の少なくとも一部に向き合う第1領域と、前記第1非着色部に向き合う第1サブ領域、前記第2着色部の少なくとも一部および前記第2非着色部に向き合う第2サブ領域、ならびに前記第3非着色部に向き合う第3サブ領域よりなる第2領域とに光を照射する第1の露光工程と、
第1の露光工程後の前記液晶材料層のうち、前記第3着色部の少なくとも一部に向き合う第3領域と、前記第2領域とに、前記第1の露光工程より弱い露光効果が得られる条件で光を照射する第2の露光工程と、
第2の露光工程後の前記液晶材料層を、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、少なくとも前記第2領域および前記第3領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
前記配向の程度を低下させたまま、前記液晶材料層の未反応の前記サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させ、所定の複屈折率を有する第1領域と、前記第1領域より小さく、かつ互いに異なる複屈折率を有する第2領域および第3領域とを得る定着工程と
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法。 - 前記液晶材料層において、前記第1領域と前記第1サブ領域とにより構成される領域は、前記第2サブ領域と面積および形状が等しく、前記第2サブ領域は、前記第3領域と前記第3サブ領域とにより構成される領域と面積および形状が等しいことを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
- 前記第1の着色層は赤色着色層であり、前記第2の着色層は緑色着色層であり、前記第3の着色層は青色着色層であることを特徴とする請求項3または4に記載の製造方法。
- 光透過性の平面体上にカラーフィルタ層および固体化液晶層を形成することを含み、
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素と、前記第2着色画素に隣接して主として前記第2の着色層と同一の波長の光を透過し、前記第2の着色層より透過率の高い第4の着色層よりなる第4着色部を含む第4着色画素とを有し、
前記固体化液晶層の形成は、
前記平面体上に、光重合性または光架橋性のサーモトロピック液晶化合物を含み、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが配向構造をなしている液晶材料層を形成する成膜工程と、
前記液晶材料層のうち、前記第1着色部の少なくとも一部に向き合う第1領域と、前記第1非着色部に向き合う第1サブ領域、前記第4着色部に向き合う第2サブ領域、および前記第3非着色部に向き合う第3サブ領域よりなる第2領域とに光を照射する第1の露光工程と、
第1の露光工程後の前記液晶材料層のうち、前記第3着色部の少なくとも一部に向き合う第3領域と、前記第2領域とに、前記第1の露光工程より弱い露光効果が得られる条件で光を照射する第2の露光工程と、
第2の露光工程後の前記液晶材料層を、前記サーモトロピック液晶化合物のメソゲンが等方相を呈する温度に加熱して、少なくとも前記第2領域および前記第3領域において前記メソゲンの配向の程度を低下させる現像工程と、
前記配向の程度を低下させたまま、前記液晶材料層の未反応の前記サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させ、所定の複屈折率を有する第1領域と、前記第1領域より小さく、かつ互いに異なる複屈折率を有する第2領域および第3領域とを得る定着工程と
を具備することを特徴とする位相差基板の製造方法。 - 前記液晶材料層において、前記第1領域と前記第1サブ領域とにより構成される領域は、前記第2サブ領域と面積および形状が等しく、前記第2サブ領域は、前記第3領域と前記第3サブ領域とにより構成される領域と面積および形状が等しいことを特徴とする請求項6に記載の製造方法。
- 前記第1の着色層は赤色着色層であり、前記第2の着色層は濃緑色着色層であり、前記第3の着色層は青色着色層であり、前記第4の着色層は淡緑色着色層であることを特徴とする請求項6または7に記載の位相差基板の製造方法。
- 前記固体化液晶層の形成は、前記カラーフィルタ層を形成する前に行なわれることを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記第1の露光工程および前記第2の露光工程は、それぞれ一括して第1の光および第2の光を照射することにより行なわれることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記第1の露光工程および前記第2の露光工程は、同一のフォトマスクを用いて行なわれることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記フォトマスクは、二値マスクであることを特徴とする請求項11に記載の製造方法。
- 前記第1の光および前記第2の光は、前記定着工程後の前記第2領域の複屈折率が前記第3領域の複屈折率より高くなるような量で照射されることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。
- 前記第2の光は、前記第1の光より少ない量で照射されることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。
- 前記成膜工程において、前記液晶材料層を均一な厚さの連続膜として形成することを特徴とする請求項1乃至14のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記定着工程において、前記サーモトロピック液晶化合物の重合および/または架橋による反応は、光照射によって誘起されることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記定着工程における前記光照射は、前記液晶材料層の全体を露光することによって行なわれることを特徴とする請求項16に記載の製造方法。
- 前記サーモトロピック液晶化合物は、相転移温度よりも高い重合および/または架橋温度に加熱することによって重合および/または架橋する材料であり、
前記現像工程において、前記メソゲンの配向の程度は前記液晶材料層を前記重合および/または架橋温度未満の温度に加熱することにより低下させ、
前記定着工程において、前記未反応のサーモトロピック液晶化合物は前記液晶材料層を前記重合および/または架橋温度以上の温度に加熱することによって重合および/または架橋により反応させることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載の製造方法。 - 前記定着工程は、前記現像工程後に連続して行なわれることを特徴とする請求項18に記載の製造方法。
- 請求項3に記載の方法により製造され、
光透過性の平面体と、
前記平面体に支持されたカラーフィルタ層と、
前記平面体に支持され、同一材料よりなる連続膜として形成された光学異方性を有する固体化液晶層とを具備する位相差基板であって、
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部および前記第2着色部に隣接し着色層のない第2非着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素とを有し、
前記固体化液晶層は、
前記第1着色部の少なくとも一部に向き合った第1領域と、
前記第1非着色部に向き合った第1サブ領域と、前記第2着色部の少なくとも一部および前記第2非着色部に向き合った第2サブ領域と、前記第3非着色部に向き合った第3サブ領域とにより構成される第2領域と、
前記第3着色画素の着色部の少なくとも一部に向き合った第3領域とを含み、
前記第1乃至第3領域は互いに異なる複屈折率を有し、
前記第1領域と前記第1サブ領域の境界部は、前記第1領域と前記第1サブ領域との間の複屈折率のみを有し、
前記第3領域と前記第3サブ領域の境界部は、前記第3領域と前記第3サブ領域との間の複屈折率のみを有していることを特徴とする位相差基板。 - 前記固体化液晶層において、前記第1領域と前記第1サブ領域とにより構成される領域は、前記第2サブ領域と面積および形状が等しく、前記第2サブ領域は、前記第3領域と前記第3サブ領域とにより構成される領域と面積および形状が等しいことを特徴とする請求項20に記載の位相差基板。
- 前記第1の着色層は赤色着色層であり、前記第2の着色層は緑色着色層であり、前記第3の着色層は青色着色層であり、
前記第2領域の複屈折率は、前記第1領域の複屈折率より低く前記第3領域の複屈折率より高いことを特徴とする請求項20または21に記載の位相差基板。 - 請求項6に記載の方法により製造され、
光透過性の平面体と、
前記平面体に支持されたカラーフィルタ層と、
前記平面体に支持され、同一材料よりなる連続膜として形成された光学異方性を有する固体化液晶層とを具備する位相差基板であって、
前記カラーフィルタ層は、第1の着色層よりなる第1着色部および前記第1着色部に隣接し着色層のない第1非着色部を含む第1着色画素と、第2の着色層よりなる第2着色部を含む第2着色画素と、第3の着色層よりなる第3着色部および前記第3着色部に隣接し着色層のない第3非着色部を含む第3着色画素と、前記第2着色画素に隣接して主として前記第2の着色層と同一の波長の光を透過し、前記第2の着色層より透過率の高い第4の着色層よりなる第4着色部を含む第4着色画素とを有し、
前記固体化液晶層は、
前記第1着色部の少なくとも一部に向き合った第1領域と、
前記第1非着色部に向き合った第1サブ領域と、前記第4着色部に向き合った第2サブ領域と、前記第3非着色部に向き合った第3サブ領域とにより構成される第2領域と、
前記第3着色部の少なくとも一部に向き合った第3領域とを含み、
前記第1乃至第3領域は互いに異なる複屈折率を有し、
前記第1領域と前記第1サブ領域の境界部は、前記第1領域と前記第1サブ領域との間の複屈折率のみを有し、
前記第3領域と前記第3サブ領域の境界部は、前記第3領域と前記第3サブ領域との間の複屈折率のみを有していることを特徴とする位相差基板。 - 前記固体化液晶層において、前記第1領域と前記第1サブ領域とにより構成される領域は、前記第2サブ領域と面積および形状が等しく、前記第2サブ領域は、前記第3領域と前記第3サブ領域とにより構成される領域と面積および形状が等しいことを特徴とする請求項23に記載の位相差基板。
- 前記第1の着色層は赤色着色層であり、前記第2の着色層は濃緑色着色層であり、前記第3の着色層は青色着色層であり、前記第4の着色層は淡緑色着色層であり、
前記第2領域の複屈折率は、前記第1領域の複屈折率より低く前記第3領域の複屈折率より高いことを特徴とする請求項23または24に記載の位相差基板。 - 前記固体化液晶層は、前記平面体と前記カラーフィルタ層との間に形成されていることを特徴とする請求項20乃至25のいずれか1項に記載の位相差基板。
- 前記固体化液晶層の厚さは、全面にわたって均一であることを特徴とする請求項20乃至26のいずれか1項に記載の位相差基板。
- 前記固体化液晶層は、サーモトロピック液晶化合物を重合および/または架橋させてなることを特徴とする請求項20乃至27のいずれか1項に記載の位相差基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010102593A JP5516023B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 位相差基板の製造方法および位相差基板、ならびに半透過液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010102593A JP5516023B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 位相差基板の製造方法および位相差基板、ならびに半透過液晶表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011232537A JP2011232537A (ja) | 2011-11-17 |
JP5516023B2 true JP5516023B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=45321900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010102593A Expired - Fee Related JP5516023B2 (ja) | 2010-04-27 | 2010-04-27 | 位相差基板の製造方法および位相差基板、ならびに半透過液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5516023B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7281168B2 (ja) * | 2018-12-21 | 2023-05-25 | 学校法人大阪産業大学 | 電荷生成装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005173384A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Advanced Color Tec Kk | フォトマスク |
JP2008170578A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Kyocera Mita Corp | トナー濃度調整装置及びトナー濃度調整方法 |
JP4211872B2 (ja) * | 2007-02-16 | 2009-01-21 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルタ及びその製造方法及び液晶表示装置 |
JP5111150B2 (ja) * | 2007-04-12 | 2012-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 液晶表示装置用基板の製造方法 |
JP5169339B2 (ja) * | 2008-03-11 | 2013-03-27 | 凸版印刷株式会社 | リターデイション基板の製造方法 |
JP2009258702A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-11-05 | Toppan Printing Co Ltd | 円偏光基板およびその製造方法ならびに有機el表示装置 |
EP2259129A4 (en) * | 2008-03-31 | 2011-10-26 | Toppan Printing Co Ltd | RETARDATION PLATE, SEMI-PERMANENT LIQUID CRYSTAL DISPLAY ARRANGEMENT AND METHOD FOR PRODUCING A RETARDING PLATE |
JP2010044583A (ja) * | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Seiko Epson Corp | 表示装置及びプログラム |
-
2010
- 2010-04-27 JP JP2010102593A patent/JP5516023B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011232537A (ja) | 2011-11-17 |
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