JP5507440B2

JP5507440B2 - 金属ナノワイヤの製造方法並びに得られた金属ナノワイヤよりなる分散液および透明導電膜

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Publication number: JP5507440B2
Application number: JP2010500727A
Authority: JP
Inventors: 高広北野
Original assignee: Kuraray Co Ltd
Current assignee: Kuraray Co Ltd
Priority date: 2008-02-27
Filing date: 2009-02-26
Publication date: 2014-05-28
Anticipated expiration: 2029-02-26
Also published as: WO2009107694A1; JPWO2009107694A1; TW200946266A

Description

本発明は金属ナノワイヤの製造方法に関するものであり、より詳しくはクロスフローろ過法により不純物を取り除く工程を含む金属ナノワイヤの製造方法である。また、得られた金属ナノワイヤが分散した分散液および該金属ナノワイヤからなる透明導電膜である。

近年液晶ディスプレイやプラズマディスプレイの利用が増えており、これらのデバイスに必須の部材である透明電極膜の需要も増えている。従来透明電極等に用いられる透明導電膜はスパッタリング法などの乾式コーティングが主流であった。しかしながらこれらの方法はバッチ式のため製造コストが高く、連続生産可能な製造方法が望まれている。また、コーティング時に高温が必要であり、プラスチックフィルムなどの樹脂基板を使用することができないという欠点があった。

この問題を解決する方法として湿式コーティングが考えられ、材料候補の１つとして貴金属微粒子を用いたネットワーク構造が提案されている（特許文献１および２）。

しかしながら特許文献１に開示された方法は、真空系での蒸着工程が必須であり、また、金属の蒸着処理の前に基板に前処理を施す必要があるため製造コストが高くなるという問題点がある。

一方、特許文献２の方法はスピンコートなどの湿式コートが可能であり、連続で作製できるという優れた方法であるが、焼成工程が必須であるためプラスチック基板が使えないという問題点がある。

さらに、いずれの方法も金属微粒子を数珠上につなげて配線を構成しており、ネットワークの形状は不定形である。このため、ある２点間に配線を構成するときにおいて不必要な部分にも配線が伸びてしまい、結果として全光線透過率の低い透明導電膜しか得られないという課題が残されていた。

そこで本発明者は、上記課題を解決すべく金属ナノワイヤを用いた透明導電膜について新たに発明した（特許文献３）。
金属ナノワイヤの製造方法にはいくつかあるが、ポリオール還元による製造方法も有力な方法の１つである。非特許文献１にポリオール還元による銀ナノワイヤの製造方法が開示されている。この方法は非常に有効な金属ナノワイヤの製造方法の１つであるが、副生成物として発生する銀微粒子を分離する方法として遠心分離を採用している。遠心分離によって金属ナノワイヤを沈殿物として回収する方法は回収するには便利な方法であるが、透明導電膜を作製するためには一旦固体状態で回収した銀ナノワイヤを再び溶媒に分散しなければならない。

ところが、一旦固体状態で回収した銀ナノワイヤはお互いに絡みあっており、容易にほぐれず、銀ナノワイヤの分散液を作ることが困難であった。

国際特許出願公開２００３／０１６２０９公報国際特許出願公開２００３／０６８６７４公報特願２００７−２３６９４８号明細書特開２００４−２２３６９３公報特開２００２−２６６００７公報米国特許出願公開２００５−０５６１１８公報ＮａｎｏＬｅｔｔｅｒｓ２００３Ｖｏｌ．３，Ｎｏ．５６，６７−６６９

従って本発明の課題は絡み合いの少ない金属ナノワイヤの製造方法及びこれを用いた透明導電膜を提供することである。

そこで、本発明者は、鋭意検討した結果、クロスフローろ過法により不純物を取り除く工程を含むことによって絡み合いの少ない金属ナノワイヤが得られることを見出し、さらに検討を重ねた結果、上記課題を解決し得る透明導電膜を完成するに至った。

すなわち上記課題を解決する本発明は、粗金属ナノワイヤが分散した分散液をクロスフローろ過する工程を含む金属ナノワイヤの製造方法である。本発明において前記金属ナノワイヤは銀ナノワイヤであることが好ましく、特に該銀ナノワイヤがポリオール還元法によって作製されたものであることがより好ましい。

本発明において、クロスフローろ過法が中空糸膜を用いた内圧型循環ろ過法であることが好ましく、特に中空糸膜を用いた内圧型循環ろ過法が、孔径が０.５μｍ以上の中空糸膜を用いることがより好ましい。
また、前記中空糸膜を用いた内圧型循環ろ過において、粗金属ナノワイヤが分散した分散液の流速が線速度で５０ｍｍ／秒以上５００ｍｍ／秒以下であることがより好ましい。
さらに、前記クロスフローろ過法において用いられる、粗金属ナノワイヤが分散した分散液の分散溶媒が、メチルアルコール、エチルアルコール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのいずれかであることが好ましい。

本発明により得られる金属ナノワイヤは、その短軸方向の長さが１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、かつ長軸方向の長さが１μｍ以上１００μｍ以下である。
また本発明は、上記した製造方法によって得られた金属ナノワイヤが分散溶媒に分散させられて得られる分散液であって、固形分濃度が０．１質量％以上２０質量％以下である金属ナノワイヤの分散液である。特に前記分散溶媒が、メチルアルコール、エチルアルコール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、水、エチレングリコールから選ばれる単一あるいは混合溶媒であることが好ましい。

また本発明は、上記した本発明の製造方法によって得られた金属ナノワイヤからなる透明導電層を含む透明導電膜であり、特に透明導電層を構成する複数の金属ナノワイヤ同士の交点部分が接合されているのが好ましい。前記交点部分の接合は、圧着によりされているかまたはメッキによりされているのがより好ましい。

本発明に係る金属ナノワイヤの製造方法は金属ナノワイヤ同士の絡まりが少ない金属ナノワイヤを得ることができる。このため金属ナノワイヤのロスが少なく、高収率で製造できる。またスケールアップも容易である。また金属ナノワイヤの絡まりが少ないので金属ナノワイヤの絡まりが少ない分散液が容易に作ることができる。このため高濃度の分散液を作ることができる。さらに分散液の溶媒の変更も容易に可能である。
また金属ナノワイヤの絡まりが少ない分散液を利用できるので凝集塊が少なく、透過率の高い透明導電膜を得ることができる。

本発明で用いる層構成の例を示す図である本発明で用いる層構成の例を示す図である本発明で用いる層構成の例を示す図である本発明で用いる層構成の例を示す図である。実施例１で得られた銀ナノワイヤの走査型顕微鏡観察結果である。実施例１で得られた銀ナノワイヤの走査型顕微鏡観察結果である。実施例１で行った加圧方法の例を示す図である。比較例１で得られた透明導電膜の走査型顕微鏡観察結果である。実施例１および比較例１で得られた銀ナノワイヤの長さ分布を比較した図である。

発明を実施するための形態

本発明はクロスフローろ過法により不純物を取り除く工程を含むことを特徴とする金属ナノワイヤの製造方法である。

本発明に用いる金属ナノワイヤの材質は金属である。金属の酸化物や窒化物等のセラミックは含まない。具体的には銀である。

本発明に用いる金属ナノワイヤの形状は、短軸方向の長さと長軸方向の長さの比（以下、これをアスペクト比と称することがある。）が１０以上のものであれば特に制限はないが、アスペクト比が大きすぎると取扱が困難となるので上記比は１００００以下が好ましく、１０００以下がより好ましい。

特に、直線状金属ナノワイヤであることが好ましい。直線状金属ナノワイヤとは形状が棒状であることを意味し、分岐している形状や、粒子を数珠状に繋げた形状は含まない。ただし金属ナノワイヤの剛性が低く、バナナ状に湾曲していたり、折れ曲がったりしている場合には直線状金属ナノワイヤに含むものとする。

上記金属ナノワイヤの短軸方向の長さは１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。短軸方向の長さが大きすぎると透過率が低下し、小さすぎると合成が困難となるからである。長軸方向の長さは１μｍ以上１００μｍ以下である。長軸方向の長さが短すぎると導電性が低下し、長すぎると取扱が困難となるからである。
金属ナノワイヤの形状や大きさは走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡によって確認することができる。

上記金属ナノワイヤは公知の方法によって合成することができる。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法や、前駆体表面にプローブの先端部から印加電圧又は電流を作用させプローブ先端部で金属ナノワイヤをひき出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法（特許文献４）等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法としては具体的には金属複合化ペプチド脂質から成るナノファイバーを還元する方法（特許文献５）や、ポリオール還元と呼ばれる方法であって、エチレングリコール中で過熱しながら還元する方法（特許文献６）、クエン酸ナトリウム中で還元する方法（非特許文献１）等が挙げられる。中でも、エチレングリコール中で過熱しながら還元する方法が最も容易に結晶性の高い金属ナノワイヤを入手できるので好ましい。

本発明におけるクロスフローろ過法とは供給液が膜面に沿って流し、膜を透過する透過液が供給液とは垂直方向に流れるろ過方式を表す。具体的には、スケールアップおよび取り扱いの容易性の観点から中空糸膜方式が好ましい。

本発明において用いるろ過膜の孔径はろ過する液体に含まれる不純物の粒径によっても異なるが、０．１μｍ以上１μｍ以下が必要であり、０．２μｍ以上１μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上１μｍ以下がより好ましい。

本発明において線速度は、５０ｍｍ／秒以上５００ｍｍ／秒以下である。ここで線速度とは中空糸膜の長繊維方向に対する供給液の供給量を表し、例えば線速度が１０ｍｍ／秒とは中空糸膜の長繊維方向に対し１秒間に１０ｍｍ進む量の供給量を表す。本発明において線速度が大きすぎると金属ナノワイヤが損傷する可能性があり、小さすぎると効率が低下する危険性がある。

クロスフローろ過法において用いる洗浄溶媒に特に制限はないが、溶媒によってはろ過膜を溶解したり破損させたりする危険性があるので、メチルアルコール、エチルアルコール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、水、またはこれらの混合溶媒であることが好ましい。また、ろ過途中で溶媒を変更することも可能である。

また本発明は上記製造方法によって得られた金属ナノワイヤの分散液を提供する。従来の金属ナノワイヤの分散液の製造方法では、一旦固体状態で金属ナノワイヤを取り出す工程が必要であったため、再分散させる工程が必要であったり、再分散時に金属ナノワイヤが損傷したりするなどの問題点があった。この点に対し本発明による金属ナノワイヤの製造方法はこれら問題点を解決し、原理的にはこの工程での収率低下はない。

本発明による金属ナノワイヤの分散液の固形分濃度は０．０１質量％以上５０質量％以下が好ましく、０．１質量％以上２０質量％以下がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下がより好ましい。固形分濃度が小さすぎると所望の抵抗値になるまでの塗工回数が増え、固形分濃度が大きすぎると取扱時に金属ナノワイヤが損傷する可能性がある。

本発明による金属ナノワイヤの分散液の溶媒は特に制限はないが塗工時の作業性や、上記クロスフローろ過工程での好ましい溶媒種の観点からメチルアルコール、エチルアルコール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、水、エチレングリコールから選ばれる単一あるいは混合溶媒であることがより好ましい。

また本発明は上記製造方法によって得られた金属ナノワイヤを含む透明導電膜を提供する。本発明による透明導電膜は基材上に少なくとも上記金属ナノワイヤを含む透明導電層が積層されたものであれば特に制限はないが、本発明の効果を損なわない範囲において、保護層、下塗り層、ハードコート層、帯電防止層、アンチグレア層、反射防止層、カラーフィルター層、位相差膜層等があっても良い。具体的層構成としては図１および図２に示すように透明導電層上に保護層や反射防止層が積層されている層構成、図３に示すようにハードコート層上に透明導電膜が形成されている層構成、図４に示すように透明導電層とは反対面側にアンチグレア層が設けられている層構成等が挙げられる。

特に透明導電層との密着性が低い基材を用いる場合や、透明導電層の膜強度が低い場合には、透明導電層上に保護層を設けることが好ましい。保護層に用いる材料に特に制限はないが、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ビニルアルコール樹脂、ビニル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ＡＢＳ樹脂等の熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂および熱硬化性樹脂などの公知のコーティング材料を用いることができる。保護層の材料は、密着性の観点からは基材と同じ材料が好ましく、例えば基材がポリエステル樹脂の場合は保護層がポリエステル樹脂であることが好ましい。保護層の膜厚は、厚すぎると透明導電層の接触抵抗が大きくなり、薄すぎると保護層としての効果が得られないので１ｎｍ以上１μｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。

基材としてはシート状、フィルム状のものであれば特に制限はないが、例えば、ガラス、アルミナなどのセラミックや、鉄、アルミ、銅等の金属、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ビニルアルコール樹脂、塩化ビニル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ＡＢＳ樹脂等の熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などが挙げられ、本発明による透明導電膜を使用するに際し透明性を重視する場合は、上記基材の全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、具体的にはガラス、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。

上記基材の厚みは用途によって好ましい範囲は異なるが、シート状であれば５００μｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、フィルム状であれば１０μｍ以上５００μｍ以下が好ましい。

また、透明導電層には本発明の効果を損なわない範囲において金属ナノワイヤ以外の成分を加えることができる。具体的にはポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、ビニルアルコール樹脂、ビニル樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ＡＢＳ樹脂、天然高分子等の熱可塑性樹脂、アクリル系やオキセタン系などの光硬化性樹脂、エポキシ系やメラミン系、シリコン系などの熱硬化性樹脂などのバインダー成分、界面活性剤、顔料等が挙げられる。

金属ナノワイヤとバインダーなど他の成分の配合比率は用途に応じて任意に変更することが可能であるが、金属ナノワイヤの配合比が少なすぎると導電性が低下する危険性があるので、透明導電層全体に占める金属ナノワイヤの重量比は１０質量％以上１００質量％以下が好ましく、３０質量％以上６０質量％以下がより好ましい。

本発明による透明導電膜は金属ナノワイヤ同士の交点部分が接合されていることが好ましい。交点部分を接合することによって直線状金属ナノワイヤ間の接触抵抗が下がり、その結果透明導電層の表面抵抗値が下がるからである。直線状金属ナノワイヤ同士の交点部分とは、直線状金属ナノワイヤが網目状に分散している透明導電層を真上から見て、直線状金属ナノワイヤが重なって見える部分のことである。交点部分の接合は、圧着またはメッキによってされているのが好ましい。圧着されているとは当該交点部分が変形し、直線状金属ナノワイヤの接触面積が互いに大きくなっている状態を表す。また、メッキされているとは直線状金属ナノワイヤの交点部分がメッキする前に比べ太くなり、接触面積が増えている状態を指す。
なお、本発明においては当該交点部分がすべて接合されている必要はなく、一部分であっても良い。一部分であっても、透明導電層の表面抵抗値を下げる効果が得られるからである。
直線状金属ナノワイヤ同士の交点部分が圧着またはメッキされているか否かは走査型電子顕微鏡や透過型電子顕微鏡によって当該交点部分の変形の有無によって確認することができる。

本発明による透明導電膜の表面抵抗値は０．１Ω／□以上１０００００Ω／□以下であることが好ましく、１Ω／□以上１０００Ω／□以下であることがより好ましい。表面抵抗値が高すぎると電極等として利用できる可能性が低下し、表面抵抗値が低すぎると引き替えに透過率が低下し、光学部材として利用できなくなる可能性が高くなるからである。

本発明に用いる透明導電膜の全光線透過率は用いる基材によっても異なるが、全光線透過率が６０％以上９９％以下であることが好ましく、７０％以上９０％以下であることがより好ましい。ここでいう透明導電膜の全光線透過率は透明導電層のみの全光線透過率ではなく、基材も含めた透明導電膜としての全光線透過率を指す。
全光線透過率が高すぎると引き替えに表面抵抗値が高くなりすぎて電極等として利用できる可能性が低下し、全光線透過率が低すぎると光学部材として利用できる可能性が低下するからである。

＜実施例１＞
１Ｌ３口フラスコにエチレングリコール（和光純薬工業社製）３３３．９ｇ、塩化ナトリウム（和光純薬工業社製）４８ｎｇ、トリス（２，４−ペンタンジオネート）鉄（III）（アルドリッチ社製）４１ｎｇを投入し１６０℃に加熱した。
上記混合溶液中にエチレングリコール（和光純薬工業社製）２００ｇ、塩化ナトリウム（和光純薬工業社製）２９ｎｇ、トリス（２，４−ペンタンジオネート）鉄（III）（アルドリッチ社製）２５ｎｇ、硝酸銀（和光純薬工業社製）２．８８ｇからなる混合溶液とエチレングリコール（和光純薬工業社製）２００ｇ、塩化ナトリウム（和光純薬工業社製）２．１ｍｇ、トリス（２，４−ペンタンジオネート）鉄（III）（アルドリッチ社製）１２８ｎｇ、ポリビニルピロリドン（Ｍｗ．５５０００アルドリッチ社製）３．１ｇからなる溶液を６分間で滴下し３時間攪拌し粗銀ナノワイヤを得た。

得られた粗銀ナノワイヤ分散液を内圧型中空糸膜ろ過（商品名ミディクロス・クロスフローモジュール膜面積８０ｃｍ^２孔径０．５μｍ中空糸直径０．５ｍｍスペクトラム社製）に供した。洗浄溶媒は２−プロパノール（和光純薬工業社製）、線速度は１５０ｍｍ／秒である。１５００ｍｌのろ液が排出された時点でろ過を濃縮し、２０ｇの精製銀ナノワイヤの２−プロパノール分散液を得た。

得られた精製銀ナノワイヤの走査型電子顕微鏡にて観察した結果を図５、６に記す。この結果より本実施例に用いた銀ナノワイヤの長軸方向の長さが３μｍ以上３０μｍ以下であり、短軸方向の長さが１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが分かった。また得られた精製銀ナノワイヤの２−プロパノール分散液の固形分濃度を測定したところ８．５質量％であることが分かった。銀ナノワイヤの収率は５９％（＝２０×０．０８５／２．８８）であった。

得られた精製銀ナノワイヤの分散液に２−プロパノールを加えて固形分濃度を３．０質量％にした後ウェット膜厚で１８μｍになるようにＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ４１００東洋紡社製）上にバーコートした。８０℃で３分間乾燥し積層体を得た。積層膜上に離型層付きＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＫ１５７２東洋紡社製）を離型層が透明導電層に接するように重ね、図７に示すように離型層付きＰＥＴフィルム側からメノウ製乳棒で擦り、透明導電層面に圧力をかけた。結果を表１に記す。

＜実施例２＞
内圧型中空糸膜として中空糸の直径が１ｍｍのもの（商品名ミディクロス・クロスフローモジュール膜面積６０ｃｍ^２孔径０．５μｍスペクトラム社製）を用いて、線速度を５００ｍｍ／秒にした以外は実施例1と同様の操作を行った。結果を表１に記す。

＜実施例３＞
得られた精製銀ナノワイヤの分散液に２−プロパノールを加えて固形分濃度を０．１質
量％にした後ウェット膜厚で１８μｍになるようにＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャ
インＡ４１００東洋紡社製）上にバーコートした。

＜実施例４＞
得られた精製銀ナノワイヤの分散液に２−プロパノールを加えて固形分濃度を０．１質量％にした後ウェット膜厚で１８μｍになるようにＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ４１００東洋紡社製）上にバーコートした。

＜実施例５＞
実施例１で得られた透明導電膜上にポリエステル樹脂（商品名バイロンＵＲ−４８００東洋紡社製）を膜厚が１０ｎｍになるようにスプレーコートした。
得られたフィルムをクロスカット試験（ＪＩＳＫ５４００）に供したところ１００／１００であり剥がれは見られなかった。
得られた透明導電膜の表面抵抗値、全光線透過率の結果を表１に記す。

＜実施例６＞
実施例１で得られた３質量％の銀ナノワイヤ分散液にブチラール樹脂（商品名ＭＯＷＩＴＡＬＢ６０ＨＫＳＥ社製）を固形分に対する銀ナノワイヤの濃度が３７．５質量％になるように添加し、ＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ４１００東洋紡社製）上にウェット膜厚３０μｍで塗工、８０℃で３分間乾燥し積層膜を得た。
得られた積層膜に対し実施例１と同様の方法にて透明導電層面に圧力をかけた。得られたフィルムをクロスカット試験（ＪＩＳＫ５４００）に供したところ１００／１００であり剥がれは見られなかった。結果を表１に記す。

＜比較例１＞
実施例１で得られた粗銀ナノワイヤを遠心分離（装置名高速冷却遠心機ＣＲ２２ＧII 日立工機社製３０００Ｇ×５分間）し、残渣を水と２−プロパノールの混合溶液（５０／５０ｖｏｌ％）９ｇに分散させた。
得られた精製銀ナノワイヤの走査型電子顕微鏡にて観察した結果を図４に記す。
また得られた精製銀ナノワイヤの２−プロパノール分散液の固形分濃度を測定したところ１．３質量％であることが分かった。銀ナノワイヤの収率は４％（＝９×０．０１３／２．８８）であった。

得られた銀ナノワイヤ分散液をウェット膜厚で３μｍになるようにＰＥＴフィルム（商品名：コスモシャインＡ４１００東洋紡社製全光線透過率９２％）上にバーコートした。８０℃で３分間乾燥し積層膜を得た。
実施例１と同様に透明導電層面に圧力をかけた。
結果を表１に記す。

[評価]
図１は本発明の方法による金属ナノワイヤの製造方法であり、図８は従来技術による金属ナノワイヤの製造方法である。これらを比較すると図８では銀ナノワイヤの凝集物が見られるのに対し図１では同様の凝集物がほとんどないことが分かる。従って、本発明の方法による金属ナノワイヤの製造方法は従来の方法に比べて絡まりの少ない金属ナノワイヤが得られることが明確である。

また、実施例１と比較例１を比較すると金属ナノワイヤの収率はそれぞれ５９％と４％である。従って本発明の方法による金属ナノワイヤの製造方法は従来の方法に比べて高収率であることが明確である。
得られた透明導電膜の表面抵抗値（装置名：ロレスタＥＰダイアインスツルメンツ社製）、全光線透過率、ヘイズ値（装置名直読ヘーズコンピュータ、スガ試験機社製）を測定した。結果を表１に記す。

図９に実施例１と比較例１で得られた銀ナノワイヤの長さ分布を記す。上記結果より、実施例１の最頻値は６μｍから８μｍであり、比較例１の最頻値は２μｍから４μｍであることが分かる。すなわち、本発明の製造方法は従来法に比べ長い金属ナノワイヤを選択的に製造できることが判る。

Claims

粗金属ナノワイヤが分散した分散液をクロスフローろ過する工程を含み、前記金属ナノワイヤが銀ナノワイヤであり、
前記クロスフローろ過法が、孔径が０.１μｍ以上１μｍ以下である中空糸膜を用いた内圧型循環ろ過法であって、
該ろ過法において粗金属ナノワイヤが分散した分散液の流速が線速度で５０ｍｍ／秒以上５００ｍｍ／秒以下であり、
得られた金属ナノワイヤの短軸方向の長さが１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、かつ長軸方向の長さが１μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする金属ナノワイヤの製造方法。
銀ナノワイヤがポリオール還元法によって作製されたものであることを特徴とする請求項１記載の金属ナノワイヤの製造方法。
前記中空糸膜の孔径が０.５μｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の金属ナノワイヤ製造方法。
クロスフローろ過法において用いられる、粗金属ナノワイヤが分散した分散液の分散溶媒がメチルアルコール、エチルアルコール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのいずれかであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属ナノワイヤの製造方法。
得られた金属ナノワイヤの長軸方向の長さを２μｍ単位で度数分布表示したときに最頻値が４μｍを超えて８μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法によって得られた金属ナノワイヤが分散溶媒に分散させられて得られる分散液であって、固形分濃度が０．１質量％以上２０質量％以下である金属ナノワイヤの分散液。
分散溶媒がメチルアルコール、エチルアルコール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、水、エチレングリコールから選ばれる単一あるいは混合溶媒であることを特徴とする請求項６に記載の分散液。