JP5500684B2 - シリカガラスルツボ及びその製造方法、シリコンインゴットの製造方法 - Google Patents
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Description
以上のように、本発明の構成のルツボを用いれば、シリコンインゴットの長時間引き上げ後に低密度層が形成されて内倒れや座屈を効果的に抑制することができる。
以下、図1〜図3を用いて、本発明の一実施形態のシリカガラスルツボについて説明する。図1は、本実施形態のシリカガラスルツボの構造を示す断面図である。図2は、図1中の領域Aの拡大図である。図3は、本実施形態のシリカガラスルツボの長時間使用後の構造を示す図1中の領域Aの拡大図である。
以下、各構成要素について詳細に説明する。
本実施形態のシリカガラスルツボ1は、シリコン単結晶の引き上げに用いられるもので
あり、シングル引き上げとマルチ引き上げのどちらに用いてもよいが、マルチ引き上げに用いることが好ましい。なぜなら、本実施形態のシリカガラスルツボ1は、上記の課題の項で述べたように、シリコンインゴットの引き上げ時間が極めて長い場合に生じる内倒れや座屈の問題を解決するものであるからである。
シリカガラスルツボ1の壁3は、図1に示した断面図のように、曲率が比較的大きいコーナー部32と、上面に開口した縁部を有する円筒状の側部31と、直線または曲率が比較的小さい曲線からなるすり鉢状の底部を33を有する。尚、本発明において、コーナー部とは、側部31と底部33を連接する部分で、コーナー部の曲線の接線がシリカガラスルツボの側部31と重なる点から、底部と共通接線を有する点までの部分のことを意味する。
壁3は、ルツボ1の内面から外面に向かって、気泡含有率が0.5%未満である透明層3aと、気泡含有率が1%以上50%未満の気泡含有層3bと、気泡含有率が0.5%以上1.0%未満の半透明層3cを備える。半透明層の外側に気泡含有層が1%以上10%未満である気泡含有層3dを備えても良い。
透明層3aは、気泡含有率が0.5%未満である層であり、ルツボ1の最も内側に配置されていて、シリコン融液と接触する。本明細書において、気泡含有率とは、ルツボ1の一定体積(w1)に対する気泡占有体積(w2)の比(w2/w1)を意味する。透明層3aに気泡が多く含まれるとシリコンインゴットの引き上げ中の気泡が破裂してルツボ1の破片がシリコン融液中に混入するという問題が生じるので、この観点からは気泡含有率は小さい方が好ましく、0.5%未満が好ましく、0.3%未満が好ましく、0.1%未満がさらに好ましく、0.05%未満がさらに好ましい。気泡含有率は、シリカガラスルツボ1の製造時のアーク加熱の温度と、減圧条件を変化させることによって調節可能である。一例では、シリカ粉を溶融する際の圧力を−50以上〜−95kPa未満、温度を1600〜2600℃に調整した状態で、1〜60分溶融する。
シリコン融液に接触する透明層中の気泡が大きく膨張すると、シリコンインゴットの引き上げ中に気泡が破裂してルツボ1の破片がシリコン融液中に混入するという問題が生じるので、透明層のOH基の数密度は小さい方が好ましく、40ppm未満であることが好ましく、30ppm以下であることがさらに好ましい。OH基濃度は、赤外線吸収分光法(FT−IR)によって測定することができる。OH基濃度は、シリカガラスルツボ1の製造時のアーク加熱の温度および時間を変化させることによって調節可能である。
気泡含有層3bは、気泡含有率が1.0%以上50%未満であり、透明層3aの外側に形成される。気泡含有層3bの気泡は、(1)ルツボの外側から内側に移動するOH基を水分として回収するので、透明層の気泡に流れ込む水分量を減らし、結果的に透明層中の気泡膨張を抑制する(2)ルツボ1の軽量化、(3)シリコンインゴットの引き上げ時にルツボ1の周囲に配置されるヒーターからの赤外線の散乱という機能を有している。気泡含有層3bの気泡含有率は、20%以下が好ましく、10%以下がさらに好ましい。気泡含有率が大きすぎると、ルツボの強度が低下するからである。
気泡含有層3bの形成には、シリカガラスルツボ1の製造時のアーク加熱の減圧条件を変化させることによって調節可能である。具体的には、シリカ粉を溶融する際の圧力を0以上〜−10kPa未満、温度を1600〜2600℃に調整した状態で、1〜30分溶融する。
気泡含有層3bの外側には半透明層3cが配置される。半透明層3cは、気泡含有率が0.5%以上1.0%未満の層である。この層内のOH基が加熱により脱離して水蒸気となり、この水蒸気が気泡を膨張させて低密度層が形成されるが、気泡含有率が低すぎると、水蒸気がトラップされにくいので低密度層が形成されず、気泡含有率が高すぎると各気泡にトラップされる水蒸気量が少なすぎるので低密度層が形成されないので、半透明層3cの気泡含有率は上記の範囲内である。また、半透明層3cのOH基濃度は、35ppm以上300ppm未満である。35ppm未満であると脱離される水蒸気量が少なすぎて低密度層が形成されず、300ppmm以上であるとガラスが結晶化して低密度層にならないからである。
半透明層3cの厚さは、壁3の厚さの10〜60%であることが好ましい。半透明層3cが薄すぎると長時間の引き上げ後に形成される低密度層の厚さも薄くなり壁3の密度低下の効果が小さいので好ましくない。半透明層3cが厚すぎると、低密度層が厚くなりすぎて強度が低下するので好ましくない。例えば、ルツボの壁厚が20mmであれば、半透明層3cの厚みは2〜12mmである。気泡含有率は、アルキメデス法という方法によって測定することができる。但し、気泡含有率は、シリカガラスルツボ1の製造時のアーク加熱の温度と、減圧条件を変化させることによって調節可能である。具体的には、シリカ粉を溶融する際の圧力を−10以上〜−50kPa未満、温度を1600〜2600℃に調整した状態で、5〜30分溶融する。
半透明層3cの外側には気泡含有層3dを配置してもよい。半透明層3cは長時間の引き上げ後に半透明層3c中の気泡が膨張するのでその表面に多数の微細な凹凸が形成される。この表面がルツボの外表面に露出していると、凹凸が欠けてガラス片が発生し、シリコン融液内に混入する恐れがある。このため、半透明層3cを露出させないように半透明層3cの外側に気泡含有層3dを配置することが好ましい。
気泡含有層3bと3dの一方又は両方に不純物含有シリカガラス層(以下、「不純物含有層」と称する)をさらに備えていることが好ましい。不純物含有層は、不純物を含有しているガラス層である。シリコンインゴットの引き上げ時のシリコン融液の温度は、約1450℃であり、このような高温環境下では、ガラス層に不純物が含まれていると、この不純物が核となってガラスが比較的容易に結晶化される。クリストバライトなどの結晶はガラスよりも強度が高いので、この結晶化によってルツボ1の強度が高くなる。また、
本実施形態のシリカガラスルツボ1は、(1)回転モールドの内面(底面及び側面)上に結晶質又は非晶質のシリカ粉を堆積させることによって天然シリカ層(以下、「天然層」と称する)、合成シリカ層(以下、「合成層」と称する)、又は不純物含有層を形成するためのシリカ粉層を形成し、(2)このシリカ粉層を溶融した後に固化させることによって製造することができる。溶融は、前記モールド側から前記シリカ粉層を0kPa〜−95kPa気圧で減圧した状態で1600〜2600℃で4〜120分行う。
合成層を形成するためのシリカ粉(合成シリカ粉)は、四塩化珪素(SiCl4)の気相酸化(乾式合成法)や、シリコンアルコキシド(Si(OR)4)の加水分解(ゾル・ゲル法)などの化学合成による手法によって製造することができる。
不純物含有層を形成するためのシリカ粉は、天然シリカ粉又は合成シリカ粉と不純物とを混合することによって得ることができる。一例では、シリカ粉と金属アルコキシドを混合し、600〜1100℃程度の温度で焼成することによってシリカ粉表面に不純物(この場合、金属不純物)を付着させることによって、シリカ粉に不純物を導入することができる。
シリコンインゴットは、(1)本実施形態のシリカガラスルツボ1内で多結晶シリコンを溶融させてシリコン融液を生成し、(2)シリコン種結晶の端部を前記シリコン融液中に浸けた状態で前記種結晶を回転させながら引き上げることによって製造することができる。
外径が800mmであり、壁厚が20mmであるルツボを製造した。実施例及び比較例のルツボは、回転モールドの内面に天然シリカ粉36mmと、その上に合成シリカ粉4mmを堆積させてシリカ粉層を形成し、アーク放電によってシリカ粉層を加熱溶融した後、固化させることによって形成した。アーク放電時には、モールド側からシリカ粉層を減圧した。実施例及び比較例での、減圧と加熱条件は、表1の通りである。表1の条件に従って、ルツボの内側から順に透明層、気泡含有層、半透明層、気泡含有層を順に形成した。但し、比較例2では、半透明層の位置に気泡含有層が形成され(従って、透明層と気泡含有層の二層構造になり)、比較例3では、半透明層の位置に透明層が形成される。実施例1と比較例2のルツボの断面写真を図4に示す。図4を参照すると、実施例1のルツボの壁が四層構造になっていて、比較例2のルツボの壁が二層構造になっていることが分かる。
◎:沈み込み量が10mm未満
○:沈み込み量が10mm以上〜20mm未満
△:沈み込み量が20mm以上〜30mm未満
×:沈み込み量が30mm以上
表2に示すように、実施例1〜9では、半透明層の気泡含有率が0.5以上1.0未満であり且つOH基濃度が35ppm以上であるため、低密度層が形成され、ルツボの強度が高かった。また、実施例1〜6では、壁の厚さに対する半透明層の厚さが10〜60%であるため、ルツボの強度が特に高かった。一方、比較例1では、OH基濃度が低すぎるため低密度層が形成されず、比較例2〜3では、気泡含有率が低すぎるか高すぎるため低密度層が形成されず、ルツボの強度が低かった。
Al層で気泡層(3bおよび3d)を形成した場合の影響を調べた。実施例10では、回転モールドの内面から、天然シリカ層にAl含有天然シリカ粉12mmと、その上に天然シリカ粉20mmと、その上にAl含有天然シリカ粉4mmとその上に合成シリカ粉4mmを堆積させてシリカ粉層を形成し、アーク放電によってシリカ粉層を加熱溶融した後、固化させることによって形成した。Al含有天然シリカ粉は、天然シリカ粉のAl濃度より、20ppm高くなるように調製した。アーク放電時には、モールド側からシリカ粉層を減圧した。減圧の圧力、加熱温度及び時間は、実施例1と同じにした。
実施例1と実施例10のルツボを用いて、実施例1と同じ条件で、シリコンインゴットのマルチ引き上げを行い、その沈み込み量を調べた。評価基準は上記と同じである。
その結果を表3に示す。
実施例1と同じ条件でルツボを作製し、シリコン融液にBaを1ppm添加する以外は実施例1と同じ条件でシリコンインゴットのマルチ引き上げを行い、沈み込み量を調査した。
その結果、Baをシリコン融液に添加したルツボでは、沈み込み量は上記と同じ基準で評価すると、結果は◎に該当した。これにより、シリコン融液にBaを添加することによって、沈み込み量が低減できることが確認された。
Claims (8)
- シリコン単結晶引き上げに用いるシリカガラスルツボであって、前記ルツボの壁が、前記ルツボの内面から外面に向かって、気泡含有率が0.5%未満である透明シリカガラス層と、気泡含有率が1%以上50%未満である気泡含有シリカガラス層と、気泡含有率が0.5%以上1%未満であり且つOH基濃度が35ppm以上300ppm未満である半透明シリカガラス層を備えるシリカガラスルツボ。
- 前記半透明シリカガラス層の外面側に気泡含有率が1%以上50%未満である気泡含有シリカガラス層をさらに備える請求項1に記載のルツボ。
- 前記半透明シリカガラス層は、その厚さが、前記ルツボの壁の厚さの10%〜60%である請求項1又は2に記載のルツボ。
- 前記半透明シリカガラス層の内面側の気泡含有シリカガラス層と、外面側の気泡含有シリカガラス層の少なくとも一方は、不純物を含有する不純物含有シリカガラス層を備える請求項1〜3の何れか1つに記載のルツボ。
- 回転モールドの内面にシリカ粉層を形成し、このシリカ粉層を溶融した後に固化させることによってシリカガラス層を形成する工程を備えるシリカガラスルツボの製造方法であって、
最初に−50以上〜−95kPa未満の圧力で減圧した状態で前記シリカ粉層を溶融させて透明層を形成し、次に、0以上〜−10kPa未満の圧力で減圧した状態で前記シリカ粉層を溶融させて気泡含有層を形成し、次に、−10以上〜−50kPa未満の圧力で減圧した状態で前記シリカ粉層を溶融させて半透明層を形成するシリカガラスルツボの製造方法。 - 前記半透明層を形成する際の温度は、1600℃〜2600℃である請求項5に記載の方法。
- 請求項1〜4の何れか1つのルツボ内で多結晶シリコンを溶融させてシリコン融液を得て、このシリコン融液に種結晶の端部を浸けて回転させながら引き上げることによってシリコンインゴットの引き上げを行った後、多結晶シリコンを再充填及び溶融させて、シリコンインゴットの再度の引き上げを行う工程を備えるシリコンインゴットの製造方法。
- 前記シリコン融液中にBaを添加する請求項7に記載の方法。
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