JP5497938B2 - 加熱調理器 - Google Patents

Description

この発明は、被加熱食材から発生する臭いを脱臭できる加熱調理器に関する。

被加熱食材から発生する臭いを脱臭できる加熱調理器として、特開平８‐３３６４６５号公報に開示された焼物調理器(特許文献１)がある。

この特許文献１に開示された焼物調理器においては、調理が開始されると上ヒータおよび下ヒータに通電されて、網上の調理物が上下両面から加熱される。さらに、触媒を加熱するためのヒータに通電され、上記ヒータが所定の温度に到達すると排気ファンが駆動され、吸引された外気が庫内で発生した煙や臭いと共に脱臭装置に導かれる。そして、加熱された上記触媒によって、導かれた煙や臭いが水蒸気と二酸化炭素とに分解される。こうして清浄化された空気を排気口から機外に排気するようにしている。

ところで、最近、上記上ヒータおよび下ヒータとしての電気ヒータに加えて、蒸気発生装置によって発生された飽和蒸気や過熱蒸気による加熱も行える複合加熱調理が出回っている。このような加熱調理においては、上記飽和蒸気や過熱蒸気による加熱を行う場合には、上述のような脱臭装置に対して空気と共に煙や臭いが混じった多量の蒸気が供給されることになる。そのため、上記脱臭装置の触媒は、蒸気と言う余分な気体をも処理する必要が生ずる。上記触媒の温度としては３００℃以上必要である。ところが、２００℃程度の蒸気が供給されると、触媒温度が低下するため触媒の能力が低下してしまう。

しかしながら、上記特許文献１に開示された従来の焼物調理器においては、上記脱臭装置に多量の蒸気が導かれた場合における上記触媒の能力低下については何ら考慮されてはいない。したがって、上記従来の焼物調理器を、上記飽和蒸気や過熱蒸気による加熱も行える複合加熱調理に適用した場合には、被加熱食材から発生する煙や臭いを確実に脱臭することができないという問題がある。

特開平８‐３３６４６５号公報

そこで、この発明の課題は、熱源として蒸気が用いられた場合でも脱臭用触媒の温度低下を防止して、蒸気中の臭いを効果的に除去できる加熱調理器を提供することにある。

上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
蒸気を発生させる蒸気発生部と、
加熱ヒータが設けられると共に、上記蒸気発生部で発生された蒸気が供給されて、上記加熱ヒータあるいは蒸気の少なくとも一方からの熱を熱源とする加熱調理が行われる加熱室と、
上記加熱室内の気体を排気する排気経路と、
上記排気経路内に設置されると共に、上記排気される気体中の臭気を除去する酸化触媒と、
上記酸化触媒を加熱する触媒ヒータと、
ユーザによって操作されると共に、調理メニューを指示するための操作部と、
上記操作部によって、上記蒸気発生部で蒸気を発生させて加熱調理を行う蒸気調理メニューが指示された際に、上記蒸気発生部で蒸気を発生させるために配置された蒸気発生ヒータと、
上記操作部によって上記蒸気調理メニューが指示された場合には、上記触媒ヒータへの供給電力を増加させる触媒ヒータ制御部と
を備え、
上記触媒ヒータ制御部は、上記操作部によって上記蒸気調理メニューが指示された場合には、上記触媒ヒータの目標温度を、上記蒸気発生部を機能させずに蒸気を用いない加熱調理を行う場合の目標温度よりも高い目標温度とする
ことを特徴としている。

上記構成によれば、ユーザによって操作される操作部よって、蒸気を用いる蒸気調理メニューが指示された場合には、蒸気発生ヒータによって蒸気発生部で蒸気が発生されて、加熱室で上記蒸気発生部で発生された蒸気からの熱を熱源とする加熱調理が行われる。そして、触媒ヒータ制御部によって、触媒ヒータの目標温度が蒸気を用いない加熱調理の場合よりも高い目標温度に設定されて、上記触媒ヒータへの供給電力を増加させるようにしている。したがって、熱源として蒸気が用いられて蒸気の分だけ触媒の負荷量が増加しても、上記触媒ヒータへの供給電力が増加されて上記触媒ヒータの温度が略所望温度に保たれ、蒸気中の臭いを効果的に除去できる。

さらに、上記加熱室および排気経路内の蒸気の量が多くて排気中の酸素濃度が低下しても、上記酸化触媒の温度が高められて酸化触媒の脱臭能力を向上でき、酸素濃度の低下に起因する能力低下を補うことができる。

以上より明らかなように、この発明の加熱調理器は、操作部よって蒸気を用いる蒸気調理メニューが指示された場合には、触媒ヒータの目標温度を蒸気を用いない加熱調理の場合よりも高い目標温度に設定して、上記触媒ヒータへの供給電力を増加させるので、熱源として蒸気が用いられて蒸気の分だけ酸化触媒の負荷量が増加しても、上記触媒ヒータへの供給電力が増加されて上記触媒ヒータの温度が略所望温度に保たれる。したがって、熱源として蒸気が用いられている場合でも蒸気中の臭いを効果的に除去できる。

さらに、蒸気の量が多くて排気中の酸素濃度が低下しても上記酸化触媒の脱臭能力を向上でき、酸素濃度の低下に起因する能力低下を補うことができる。

この発明の加熱調理器の一例としてのＩＨクッキングヒータにおける斜視図である。 図１において前面パネルを取り除いた状態の正面図である。 図１における蒸気発生装置からの蒸気経路と触媒ユニットとを模式的に示す図である。 図３における触媒ヒータの加熱制御系のブロック図である。

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。

図１は、本実施の形態の一例としてのＩＨ(電磁誘導加熱)クッキングヒータにおける正面斜め上方から見た斜視図である。また、図２は、図１において前面パネルを取り除いた状態の正面図である。

本ＩＨクッキングヒータは、図１および図２に示すように、キャビネット１の上面に設けられたトッププレート２に、前面側に右ＩＨヒータ３と左ＩＨヒータ４との２つのＩＨヒータを所定の間隔をあけて配置している。さらに、そのＩＨヒータ３,４の中間で且つ後面側に中央ＩＨヒータ５を配置している。トッププレート２の後面側の右側に吸気口６を設け、トッププレート２の後面側の左側に排気口７を設けている。また、トッププレート２の前面側には、ＩＨ用操作部８を配置している。ここで、「前面側」とは、ロースター部９の加熱室１０の開口側であり、「後面側」とは、加熱室１０の開口側と反対の側である。

また、上記キャビネット１の前面側には、前面パネル１１の中央部に蒸気発生装置１２を配置すると共に、前面パネル１１の左側には加熱室１０を配置している。加熱室１０と蒸気発生装置１２との前面側には、レールユニット１３a,１３bによって前後方向に摺動可能に取り付けられた把手付きドア１４を備えている。

上記前面パネル１１における加熱室１０の開口の周囲にはパッキン(図示せず)が取り付けられており、把手付きドア１４を閉じた状態で、上記パッキンによって加熱室１０の開口の周囲がシールされる。尚、把手付きドア１４を閉じた状態では、蒸気発生装置１２の前面側と把手付きドア１４との間には、通風用の隙間が設けられている。

上記蒸気発生装置１２は、水ポット１５と、この水ポット１５を加熱するポットヒータ１６とを備えている。このポットヒータ１６は、加熱部分が底板から円錐台形状に突出している。ポットヒータ１６によって水ポット１５を加熱することにより、水ポット１５内の水が沸騰して蒸気が発生する。こうして発生した蒸気が加熱室１０に供給され、加熱室１０では、蒸気発生装置１２から供給された蒸気とシーズヒータ等の熱源とによって、食材が加熱調理される。

また、上記前面パネル１１における蒸気発生装置１２の右側には、液晶表示部１７および操作キー部１８を有するロースター部９用の前面操作部１９を配置している。

上記ロースター部９は、図２に示すように、加熱室１０と、この加熱室１０の上部に配置された例えばシーズヒータ等でなる上ヒータ２０と、加熱室１０の下部に配置された例えばシーズヒータ等でなる下ヒータ２１と、上ヒータ２０を覆う金属板によって加熱室１０との間が仕切られた上ヒータ室２２と、下ヒータ２１を覆う金属板によって加熱室１０との間が仕切られた下ヒータ室２３とを備えている。このように、上ヒータ２０と下ヒータ２１とを上ヒータ室２２と下ヒータ室２３との中に収納することによって、被加熱食材からの油が両ヒータ２０,２１に付着することに起因する発煙や発火がなく、両ヒータ２０,２１の汚れを防止することができる。

また、上記前面操作部１９の後側であって、上記蒸気発生装置１２の右側には、右ＩＨヒータ３用の右ＩＨインバータ回路２４、中央ＩＨヒータ５用の中央ＩＨインバータ回路２５、および、左ＩＨヒータ４用の左ＩＨインバータ回路２６が、積層されて配置されている。尚、２７は、被加熱食材を載せるためのトレイである。

図３は、上記蒸気発生装置１２によって発生した蒸気を加熱室１０に供給するための蒸気経路と、加熱室１０からの蒸気中の臭いを脱臭する触媒ユニットとを、模式的に示したものである。蒸気発生装置１２の水ポット１５は、その上部が蒸気通路３１によって上ヒータ室２２に接続されている。そして、蒸気通路３１を介して上ヒータ室２２に供給された飽和蒸気は、上ヒータ室２２の下面に形成された蒸気供給孔３２から加熱室１０内に噴出される。その際に、上ヒータ２０を駆動して飽和蒸気をさらに加熱することによって、加熱室１０内に過熱蒸気を噴出することができる。

すなわち、本実施の形態における上記ロースター部９の機能としては、上ヒータ２０と下ヒータ２１とによるグリル調理およびオーブン調理、蒸気供給孔３２からの過熱蒸気によるグリル調理およびオーブン調理、蒸気供給孔３２からの飽和蒸気による蒸し調理等がある。

さらに、上記加熱室１０の側方には、触媒ユニット３３を併設している。この触媒ユニット３３は、触媒を収納する筒状の本体部３４を有しており、本体部３４の下部は排気通路３５によって加熱室１０内におけるトレイ２７よりも下部に連結されている。また、本体部３４の上部には開口３６が設けられており、圧力が高まった加熱室１０内の気体が排気通路３５を介して本体部３４内に導入され、開口３６の直下に設置された触媒３７によって脱臭が行われて開口３６から外部に排出される。本体部３４における触媒３７の上流側には、触媒３７を加熱するための触媒ヒータ３８が設置されている。

尚、上記触媒３７としては、パラジュウムあるいは白金を、セラミックあるいはニッケルに添加したものを用いる。また、触媒ヒータ３８を、触媒３７よりも少々上流側に設置することによって、触媒３７の温度が高くなり過ぎないようにしている。

以上のごとく、本実施の形態においては、排気通路３５および本体部３４で上記排気経路を構成しているのである。

上記触媒ヒータ３８は、触媒ヒータ制御部３９による制御の下に加熱される。図４は、触媒ヒータ３８の加熱制御系のブロック図を示す。上述したように、上記飽和蒸気や過熱蒸気による加熱を行う場合には、触媒ユニット３３に対して煙や臭いが混じった多量の蒸気が供給され、３００℃以上必要である触媒温度が低下して触媒３７の脱臭能力が低下してしまう。そこで、触媒ヒータ制御部３９は、加熱室１０に蒸気がある場合に、触媒ヒータ３８への供給電力を増加させるようにしている。

より具体的には、上記ポットヒータ１６の近傍に、このポットヒータ１６の温度を検知することによってポットヒータ１６のオン・オフを検知するポットサーミスタ４０を設ける。また、水ポット１５と上ヒータ室２２とを接続する蒸気通路３１に、蒸気通路３１内の気体温度を検出する蒸気サーミスタ４１を設ける。そして、触媒ヒータ制御部３９は、ポットサーミスタ４０からのポットヒータ１６の温度を表す検出信号と、蒸気サーミスタ４１からの気体温度を表す検出信号とに基づいて、ポットヒータ１６の温度が予め設定された第１の所定値以上である場合にポットヒータ１６がオンであると判断し、且つ、蒸気通路３１内の気体温度が予め設定された上記第１の所定値とは異なる第２の所定値以上である場合に加熱室１０に蒸気が供給されて加熱室１０には蒸気があると判断して、触媒ヒータ３８への供給電力を増加させるのである。

すなわち、本実施の形態においては、上記ポットサーミスタ４０で、蒸気発生ヒータオン・オフ検知部を構成している。また、蒸気サーミスタ４１で、蒸気有無検知部を構成しているのである。

以上のごとく、本実施の形態においては、上記触媒ヒータ制御部３９によって、ポットサーミスタ４０および蒸気サーミスタ４１からの検出信号に基づいて、ポットヒータ１６がオンであり且つ加熱室１０に蒸気があると判断した場合には、触媒ヒータ３８への供給電力を増加させるようにしている。したがって、触媒ユニット３３の本体部３４に２００℃程度の蒸気が排出されて、触媒３７の温度が最適な３００℃以上を維持できなくなった場合あっても、触媒ヒータ３８の温度が３００℃以上に上昇されて脱臭能力が維持されるのである。

尚、上記触媒ヒータ制御部３９による触媒ヒータ３８への供給電力の増加量は、例えば以下のようにして得ることができる。

すなわち、上記蒸気サーミスタ４１で検出される蒸気通路３１内の気体温度は、加熱室１０内の蒸気量および蒸気温度とある程度相関を有しており、蒸気通路３１内の気体温度から触媒ヒータ３８の所望温度からの温度低下量を推定できる。そこで、上記推定の結果に基づいて、蒸気通路３１内の気体温度に対応した触媒ヒータ３８の電力上昇量を予め設定し、メモリに格納しておく。そして、蒸気通路３１内の気体温度に基づいて上記メモリを参照することによって、触媒ヒータ３８の電力上昇量を得ることができる。

あるいは、上記過熱蒸気によるグリル調理およびオーブン調理や上記飽和蒸気による蒸し調理等の調理カテゴリに応じて、本体部３４に排出される蒸気の量および温度がある程度定まる。そこで、調理メニューや調理カテゴリに応じて触媒ヒータ３８の電力上昇量を予め設定してメモリに格納しておき、操作部(図示せず)から指示された調理メニューや調理カテゴリに基づいて参照しても良い。

尚、上記触媒ヒータ３８の近傍に温度センサを設置し、この温度センサの検知温度が目標温度になるように触媒ヒータ３８の電力を制御することも可能である。しかしながら、その場合には、触媒ヒータ３８の温度を検出するためだけの専用の温度センサを設置しなければならず、コストアップに繋がる。それに対し、上記構成によれば、上記専用の温度センサが無くとも、触媒ヒータ３８の温度を所望の温度に維持することが可能になり、コストアップを抑制することができるのである。

ところで、上記過熱蒸気によるグリル調理およびオーブン調理等の場合には、加熱室１０には多量蒸気が供給され、引いては本体部３４に多量の蒸気が排出される。触媒３７は酸化触媒であるため、加熱室１０に多量の蒸気が供給されると酸素の割合が減って酸化触媒３７の能力が落ちる。そこで、本実施の形態においては、触媒ヒータ制御部３９によって、例えば蒸気通路３１内の気体温度が上記各所定値よりも高い第３の所定値を超える場合には、触媒ヒータ３８の目標温度をより高い新たな目標温度とするのである。こうすることによって、蒸気の量が多く排気中の酸素濃度が低下しても、触媒３７の温度がより高められて触媒３７の能力を向上でき、酸素濃度低下に起因する触媒３７の能力低下を補うことができるのである。

尚、本実施の形態においては、上記触媒ヒータ制御部３９によって、ポットサーミスタ４０および蒸気サーミスタ４１からの検出信号に基づいて、触媒ヒータ３８への供給電力の増加を判断するようにしている。しかしながら、この発明はこれに限定されるものではなく、ポットサーミスタ４０と蒸気サーミスタ４１との何れか一方の検出信号に基づいて判断しても差し支えない。さらに、上記蒸気有無検知部を蒸気サーミスタ４１で構成しているが、例えば、蒸気通路３１に設けられて蒸気通路３１内の湿度を検知する蒸気通路湿度センサ、排気通路３５に設けられて排気通路３５内の温度を検知する排気通路温度センサ、排気通路３５に設けられて排気通路３５内の湿度を検知する排気通路湿度センサ、例えば水ポット１５の外周面に設けられて水ポット１５の温度を検知する水ポット温度センサで構成することも可能である。また、これらの組み合わせで構成しても差し支えない。何れの場合にも加熱室１０に蒸気があるか否かを検知することが可能である。

ここで、本実施の形態の上記蒸気発生装置１２は、ポットヒータ１６によって水ポット１５を加熱することによって水ポット１５内の水を沸騰させて蒸気を発生させる構造を有している。これに対し、蒸発皿を加熱し、ポンプによって少量ずつ水を上記蒸発皿に滴下し、瞬時に水を蒸発させて蒸気を発生する構造の蒸気発生装置がある。その場合には、上記蒸発皿の外周面に、上記蒸気有無検知部としての温度センサを取り付けることができない。しかしながら、上述のような蒸発皿にポンプで水を滴下する構造の蒸気発生装置においては、上記ポンプが動作している場合には必ず蒸気が発生しており、蒸気通路３１を介して加熱室１０に供給されている。そこで、上記ポンプのオン・オフを検知することによって、加熱室１０に蒸気があるか否かを検知することが可能である。

また、上記実施の形態においては、上記触媒ユニット３３における本体部３４の上部には開口３６のみを設け、圧力が高まった加熱室１０内の気体が自然に本体部３４内に導入されるようにしている。しかしながら、排気通路３５から開口３６の間に、モータによって駆動される排気ファンを設け、この排気ファンが運転されると、加熱室１０内の気体が吸引されて触媒３７を通って開口３６から外部に排気されるようにしても構わない。そうすることによって、加熱室１０内の臭気を強制的に除去することが可能なる。

また、上記実施の形態においては、上記触媒３７としてパラジュウムあるいは白金等の酸化触媒を例に上げて説明しているが、この発明は触媒の種類を特定するものではない。また、触媒３７の加熱温度も上述の温度に限定されるものではなく、触媒３７の種類に応じて適宜設定すればよい。また、触媒ユニット３３における本体部３４への触媒３７の取り付け方法や触媒ヒータ３８の種類や形状にも、何ら限定を加えるものではない。

また、上記実施の形態においては、上記過熱蒸気および飽和蒸気を使った調理のみについて説明しているが、上ヒータ室サーミスタ４２,下ヒータ室サーミスタ４３および庫内サーミスタ４４の検知温度に従って、上ヒータ２０および下ヒータ２１を駆動制御して、加熱室１０内の被加熱食材を調理することが可能である。その場合には、加熱室１０内に蒸気は供給されないので、触媒３７の温度は３００℃以上の適温に保たれて、触媒３７の脱臭能力は低下しない。

また、上記実施の形態においては、この発明の加熱調理器をＩＨクッキングヒータに適用した場合を例に説明したが、これに限らずオーブンレンジ等に適用しても一向に構わない。

この発明の加熱調理器によれば、クッキングヒータ(ＩＨヒータや電気ヒータ等の電気コンロあるいはガスコンロを用いたものを含む)やオーブンレンジ等において、スチームあるいは過熱蒸気を用いることにより、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、この発明の加熱調理器では、温度が１００℃以上の過熱蒸気あるいは飽和蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱蒸気あるいは飽和蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができ、食品表面がパリッと焼き上がり、仕上がり状態の良い調理を行うことができる。また、凝縮水が食品の表面に付着して余分な塩分や油脂分と共に滴下することによって、食品中の塩分や油脂分を低減できる。さらに、加熱室１０内は過熱蒸気あるいは飽和蒸気が充満して無酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。

３,４,５…ＩＨヒータ、
９…ロースター部、
１０…加熱室、
１２…蒸気発生装置、
１５…水ポット、
１６…ポットヒータ、
２０…上ヒータ、
２１…下ヒータ、
２２…上ヒータ室、
２３…下ヒータ室、
３１…蒸気通路、
３２…蒸気供給孔、
３３…触媒ユニット、
３４…本体部、
３５…排気通路、
３６…開口、
３７…触媒、
３８…触媒ヒータ、
３９…触媒ヒータ制御部、
４０…ポットサーミスタ、
４１…蒸気サーミスタ、
４２…上ヒータ室サーミスタ、
４３…下ヒータ室サーミスタ、
４４…庫内サーミスタ。

Claims (1)

1. 蒸気を発生させる蒸気発生部と、
   加熱ヒータが設けられると共に、上記蒸気発生部で発生された蒸気が供給されて、上記加熱ヒータあるいは蒸気の少なくとも一方からの熱を熱源とする加熱調理が行われる加熱室と、
   上記加熱室内の気体を排気する排気経路と、
   上記排気経路内に設置されると共に、上記排気される気体中の臭気を除去する酸化触媒と、
   上記酸化触媒を加熱する触媒ヒータと、
   ユーザによって操作されると共に、調理メニューを指示するための操作部と、
   上記操作部によって、上記蒸気発生部で蒸気を発生させて加熱調理を行う蒸気調理メニューが指示された際に、上記蒸気発生部で蒸気を発生させるために配置された蒸気発生ヒータと、
   上記操作部によって上記蒸気調理メニューが指示された場合には、上記触媒ヒータへの供給電力を増加させる触媒ヒータ制御部と
   を備え、
   上記触媒ヒータ制御部は、上記操作部によって上記蒸気調理メニューが指示された場合には、上記触媒ヒータの目標温度を、上記蒸気発生部を機能させずに蒸気を用いない加熱調理を行う場合の目標温度よりも高い目標温度とする
   ことを特徴とする加熱調理器。

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