JP5492453B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本実施形態にかかる垂直磁気記録媒体100について説明する。図1は、垂直磁気記録媒体100の構成を示す図である。図1に示すように、垂直磁気記録媒体100は、基板110、付着層112、軟磁性層114、非磁性層116、下地層118、非磁性グラニュラ層120、磁気記録層122、補助記録層124、媒体保護層126、潤滑層128から構成される。なお、本実施形態において非磁性層116は、第1非磁性層116aと第2非磁性層116bからなる。
次に、本実施形態にかかる成膜装置200について説明する。図3は、成膜装置200の構成を示す図である。成膜装置200は、ロードロックチャンバー202、コーナーチャンバー204、ヒートチャンバー206、成膜チャンバー208、ローテーションチャンバー210、アンロードロックチャンバー212を連結して製造ラインをなすインライン方式を採用している。これらのチャンバーの各々には真空引きをするための排気管が取り付けられ、真空状態を維持したままチャンバー間を移動できるようになっている。
次に、上述した垂直磁気記録媒体100、成膜装置200を踏まえ、本実施形態の特徴たる優れた磁気記録媒体の製造方法について説明する。本実施形態にかかる磁気記録媒体の製造方法は、ある層を成膜してから次の層を成膜するまでの間に、成膜を行わずに基板110にバイアスを印加する空バイアス工程を含んで構成される(以下、このときのバイアスを「空バイアス」という。)。これにより、層表面に生じた劣化を解消し、効果的に磁気記録媒体の性質を向上させることができる。以下、具体的な実施例を挙げて詳しく説明する。
成膜間に生じる層表面の劣化を、空バイアスの印加により解消できることを実証するために以下の検証を行った。
110 …基板
112 …付着層
114 …軟磁性層
116 …非磁性層
116a …第1非磁性層
116b …第2非磁性層
118 …下地層
120 …非磁性グラニュラ層
122 …磁気記録層
124 …補助記録層
126 …媒体保護層
128 …潤滑層
200 …成膜装置
202 …ロードロックチャンバー
204 …コーナーチャンバー(ブランクチャンバー)
206 …ヒートチャンバー
208 …成膜チャンバー
210 …ローテーションチャンバー(ブランクチャンバー)
212 …アンロードロックチャンバー
220 …キャリア担体
222 …載置部
224 …アーム
240 …ターゲット
242 …真空引き排気管
244 …ガス導入管
246 …ガス導入装置
250 …バイアス直流電源
252 …バイアス直流電源
Claims (4)
- 複数のチャンバーが連結されたインライン方式の成膜装置を用いて基板上に複数の層をスパッタリングによって成膜する磁気記録媒体の製造方法において、
次の層を成膜する際にバイアスを印加するために前記基板を回転させる回転工程と、
成膜を行わずに前記基板にバイアスを印加する空バイアス工程と、
前記基板上にバイアスを印加しながら成膜するバイアス成膜工程とを、この順に行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 複数のチャンバーが連結されたインライン方式の成膜装置を用いて基板上に複数の層をスパッタリングによって成膜する磁気記録媒体の製造方法において、
軟磁性層を成膜する軟磁性層成膜工程と、
次の層を成膜する際にバイアスを印加するために前記基板を回転させる回転工程と、
成膜を行わずに前記基板にバイアスを印加する空バイアス工程と、
前記基板上にバイアスを印加しながらNiを主成分とする非磁性の前下地層を成膜するバイアス成膜工程と、
RuまたはRu化合物からなる下地層を成膜する下地層成膜工程とを、この順に行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記空バイアス工程の後であって、前記バイアス成膜工程の前に、
バイアスを印加せずにNiを主成分とする非磁性の前下地層を成膜する非バイアス成膜工程を行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 前記空バイアス工程において印加するバイアスの電圧は、300V以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
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