JP5489765B2 - 光学素子の製造方法、及び、光学素子成形用型セット - Google Patents

Description

本発明は、離型剤供給工程を含む光学素子の製造方法、並びに、一対の成形型及びスリーブを備える光学素子成形用型セットに関する。

従来、一対の成形型によるプレス成形で光学素子を製造する際に、成形型と光学素子材料との離型性（剥離性）を良好にする目的で離型剤が使用されている（例えば、特許文献１参照）。

例えば、離型剤は、成形型や光学素子材料に直接塗布され、光学素子材料の加熱工程で、成形温度よりも低い温度で揮発する。
図５Ａ〜図５Ｃは、従来の、離型剤を用いた光学素子の製造方法を説明するための概略図である。

図５Ａは加熱工程を、図５Ｂは加圧工程及び冷却工程を、図５Ｃは離型工程を、それぞれ示している。
上型８１と下型８２とが互いに対向した状態で、下型８２には例えばガラス材料である光学素子材料８３が配置されている。この光学素子材料８３の外周面には、高さ方向中央部分に離型剤８４が塗布されている。

図５Ａに示す加熱工程では、上型８１は、光学素子材料８３との接触位置よりも上方で待機した状態にある。この状態で、光学素子材料８３は、下型８２からの熱伝導等によって加熱される。このとき、光学素子材料８３に塗布された離型剤８４は、加熱されて揮発する。揮発した離型剤８４は、上型８１の底面に付着物８４ａとして付着する。なお、図示はしないが、付着物８４ａは、光学素子材料８３にも付着する。

図５Ｂに示す加圧工程では、上型８１は、光学素子材料８３を加圧するべく下降し、付着物８４ａが底面に付着した状態のまま光学素子材料８３を加圧する。冷却工程では、所望の厚さまで加圧された光学素子材料８３が、例えばガラス転移点温度以下になるまで冷却される。

図５Ｃに示す離型工程では、上型８１は、光学素子材料８３を加圧した位置から上方の待機位置へ上昇し、光学素子材料８３から離型される。
以上のように製造される光学素子（光学素子材料）８３には、付着物８４ａが付着すると共に、上型８１に付着した付着物８４ａの形状が転写されて微細な凹部８３ａが形成される。

特開２００３−２０２４７号公報

上述のように、離型剤を用いて光学素子を製造すると、揮発した離型剤が光学素子材料に付着したり、成形型に付着した離型剤の形状が光学素子材料に転写されたりすることで、光学素子の面精度が悪化する。

本発明の目的は、離型剤を用いても光学素子の面精度の悪化を防ぐことができる光学素子の製造方法及び光学素子成形用型セットを提供することである。

本発明の光学素子の製造方法は、一対の成形型により光学素子材料を加圧する加圧工程を備え、この加圧工程は、上記光学素子材料を加圧し始めた後で且つ加圧し終える前に、上記一対の成形型の間への離型剤の供給を開始する離型剤供給工程を含む。

また、上記光学素子の製造方法において、上記離型剤供給工程では、上記加圧工程において上記一対の成形型の両方が上記光学素子の有効径の範囲全面に接触した後で且つ上記光学素子材料を加圧し終える前に、上記離型剤の供給を開始するとよい。

また、上記光学素子の製造方法において、上記一対の成形型の周囲には、スリーブが配置され、上記スリーブの内周面には、凹部が形成され、上記離型剤供給工程では、上記加圧工程時に上記一対の成形型が相対的に接近することによって、上記一対の成形型のうちの少なくとも一方の成形型の外周面に配置された離型剤が上記凹部に露出することにより、上記一対の成形型の間の空間に上記離型剤を供給するとよい。

また、上記光学素子の製造方法において、上記離型剤供給工程では、上記一対の成形型の間に上記離型剤を吐出することにより、上記離型剤を供給するとよい。

本発明の光学素子成形用型セットは、一対の成形型と、前記一対の成形型の周囲に配置されたスリーブと、を備え、前記スリーブの内周面には、凹部が形成され、前記一対の成形型のうちの少なくとも一方の成形型の外周面には、離型剤が配置され、前記離形剤が配置される位置は、前記一対の成形型の間隔が、加圧する光学素子材料の厚さより小さくかつ最終的に得る光学素子の厚さより大きい長さまで狭まったときに、初めて前記凹部に露出する位置である。

また、上記光学素子成形用型セットにおいて、上記離型剤は、上記成形型の外周面に設けられた窪みに配置される構成とするとよい。

本発明によれば、離型剤を用いても光学素子の面精度の悪化を防ぐことができる。

本発明の第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その１）である。 本発明の第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その２）である。 本発明の第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その３）である。 本発明の第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その４）である。 本発明の第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その５）である。 本発明の第２の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの断面図（その１）である。 本発明の第２の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの断面図（その２）である。 本発明の第２の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの断面図（その３）である。 本発明の第２の実施の形態に係る光学素子成形用型セットの上型及びスリーブを示す断面図である。 本発明の第３の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その１）である。 本発明の第３の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その２）である。 本発明の第３の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの部分断面図（その３）である。 本発明の第３の実施の形態の変形例に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セットの正面図である。 従来の、離型剤を用いた光学素子の製造方法を説明するための概略図（その１）である。 従来の、離型剤を用いた光学素子の製造方法を説明するための概略図（その２）である。 従来の、離型剤を用いた光学素子の製造方法を説明するための概略図（その３）である。

以下、本発明の実施の形態に係る光学素子の製造方法及び光学素子成形用型セットについて、図面を参照しながら説明する。

＜第１の実施の形態＞
図１Ａ〜図１Ｅは、本発明の第１の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための光学素子成形用型セット（以下、単に「型セット」という）１０の部分断面図である。

型セット１０は、一対の成形型としての上型（第１の成形型）１１及び下型（第２の成形型）１２と、これらの周囲に配置されたスリーブ１３と、を備える。

上型１１及び下型１２は、例えば円柱形状を呈し、互いに対向して配置されている。本実施の形態では、上型１１及び下型１２の成形面１１ａ，１２ａは、平面に形成されている。なお、成形面１１ａ，１２ａの形状は、球面形状、非球面形状、自由曲面形状、フレネル形状、微細構造を有する形状等であってもよい。

下型１２の成形面１２ａ上には、光学素子材料２０が配置される。この光学素子材料２０は、例えばガラス材料である。
下型１２の外周面には、窪み１２ｂが設けられている。この窪み１２ｂは、本実施の形態では下型１２の外周面の全周に亘って帯状に設けられている。窪み１２ｂには、離型剤３０が定期的に塗布される。離型剤３０は、例えば、上型１１若しくは下型１２又はこれらの間に配置された光学素子材料２０の加圧工程時の温度よりも低い温度で揮発するものを用いるとよい。

本実施の形態では、離型剤３０は窪み１２ｂに配置されるが、下型１２の外周面におけるスリーブ１３の内周面の摺動を阻害したり、離型剤３０が散乱したりしなければ、窪み１２ｂを省略することも可能である。なお、離型剤３０が、窪み１２ｂから下型１２とスリーブ１３との間隙を通って、上型１１と下型１２との間の空間に流入するのを防ぐため、スリーブ１３に径方向に延びる通気孔を設けると共に、この通気孔を介して上型１１と下型１２との間の空間の気体ごと離型剤３０を吸引する吸引部を配置してもよい。

スリーブ１３は、例えば円筒形状を呈する。スリーブ１３の内周面には、凹部１３ａが形成されている。この凹部１３ａは、本実施の形態ではスリーブ１３の内周面の全周に亘って形成されている。

スリーブ１３は、上型１１と共に、例えば、図示しない型昇降部に連結された上側ヒータプレートに固定されている。このように上型１１とスリーブ１３とは一体に移動するため、上型１１とスリーブ１３とを一体に形成してもよい。一方、下型１２は、例えば、光学素子製造装置のベース部上に配置された下側ヒータプレートに固定されている。

以下、本実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明する。なお、後述する動作の制御は、図示しない制御部によって行なわれるものとする。また、上型１１を介しての光学素子材料２０の加圧は、上記の図示しない型昇降部（加圧部）によって行われ、光学素子材料２０の温度調整は、上記の図示しないヒータプレート（加熱部・冷却部）によって行われるものとする。

図１Ａに示すように、図示しない搬送ロボットにより下型１２の成形面１２ａ上に光学素子材料２０が配置される。なお、光学素子材料２０が上記搬送ロボットにより上型１１と下型１２との間に搬送されてくる際には、図１Ｅに示すように、上型１１及びスリーブ１３は、下型１２の上方で待機している。

図１Ａに示すように上型１１と光学素子材料２０との間に間隔がある状態、又は、図１Ｂに示すように上型１１と光学素子材料２０とが互いに接触した状態で、光学素子材料２０は、上型１１及び下型１２を介した熱伝導等によって例えばガラス転移点温度以上になるまで加熱される（加熱工程）。この加熱工程では、窪み１２ｂに配置された離型剤３０が揮発するが、窪み１２ｂがスリーブ１３の内周面で塞がれているため、離型剤３０は窪み１２ｂから放出されない。なお、上述した吸引部を設けた場合には、離型剤３０は、吸引部により吸引され、スリーブ１３と上下型１１，１２で形成された空間内へは流入しない。

図１Ｂに示すように上型１１と光学素子材料２０とが互いに接触した状態から、図１Ｃに示すように、上型１１及びスリーブ１３が下降し、上型１１と下型１２との間で光学素子材料２０が加圧される（加圧工程）。

この加圧工程時に上型１１及びスリーブが下降して上型１１と下型１２とが接近することによって、下型１２の窪み１２ｂに配置された離型剤３０がスリーブ１３の凹部１３ａに露出する。この凹部１３ａは、光学素子材料２０の加圧時に上型１１と下型１２との間の空間に連通するため、凹部１３ａに露出して揮発した離型剤３０が凹部１３ａを介して上型１１と下型１２との間に供給される（離型剤供給工程）。

このように、上型１１と下型１２とが相対的に接近することによって、加圧工程において光学素子材料２０を加圧し始めた後で且つ加圧し終える前に、上型１１と下型１２との間への離型剤３０の供給が開始される。

なお、本実施の形態では、図１Ｃに示すように、加圧工程において上型１１及び下型１２の両方が光学素子の有効径２０ａの範囲全面に接触した後で且つ光学素子材料２０を加圧し終える前に、離型剤３０の供給が開始される。

そのため、上型１１と下型１２との間に供給された離型剤３０は、光学素子材料２０のうち有効径２０ａの範囲外の表面、並びに、上型１１及び下型１２の成形面１１ａ，１２ａのうち有効径２０ａの範囲外に形状を転写する部分に付着物（離型皮膜）３０ａとして付着する。

ここで、有効径２０ａとは、光学素子として光学機能を発揮する領域、又は、光学素子として光学機能を発揮させるために周囲よりも高精度に形状を転写される領域をいうものとする。
図１Ｄに示すように光学素子材料２０が所望の厚さになるまで加圧された後、光学素子材料２０は、例えばガラス転移点温度以下になるまで冷却される（冷却工程）。

そして、図１Ｅに示すように上型１１及びスリーブ１３が上昇し、光学素子材料２０から上型１１が離型される（離型工程）。この離型工程では、上型１１と光学素子材料２０との接触面のうち光学素子材料２０の有効径２０ａの範囲外の外周部分に離型剤３０の付着物３０ａが付着しているため、この付着物３０ａによって離型が促進される。

上型１１及びスリーブ１３が下型１２の上方まで上昇した後、光学素子材料２０が図示しない搬送ロボットにより下型１２上から搬出されることで、例えばガラスレンズである光学素子２０が製造される。

以上説明した本実施の形態では、加圧工程において光学素子材料２０を加圧し始めた後で且つ加圧し終える前に、一対の成形型（上型１１及び下型１２）の間への離型剤３０の供給が開始される。そのため、成形型（上型１１）と光学素子材料２０との離型面のうちの外周部分に付着した離型剤３０（付着物３０ａ）によって離型を促進することができる。また、離型面のうちの中央部分に離型剤３０（付着物３０ａ）が付着するのを抑えることができるため、光学素子材料２０の面精度の悪化を防ぐことができる。

よって、本実施の形態によれば、離型剤３０を用いても光学素子の面精度の悪化を防ぐことができる。

ところで、従来は、例えば、光学素子材料又は成形型に直接塗布された離型剤を揮発させることによって、光学素子材料と成形型との接触面の全面に離型剤（離型皮膜）が付着していた。この離型皮膜は、加圧工程等で光学素子材料の流動が少ない部分、特に中央付近で光学素子材料（光学素子）の表面を荒らしてしまい、面精度を悪化させる（外観不良を生じさせる）。

そのため、流動の多い接触面のうちの外周部分へ優先的に離型皮膜を生成させるのが望ましい。なお、接触面のうちの外周部分の離型性は、光学素子材料２０の冷却収縮時に中心部分がひけて外周部分で圧力を受けやすい凸レンズ等で特に重要であり、外周部分の皮膜生成のみでも、離型性向上、ひいては割れやクラックなどの不具合の発生を抑えるのに有効である。また、外周部分の皮膜生成のみでも、例えば図２Ｃに示すように、外周部に平面突出部があるような光学素子形状において、割れやクラックを防ぐためにその部分の滑りが特に重要となるため有効である。

本実施の形態の離型剤供給工程では、加圧工程において一対の成形型（上型１１及び下型１２）の両方が光学素子の有効径２０ａの範囲全面に接触した後で且つ光学素子材料２０を加圧し終える前に、離型剤３０の供給が開始される。したがって、光学素子の面精度の悪化を有効に防ぐことができる。

また、本実施の形態では、一対の成形型（上型１１及び下型１２）の周囲にはスリーブ１３が配置され、このスリーブ１３の内周面には凹部１３ａが形成される。また、離型剤供給工程では、加圧工程時に一対の成形型（上型１１及び下型１２）が相対的に接近することによって、一対の成形型（上型１１及び下型１２）のうちの少なくとも一方の成形型（下型１２）の外周面に配置された離型剤３０がスリーブ１３の凹部１３ａに露出することにより、一対の成形型（上型１１及び下型１２）の間の空間に離型剤３０が供給される。そのため、簡素な構成で、離型剤３０を供給することができる。

また、本実施の形態では、離型剤３０は、成形型（下型１２）の外周面に設けられた窪み１２ｂに配置される。そのため、下型１２の外周面におけるスリーブ１３の内周面の摺動を阻害したり、離型剤３０が散乱したりするのを防ぐことができる

なお、本実施の形態では、加圧工程において光学素子材料２０が加圧され始めた後に、離型剤３０が凹部１３ａに露出することにより上型１１と下型１２との間の空間に供給されるが、離型剤３０が上型１１等に十分に付着するまでに時間がかかる場合や、光学素子材料２０を加圧する時間が短い場合などには、光学素子材料２０を加圧し始める前に離型剤３０を露出させ、光学素子材料２０が加圧され始めた後で且つ加圧され終わる前に、上型１１と下型１２との間に離型剤３０が供給されるようにしてもよい。

また、本実施の形態では、上型１１とスリーブ１３とが一体に移動するため、離型剤３０（窪み１２ｂ）が下型１２に配置されるが、上型１１とスリーブ１３とが相対的に移動する場合には上型１１のみに、或いは、上型１１及び下型１２の両方に離型剤３０が配置されるようにしてもよい。

また、本実施の形態では、下型１２の窪み１２ｂに離型剤３０が配置されるが、例えば、スリーブ１３の凹部１３ａの下方に形成された窪み等に配置された離型剤３０が、下型１２の窪み１２ｂ及びスリーブ１３の凹部１３ａを介して、上型１１と下型１２との間に供給されるようにしてもよい。その他にも、光学素子材料２０が加圧され始めた後で且つ加圧され終わる前に、上型１１と下型１２との間に離型剤３０が供給される供給方法であれば、採用可能である。

＜第２の実施の形態＞
図２Ａ〜図２Ｃは、本発明の第２の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための型セット４０の断面図である。

図２Ｄは、型セット４０の上型４１及びスリーブ４３を示す断面図である。図２Ａ〜図２Ｃは、図２ＤのII−II断面図である。
なお、本実施の形態では、光学素子材料２０、離型剤３０等については上述の第１の実施の形態と同様であるため、適宜説明を省略する。

型セット４０は、一対の成形型としての上型（第１の成形型）４１及び下型（第２の成形型）４２と、これらの周囲に配置されたスリーブ４３と、を備える。型セット４０は、例えば、加熱ステージ、加圧ステージ及び冷却ステージを備える光学素子製造装置内に投入され、ステージ間を順次移送される。これにより、型セット４０に収容された光学素子材料２０から光学素子が製造される。

上型４１及び下型４２は、例えば円柱形状を呈し、互いに対向して配置されている。本実施の形態では、上型４１の底面及び下型４２の上面には、凹型の成形面４１ａ，４２ａが形成されている。

上型４１の外周面には、図２Ｄに示すように３つの窪み４１ｂが例えば周方向に一定間隔で設けられている。各窪み４１ｂには、離型剤３０が例えば嵌入されることにより配置されている。なお、窪み４１ｂは、本実施の形態のように上型５１の周方向に間隔を隔てて複数個設けるか、或いは、上述の第１の実施の形態のように上型５１の周方向に延びるものを１つ以上設けることで、上型４１と下型４２との間に離型剤３０を均等に供給することができる。

スリーブ４３は、例えば円筒形状を呈する。スリーブ４３の内周面には、凹部４３ａが形成されている。この凹部４３ａは、本実施の形態では図２Ｄに示すように窪み４１ｂと同数の３つ設けられている。なお、凹部４３ａは、窪み４１ｂから上型４１と下型４２との間に離型剤３０を供給できるものであればよい。そのため、上述の第１の実施の形態のようにスリーブ４３の周方向に延びる凹部であれば、窪み４１ｂの数よりも少なくしてもよい。

以下、本実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明する。なお、後述する動作の制御は、図示しない制御部によって行なわれるものとする。また、上型４１を介しての光学素子材料２０の加圧は、例えばシリンダである図示しない加圧部によって行われ、光学素子材料２０の温度調整は、上型４１及び下型４２にそれぞれ接触する図示しないヒータプレート（加熱部・冷却部）によって行われるものとする。

図２Ａに示すように、上型４１は、スリーブ４３に上方から嵌入されて光学素子材料２０と接触した状態にある。この状態で、型セット２０は、図示しない移送ロボットにより光学素子製造装置内の加熱ステージに投入される。

上型４１と光学素子材料２０とが互いに接触した状態で、光学素子材料２０は、上型４１及び下型４２を介しての熱伝導等によって例えばガラス転移点温度以上になるまで加熱される（加熱工程）。この加熱工程では、窪み４１ｂに配置された離型剤３０が揮発するが、窪み４１ｂがスリーブ４３の内周面で塞がれているため、離型剤３０は窪み４１ｂから放出されない。

図２Ｂに示すように、加熱された光学素子材料２０は、例えば加圧ステージに移送された後、上型４１を介して加圧される（加圧工程）。
この加圧工程時に上型４１が下降して下型４２と接近することによって、上型４１の窪み４１ｂに配置された離型剤３０がスリーブ４３の凹部４３ａに露出する。この凹部４３ａは、光学素子材料２０の加圧時に上型４１と下型４２との間の空間に連通するため、凹部４３ａに露出した離型剤３０が揮発して、凹部４３ａを介して上型４１と下型４２との間に供給される（離型剤供給工程）。

このように、上型４１と下型４２とが相対的に接近することによって、加圧工程において光学素子材料２０が加圧され始めた後で且つ加圧され終わる前に、上型４１と下型４２との間への離型剤３０の供給が開始される。

なお、本実施の形態においても、図２Ｂに示すように、加圧工程において上型４１及び下型４２の両方が光学素子の有効径２０ａの範囲全面に接触した後で且つ光学素子材料２０を加圧し終える前に、離型剤３０の供給が開始される。

そのため、上型４１と下型４２との間に供給された離型剤３０は、光学素子材料２０のうち有効径２０ａの範囲外の部分、並びに、上型４１及び下型４２の成形面４１ａ，４２ａのうち有効径２０ａの範囲外に形状を転写する部分に付着物（離型皮膜）３０ａとして付着する。

図２Ｃに示すように光学素子材料２０の加圧が終了した後、光学素子材料２０は、冷却ステージに移送され、例えばガラス転移点温度以下になるまで冷却される（冷却工程）。
そして、型セット４０は、光学素子製造装置から搬出され、その後、上型４１が光学素子材料２０から離型される（離型工程）。この後、製造された光学素子（光学素子材料）２０が取り出される。

なお、離型工程では、上型４１と光学素子材料２０との接触面のうち光学素子材料２０の有効径２０ａの範囲外の外周部分に離型剤３０の付着物３０ａが付着しているため、この付着物３０ａによって離型が促進される。

以上説明した本実施の形態においても、上述の第１の実施の形態と同様に、加圧工程において光学素子材料２０が加圧され始めた後で且つ加圧され終わる前に、一対の成形型（上型４１及び下型４２）の間への離型剤３０の供給が開始されることなどによって、離型剤３０を用いても光学素子の面精度の悪化を防ぐことができるなどの第１の実施の形態の効果を得ることができる。

＜第３の実施の形態＞
図３Ａ〜図３Ｃは、本発明の第３の実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明するための型セット５０の部分断面図である。

なお、本実施の形態においても、光学素子材料２０、離型剤３０等については上述の第１の実施の形態と同様であるため、適宜説明を省略する。
型セット５０は、一対の成形型としての上型（第１の成形型）５１及び下型（第２の成形型）５２と、これらの周囲に配置されたスリーブ５３と、を備える。

上型５１及び下型５２は、例えば円柱形状を呈し、互いに対向して配置されている。本実施の形態では、上型５１の底面には凸型の成形面５１ａが形成され、下型５２の上面には平面の成形面５２ａが形成されている。

スリーブ５３は、例えば円筒形状を呈する。スリーブ５３には、径方向に延びる２つの貫通孔５３ａが形成されている。
離型剤吐出部としての２つのノズル６０は、図示しない離型剤供給源に直接的又は間接的に連結され、それぞれ、スリーブ５３の貫通孔５３ａにスリーブ５３の外側から挿入される。ノズル６０の吐出口である先端は、例えば貫通孔５３ａの内部に位置している。なお、本実施の形態では、ノズル６０を２つ配置しているが、１つのみ配置しても、３つ以上配置してもよい。

型セット５０の周囲は特に加熱工程時や加圧工程時に高温となるため、ノズル６０に図示しない断熱機構や冷却機構を設けることでノズル６０内の離型剤３０の熱分解を防ぐとよい。
スリーブ５３は、上型５１と共に、例えば、図示しない型昇降部に連結された上側ヒータプレートに固定されている。そのため、上型５１とスリーブ５３とを一体形成してもよい。一方、下型５２は、例えば、光学素子製造装置のベース部上に配置された下側ヒータプレートに固定されている。

以下、本実施の形態に係る光学素子の製造方法を説明する。なお、後述する動作の制御は、図示しない制御部によって行なわれるものとする。また、上型５１を介しての光学素子材料２０の加圧は、上記の図示しない型昇降部（加圧部）によって行われ、光学素子材料２０の温度調整は、上記の図示しないヒータプレート（加熱部・冷却部）によって行われるものとする。

図示しない搬送ロボットにより下型５２の成形面５２ａ上に光学素子材料５０が配置された後、上型５１及びスリーブ５３が下降し、図３Ａに示すように上型５１と光学素子材料２０とが互いに接触した状態となる。この状態で、光学素子材料２０は、上型５１及び下型５２を介しての熱伝導等によって、例えばガラス転移点温度以上になるまで加熱される（加熱工程）。

光学素子材料２０が加熱された後、図３Ｂに示すように、上型５１及びスリーブ５３が下降し、光学素子材料２０が加圧される（加圧工程）。
この加圧工程において、光学素子材料２０が加圧され始めた後で且つ加圧され終わる前に、ノズル６０は、上型５１と下型５２との間へ離型剤３０を吐出し、離型剤３０の供給が開始される（離型剤供給工程）。

なお、本実施の形態では、図３Ｂに示すように、加圧工程において上型５１が光学素子の有効径２０ａの範囲全面に接触する前に、ノズル６０は、離型剤３０の供給を開始する。
そのため、上型５１と下型５２との間に供給された離型剤３０は、光学素子材料２０のうち有効径２０ａの範囲の内外に亘って付着物３０ａとして付着すると共に、上型５１及び下型５２にも付着物３０ａとして付着する。

図３Ｃに示すように光学素子材料２０の加圧が終了した後、光学素子材料２０は、例えばガラス転移点温度以下になるまで冷却される（冷却工程）。
そして、図示はしないが、上型５１及びスリーブ５３が上昇し、上型５１が光学素子材料２０から離型される（離型工程）。この離型工程では、上型５１と光学素子材料２０との接触面のうち光学素子材料２０の有効径２０ａの範囲の内外に離型剤３０の付着物３０ａが付着しているため、第１及び第２の実施の形態のように光学素子材料２０の有効径２０ａの範囲内のみに付着物３０ａが付着している場合よりも離型が促進される。

この後、上型５１及びスリーブ５３が下型５２の上方まで上昇した後、成形された光学素子材料（光学素子）２０を図示しない搬送ロボットにより下型５２上から搬出される。

以上説明した本実施の形態においても、上述の第１及び第２の実施の形態と同様に、加圧工程において光学素子材料２０が加圧され始めた後で且つ加圧され終わる前に、一対の成形型（上型５１及び下型５２）の間への離型剤３０の供給が開始されることなどによって、離型剤３０を用いても光学素子の面精度の悪化を防ぐことができるなどの第１及び第２の実施の形態の効果を得ることができる。

但し、本実施の形態では、離型剤供給工程では、加圧工程において一対の成形型（上型５１及び下型５２）の両方が光学素子の有効径２０ａの範囲全面に接触する前に、離型剤３０の供給が開始される。

しかしながら、第１の実施の形態で述べたように、付着物３０ａ（離型皮膜）は、加圧工程等で光学素子材料の流動が少ない部分、特に中央付近で光学素子材料（光学素子）２０の表面を荒らしてしまう。そのため、有効径２０ａの範囲の一部に離型剤３０の付着物３０ａが付着していても、成形型（上型５１）と光学素子材料２０との接触面の全面に離型剤３０が付着した場合に比べて面精度の悪化を防ぐことができる。

また、本実施の形態では、離型剤３０を吐出することにより一対の成形型（上型５１及び下型５２）の間に離型剤３０が供給される。したがって、確実に離型剤３０を供給することができる。

なお、本実施の形態では、上型５１、下型５２及びスリーブ５３を有する型セット５０を例に説明したが、図４に示すようにスリーブを有さない型セット７０を用いても離型剤３０を供給することは可能である。

図４に示す型セット７０は、凸型の成形面７１ａが形成された上型７１と、平面の成形面７２ａが形成された下型７２と、を有する。この型セット７０を用いる場合、ノズル（離型剤吐出部）６０は、吐出口である先端が上型７１と下型７２との間或いはその近傍に位置するように配置される。

１０ 光学素子成形用型セット
１１ 上型
１１ａ 成形面
１２ 下型
１２ａ 成形面
１２ｂ 窪み
１３ スリーブ
１３ａ 凹部
２０ 光学素子材料
２０ａ 有効径
３０ 離型剤
３０ａ 付着物
４０ 光学素子成形用型セット
４１ 上型
４１ａ 成形面
４１ｂ 窪み
４２ 下型
４２ａ 成形面
４３ スリーブ
４３ａ 凹部
５０ 光学素子成形用型セット
５１ 上型
５１ａ 成形面
５２ 下型
５２ａ 成形面
５３ スリーブ
５３ａ 貫通孔
６０ ノズル
７０ 光学素子成形用型セット
７１ 上型
７１ａ 成形面
７２ 下型
７２ａ 成形面

Claims (6)

1. 一対の成形型により光学素子材料を加圧する加圧工程を備え、
   前記加圧工程は、前記光学素子材料を加圧し始めた後で且つ加圧し終える前に、前記一対の成形型の間への離型剤の供給を開始する離型剤供給工程を含む、光学素子の製造方法。
2. 請求項１記載の光学素子の製造方法において、
   前記離型剤供給工程では、前記加圧工程において前記一対の成形型の両方が前記光学素子の有効径の範囲全面に接触した後で且つ前記光学素子材料を加圧し終える前に、前記離型剤の供給を開始する、光学素子の製造方法。
3. 請求項１又は請求項２記載の光学素子の製造方法において、
   前記一対の成形型の周囲には、スリーブが配置され、
   前記スリーブの内周面には、凹部が形成され、
   前記離型剤供給工程では、前記加圧工程時に前記一対の成形型が相対的に接近することによって、前記一対の成形型のうちの少なくとも一方の成形型の外周面に配置された離型剤が前記凹部に露出することにより、前記一対の成形型の間の空間に前記離型剤を供給する、光学素子の製造方法。
4. 請求項１又は請求項２記載の光学素子の製造方法において、
   前記離型剤供給工程では、前記一対の成形型の間に前記離型剤を吐出することにより、前記離型剤を供給する、光学素子の製造方法。
5. 一対の成形型と、
   前記一対の成形型の周囲に配置されたスリーブと、を備え、
   前記スリーブの内周面には、凹部が形成され、
   前記一対の成形型のうちの少なくとも一方の成形型の外周面には、離型剤が配置され、
   前記離形剤が配置される位置は、前記一対の成形型の間隔が、加圧する光学素子材料の厚さより小さくかつ最終的に得る光学素子の厚さより大きい長さまで狭まったときに、初めて前記凹部に露出する位置である
   、光学素子成形用型セット。
6. 請求項５記載の光学素子成形用型セットにおいて、
   前記離型剤は、前記成形型の外周面に設けられた窪みに配置される、光学素子成形用型セット。

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