JP5481284B2 - 半導体ウェハの製造方法 - Google Patents
半導体ウェハの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5481284B2 JP5481284B2 JP2010142493A JP2010142493A JP5481284B2 JP 5481284 B2 JP5481284 B2 JP 5481284B2 JP 2010142493 A JP2010142493 A JP 2010142493A JP 2010142493 A JP2010142493 A JP 2010142493A JP 5481284 B2 JP5481284 B2 JP 5481284B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- semiconductor wafer
- abrasive
- polishing pad
- polished
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02002—Preparing wafers
- H01L21/02005—Preparing bulk and homogeneous wafers
- H01L21/02008—Multistep processes
- H01L21/0201—Specific process step
- H01L21/02024—Mirror polishing
Description
ここでは加工されるべきウェハの裏面の特性がプロセス工程の成果自体に大きな影響を与える素子製造の場合に特に重要である。このことは、例えば全ての種類の炉プロセスに通用する。設けられる層、例えば酸化物層の付着は、表面特性に特に本質的に依存し、特に、被覆すべき表面の反射率の程度のために、前記表面の放熱及び吸収挙動、ひいては吸収された熱放射の程度及び例えば長いか又は短い被覆時間の形のプロセス実施自体が関与する。前記ウェハ裏面の特性はこれに関して過去においておろそかにされたため、発明者はここでは商業的な必要性があると見た。
a)シリコン棒をウェハに切断することにより半導体ウェハを準備する工程、
b)前記半導体ウェハのエッジを丸めることで、前記半導体ウェハは前面及び裏面が平坦な面とかつエッジ領域で丸められた傾斜する面とを有する工程、
c)前記半導体ウェハの前面及び裏面を研磨し、前記前面の研磨は、研磨パッド中に固定された砥粒を有していない研磨パッドを使用する化学機械的研磨を有し、前記半導体ウェハの裏面の研磨は、それぞれ研磨パッド中に結合された研磨材料を有する研磨パッドを使用してかつ前記半導体ウェハの裏面に研磨圧力を加える3つの工程で行い、第1の工程では、固体を有していない研磨剤を前記研磨パッドと前記半導体ウェハの裏面との間に導入し、第2及び第3の工程では研磨材料を有する研磨剤を導入し、第1の及び第2の工程の8〜15psi(1psi=6895Pa)の研磨圧力を、第3の工程では0.5〜5psiに低下させる工程を有する半導体ウェハの製造方法によって解決される。
Claims (13)
- a)シリコン棒をウェハに切断することにより半導体ウェハを準備する工程と、
b)前記半導体ウェハのエッジを丸めることで、前記半導体ウェハは前面及び裏面が平坦な面とエッジ領域で丸められかつ傾斜する面とを有する工程と、
c)前記半導体ウェハの前面及び裏面を研磨し、前記前面の研磨は、研磨パッド中に固定された砥粒を有していない研磨パッドを使用する化学機械的研磨を有し、前記半導体ウェハの裏面の研磨は、それぞれ研磨パッド中に結合された研磨材料を有する研磨パッドを使用してかつ前記半導体ウェハの裏面に研磨圧力を加える3つの工程で行い、第1の工程では、固体を有していない研磨剤を前記研磨パッドと前記半導体ウェハの裏面との間に導入し、第2及び第3の工程では研磨材料を有する研磨剤を導入し、第1の及び第2の工程の55160〜103425Paの研磨圧力を、第3の工程では3447.5〜34475Paに低下させる工程とを有する半導体ウェハの製造方法。 - さらに、d)前記半導体の前面をエピタキシャル被覆する工程を有する、請求項1記載の方法。
- 前記研磨剤溶液は、前記半導体ウェハの裏面の研磨の最初の工程において脱イオン水(DIW)を含有する、請求項1又は2記載の方法。
- 前記研磨剤溶液は、化合物、炭酸ナトリウム(Na2CO3)、炭酸カリウム(K2CO3)、水酸化ナトリウム(NaOH)、水酸化カリウム(KOH)、水酸化アンモニウム(NH4OH)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)又はこれらの任意の混合物を含有する、請求項3記載の方法。
- 前記研磨剤溶液のpH値は10〜12であり、前記研磨剤溶液中の前記化合物の割合は0.01〜10質量%である、請求項4記載の方法。
- 第2の研磨工程における研磨剤懸濁液は、アルミニウム、セリウム又はケイ素の元素の酸化物の1種以上の粒子を有する、請求項1又は2記載の方法。
- 前記研磨剤懸濁液はコロイド分散性シリカである、請求項6記載の方法。
- 前記研磨パッドは、固定された研磨材料を、セリウム、アルミニウム、ケイ素、ジルコニウムの元素の酸化物の粒子の形で又は炭化ケイ素、窒化ホウ素及びダイヤモンドのような硬質材料から選択された粒子の形で含有する、請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。
- 研磨パッド中に結合された前記研磨材料の粒度は0.1μm以上でかつ1.0μm以下である、請求項8記載の方法。
- 研磨された前面と、研磨された裏面と、丸められかつ研磨されたエッジとを有し、前面及び裏面では平坦な面を有しかつエッジ領域では傾斜する丸められた面を有し、裏面の平坦な面では0.3〜4.5nmの平均表面粗さRaを有する、請求項1記載の方法により製造された半導体ウェハ。
- 裏面の丸められた面は、0.5〜2nmの平均表面粗さRaを有する、請求項10記載の半導体ウェハ。
- 研磨されかつエピタキシャル被覆された前面と、研磨された裏面と、丸められかつ研磨されたエッジとを有し、前面及び裏面では平坦な面を有しかつエッジ領域では傾斜する丸められた面を有し、裏面の平坦な面では0.3〜4.5nmの平均表面粗さRaを有する、請求項2記載の方法により製造された半導体ウェハ。
- 裏面の傾斜する丸められた面では0.5〜2nmの平均表面粗さRaを有する、請求項12記載の半導体ウェハ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102009030295.6A DE102009030295B4 (de) | 2009-06-24 | 2009-06-24 | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe |
DE102009030295.6 | 2009-06-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011009747A JP2011009747A (ja) | 2011-01-13 |
JP5481284B2 true JP5481284B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=43298897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010142493A Expired - Fee Related JP5481284B2 (ja) | 2009-06-24 | 2010-06-23 | 半導体ウェハの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8389409B2 (ja) |
JP (1) | JP5481284B2 (ja) |
KR (1) | KR101291880B1 (ja) |
CN (1) | CN101930909B (ja) |
DE (1) | DE102009030295B4 (ja) |
SG (1) | SG187384A1 (ja) |
TW (1) | TWI398336B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102009052744B4 (de) | 2009-11-11 | 2013-08-29 | Siltronic Ag | Verfahren zur Politur einer Halbleiterscheibe |
DE102010014874A1 (de) | 2010-04-14 | 2011-10-20 | Siltronic Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe |
US8872189B2 (en) * | 2011-08-05 | 2014-10-28 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Substrate, semiconductor device, and method of manufacturing the same |
CN102983071B (zh) * | 2012-12-12 | 2015-05-06 | 天津中环领先材料技术有限公司 | 一种使用普通砂料的单晶硅晶圆片背损伤加工方法 |
CN103029026B (zh) * | 2012-12-13 | 2014-11-26 | 天津中环领先材料技术有限公司 | 一种超高清洗能力的单晶硅晶圆片清洗方法 |
JP6100002B2 (ja) * | 2013-02-01 | 2017-03-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板裏面の研磨方法および基板処理装置 |
US20150357180A1 (en) * | 2014-06-10 | 2015-12-10 | Sunedison Semiconductor Limited (Uen201334164H) | Methods for cleaning semiconductor substrates |
CN104109481B (zh) * | 2014-06-26 | 2016-05-11 | 河北宇天昊远纳米材料有限公司 | 一种蓝宝石衬底抛光液的制备方法 |
CN104109482B (zh) * | 2014-06-27 | 2016-04-20 | 河北宇天昊远纳米材料有限公司 | 一种铝合金抛光液及其制备方法 |
CN113945434A (zh) * | 2021-08-09 | 2022-01-18 | 中国电子产品可靠性与环境试验研究所((工业和信息化部电子第五研究所)(中国赛宝实验室)) | 芯片去层加工方法及系统 |
CN116871985B (zh) * | 2023-09-05 | 2023-12-01 | 河北远东通信系统工程有限公司 | 一种小尺寸高频压电晶片的抛光工艺 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5152917B1 (en) | 1991-02-06 | 1998-01-13 | Minnesota Mining & Mfg | Structured abrasive article |
US6069080A (en) * | 1992-08-19 | 2000-05-30 | Rodel Holdings, Inc. | Fixed abrasive polishing system for the manufacture of semiconductor devices, memory disks and the like |
JP2850803B2 (ja) | 1995-08-01 | 1999-01-27 | 信越半導体株式会社 | ウエーハ研磨方法 |
US6413156B1 (en) | 1996-05-16 | 2002-07-02 | Ebara Corporation | Method and apparatus for polishing workpiece |
JP2000315665A (ja) | 1999-04-29 | 2000-11-14 | Ebara Corp | 研磨方法及び装置 |
US5897426A (en) | 1998-04-24 | 1999-04-27 | Applied Materials, Inc. | Chemical mechanical polishing with multiple polishing pads |
EP1161322A4 (en) * | 1999-01-21 | 2003-09-24 | Rodel Inc | IMPROVED POLISHING CUSHIONS AND RELATED METHODS |
JP3439402B2 (ja) | 1999-11-05 | 2003-08-25 | Necエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US6387289B1 (en) | 2000-05-04 | 2002-05-14 | Micron Technology, Inc. | Planarizing machines and methods for mechanical and/or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies |
US6602117B1 (en) | 2000-08-30 | 2003-08-05 | Micron Technology, Inc. | Slurry for use with fixed-abrasive polishing pads in polishing semiconductor device conductive structures that include copper and tungsten and polishing methods |
DE10046933C2 (de) * | 2000-09-21 | 2002-08-29 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zur Politur von Siliciumscheiben |
DE10058305A1 (de) | 2000-11-24 | 2002-06-06 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zur Oberflächenpolitur von Siliciumscheiben |
JP3617665B2 (ja) | 2001-01-29 | 2005-02-09 | 三菱住友シリコン株式会社 | 半導体ウェーハ用研磨布 |
KR100420205B1 (ko) * | 2001-09-10 | 2004-03-04 | 주식회사 하이닉스반도체 | 웨이퍼 제조 방법 |
DE10159833C1 (de) | 2001-12-06 | 2003-06-18 | Wacker Siltronic Halbleitermat | Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterscheiben |
KR20030053084A (ko) | 2001-12-22 | 2003-06-28 | 주식회사 실트론 | 실리콘 웨이퍼의 제조방법 |
EP1472047A1 (en) | 2002-01-17 | 2004-11-03 | Nutool, Inc. | Advanced chemical mechanical polishing system with smart endpoint detection |
JP4093793B2 (ja) * | 2002-04-30 | 2008-06-04 | 信越半導体株式会社 | 半導体ウエーハの製造方法及びウエーハ |
US7416962B2 (en) | 2002-08-30 | 2008-08-26 | Siltronic Corporation | Method for processing a semiconductor wafer including back side grinding |
JP2004356336A (ja) | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp | 半導体ウェーハの両面研磨方法 |
EP1699075B1 (en) * | 2003-12-05 | 2012-11-21 | SUMCO Corporation | Method for manufacturing single-side mirror surface wafer |
US20050227590A1 (en) | 2004-04-09 | 2005-10-13 | Chien-Min Sung | Fixed abrasive tools and associated methods |
JP4517867B2 (ja) | 2005-01-31 | 2010-08-04 | 株式会社Sumco | シリコンウェーハ表面形状制御用エッチング液及び該エッチング液を用いたシリコンウェーハの製造方法 |
JP4820108B2 (ja) | 2005-04-25 | 2011-11-24 | コマツNtc株式会社 | 半導体ウエーハの製造方法およびワークのスライス方法ならびにそれらに用いられるワイヤソー |
DE102007026292A1 (de) | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Siltronic Ag | Verfahren zur einseitigen Politur nicht strukturierter Halbleiterscheiben |
DE102007035266B4 (de) * | 2007-07-27 | 2010-03-25 | Siltronic Ag | Verfahren zum Polieren eines Substrates aus Silicium oder einer Legierung aus Silicium und Germanium |
DE102007056122A1 (de) | 2007-11-15 | 2009-05-28 | Siltronic Ag | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit polierter Kante |
-
2009
- 2009-06-24 DE DE102009030295.6A patent/DE102009030295B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-05-04 SG SG2012092375A patent/SG187384A1/en unknown
- 2010-05-12 US US12/778,198 patent/US8389409B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-27 CN CN2010101933544A patent/CN101930909B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-31 KR KR1020100051121A patent/KR101291880B1/ko active IP Right Grant
- 2010-06-09 TW TW099118730A patent/TWI398336B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-06-23 JP JP2010142493A patent/JP5481284B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201107102A (en) | 2011-03-01 |
US8389409B2 (en) | 2013-03-05 |
DE102009030295A1 (de) | 2011-01-05 |
JP2011009747A (ja) | 2011-01-13 |
TWI398336B (zh) | 2013-06-11 |
KR101291880B1 (ko) | 2013-07-31 |
DE102009030295B4 (de) | 2014-05-08 |
CN101930909A (zh) | 2010-12-29 |
KR20100138748A (ko) | 2010-12-31 |
SG187384A1 (en) | 2013-02-28 |
US20100327414A1 (en) | 2010-12-30 |
CN101930909B (zh) | 2012-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5481284B2 (ja) | 半導体ウェハの製造方法 | |
JP5557506B2 (ja) | 半導体ウェーハの両面をポリッシングする方法 | |
KR100979737B1 (ko) | 반도체 재료 기판의 폴리싱 방법 | |
JP5127882B2 (ja) | 半導体ウェハの両面研磨方法 | |
US8338302B2 (en) | Method for polishing a semiconductor wafer with a strained-relaxed Si1−xGex layer | |
JP5853041B2 (ja) | 半導体材料ウェハを研磨するための方法 | |
JP2013214784A (ja) | 半導体ウェハの研磨方法 | |
JP2009124153A (ja) | ポリシングされたエッジ部を備えた半導体ウェハの製造方法 | |
KR101240008B1 (ko) | 반도체 웨이퍼를 연마하는 방법 | |
US8444455B2 (en) | Polishing pad and method for polishing a semiconductor wafer | |
JP5286381B2 (ja) | 半導体ウエハの研磨方法 | |
CN112372509A (zh) | 一种将抛光垫的初始状态转变为亲水性的方法和装置 | |
KR101133355B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 연마 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101227 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20101228 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20111024 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20111116 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20111116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130604 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140121 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140217 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5481284 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |