JP5449381B2 - エピタキシャル成長用CdTe系半導体基板、基板の保管方法及びエピタキシャル成長方法 - Google Patents
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Description
従来、CdTe基板を購入したユーザ(基板ユーザ)は、CdTe基板表面の基板の加工仕上工程やその後の基板保管中に生じる酸化膜を除去するため、前処理としてCdTe基板を数μmから10μm程度エッチングした後、エピタキシャル成長を行っていることが多かった。
例えば、特許文献1にはポリシング(鏡面研磨)の一般的な手法が開示され、特許文献2にはエッチング処理の一般的な手法が開示されている。また、特許文献3には、Hg0.8Cd0.2Teの単結晶基板を0.5μmの粒径のダイヤモンド研磨液で研磨した後、0.5%臭素メタノール溶液で2分間エッチングして研磨キズを取り除くプロセスが開示されている。
一方、基板を購入したユーザは、基板を使用する直前に前処理として数μmから10μm程度のエッチング処理を行い、基板の製造から納品までの期間、更に、ユーザの手元に納品されてから開梱して使用に供されるまでの間に生成される基板表面の酸化膜を予防的に除去することが多かった。しかしながら、このようなエッチング処理を不適切に施すと、CdTe基板表面にオレンジピールが生じたり、表面の平坦度が劣化したりして、良質なエピタキシャル結晶を成長させるのが困難になることが多かった。
ここで、オレンジピールとは基板表面に生じるシワ状欠陥のことである。また、CdTe系半導体基板とは、CdZnTe等、CdTeを主成分としZn等のドーパントを加えた半導体基板を意味する。
続いてクラス100のクリーンブース内で24時間から36時間を経過せしめた後、
0.1μm以上1μm以下のライトエッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、
再びクラス100のクリーンブース内で6時間から36時間を経過せしめた後、
窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納したことを特徴とする。
ここで、厚さ変動(TV:thickness variation)とは、矩形状のCdTe基板において、基板中心1点と4隅より中心方向に5mmの位置での4点、計5点の厚さの最大値と最小値の差である。
本発明は、上記知見に基づいて完成されたものであり、主に、AFM観察による深さ1nm以上の線状の研磨ダメージの痕跡と、蛍光灯下目視によるオレンジピールの有無によりエピタキシャル成長に好適なCdTe系半導体基板を規定している。
実施例1では、例えばVGF法により育成したCdTe単結晶インゴットから厚さ1200μm、30mm×30mmのCdTe基板を5枚切り出して1バッチの加工単位とし、以下に説明する処理工程を全て5枚1組として行った。先ず、粒径2μmのアルミナ砥粒を水に溶かした研磨液とガラス研磨板を用いてラッピング処理を行い、厚さが552μmとなるように加工した。次に、研磨布付きの回転研磨盤を用いて、以下の条件によりポリシング(鏡面研磨)処理を行った。
(ポリシング条件)
鏡面研磨液:以下の割合で各成分を混合した鏡面研磨液
次亜塩素酸カルシウム水溶液(有効塩素70%):1L
炭酸水素カルシウム:150g
水:4L
塩化カルシウム:60g
研磨機の定盤径:300mmφ
定盤回転数:50rpm
加工圧:70g/cm2
研磨時間:70min
研磨流量:2L/hr
研磨量:50μm
研磨布:発泡ポリウレタン系軟質クロス
この鏡面CdTe基板を、メタノール溶液に臭素を適量滴下して攪拌した直後の0.1%臭素メタノール溶液(エッチング溶液)に浸漬し、基板表面を均一にエッチングした。このとき、このエッチング量が0.3μmとなるようにエッチング時間を8秒とした(以下、これをライトエッチング処理と称する)。
そして、24時間経過した時点でラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
図1に示すように、実施例1において得られたCdTe基板表面では、深さ1nm程度の線状の研磨ダメージの痕跡は観察されなかった。また、蛍光灯下で目視によりCdTe基板表面を観察した結果、オレンジピールも観察されなかった。また、ライトエッチング処理による基板面内の厚さ変動の劣化は0.4μmとなっていた。このCdTe基板上にエピタキシャル成長させたHgZnTe膜は、良質な結晶性を有しており、半導体デバイスの作製に好適であった。
実施例2では、実施例と同様にCdTe基板5枚を切り出してポリシング処理までを施し、続けてポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、クラス100のクリーンブース内にて36時間保管した。このCdTe基板に、実施例1と同様にライトエッチング処理、リンス処理、乾燥処理を施し、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した後、窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納(CdTe基板5枚を枚葉式の基板容器内にそれぞれ収納後、1つのラミネート袋内に5個の基板容器を入れて窒素ガス置換後、袋を密封)した。
そして、24時間経過した時点でラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
比較例1では、実施例1と同様にCdTe基板5枚を切り出してポリシング処理までを施し、続けてポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した後、窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納(CdTe基板5枚を枚葉式の基板容器内にそれぞれ収納後、1つのラミネート袋内に5個の基板容器を入れて窒素ガス置換後、袋を密封)した。
そして、24時間経過した時点でラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
図2に示すように、比較例1において得られたCdTe基板表面には、深さ1nm程度の線状の研磨ダメージの痕跡が基板全面に渡って多数観察された。また、蛍光灯下での目視による表面観察では、CdTe基板表面にオレンジピールは観察されなかった。このCdTe基板上にエピタキシャル成長させたHgZnTe膜の結晶性は、実施例1、2に比較して低下した。また、比較例1において、CdTe基板を基板容器内で60日間保管した場合も同様の結果が得られた。
比較例2では、実施例と同様にCdTe基板5枚を切り出してポリシング処理までを施し、続けてポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した。そして、この鏡面CdTe基板を、メタノール溶液に臭素を適量滴下した攪拌状態の0.1%臭素メタノール溶液(エッチング溶液)に浸漬し、基板表面を均一にエッチングした。このとき、エッチング量が3μmとなるようにエッチング時間を80秒と長くした(以下、これをディープエッチング処理と称する)。
ディープエッチング処理後、実施例1と同様にリンス処理、乾燥処理を施し、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した後、窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納(CdTe基板5枚を枚葉式の基板容器内にそれぞれ収納後、1つのラミネート袋内に5個の基板容器を入れて窒素ガス置換後、袋を密封)した。
そして、24時間経過した時点でラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
比較例3では、実施例1と同様にCdTe基板5枚を切り出してポリシング処理までを施し、続けてポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、クラス100のクリーンブース内にて7日間保管した。このCdTe基板に、実施例1と同様のライトエッチング処理、リンス処理、乾燥処理を施し、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した後、窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納(CdTe基板5枚を枚葉式の基板容器内にそれぞれ収納後、1つのラミネート袋内に5個の基板容器を入れて窒素ガス置換後、袋を密封)した。
そして、24時間経過した時点でラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
なお、ポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理後のクリーンブース内での保管期間を3日以上としたときに、比較例3と同様の結果となることが確認された。
比較例4では、実施例1と同様にCdTe基板5枚を切り出してポリシング処理までを施し、続けてポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、洗浄・乾燥処理後、直ちに実施例1と同様のライトエッチング処理、リンス処理、乾燥処理を施した。このCdTe基板を、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した後、窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納(CdTe基板5枚を枚葉式の基板容器内にそれぞれ収納後、1つのラミネート袋内に5個の基板容器を入れて窒素ガス置換後、袋を密封)した。
そして、24時間経過した時点でラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
比較例5では、実施例1と同様にCdTe基板15枚を切り出してポリシング処理までを施し、続けてポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、クラス100のクリーンブース内にて24時間保管した。このCdTe基板に、実施例1と同様のライトエッチング処理、リンス処理、乾燥処理を施し、直ちに、窒素ガス雰囲気の基板容器内に収納(CdTe基板5枚を枚葉式の基板容器内にそれぞれ収納後、1つのラミネート袋内に5個の基板容器を入れて窒素ガス置換後、袋を密封)した。このCdTe基板を収納した収納物を同時に3個用意した。
そして、24時間、30日間、60日間経過した時点で、それぞれ1つの収納物のラミネート袋を開封してCdTe基板2枚を取り出し、ラミネート袋を開封後、直ちにCdTe基板上にHgZnTe膜をエピタキシャル成長させた。また、ラミネート袋内に一緒に収納していた別のCdTe基板3枚について、AFMによる表面観察、蛍光灯下での目視による表面観察を行った。
これらのCdTe基板にエピタキシャル成長させたHgZnTe膜の結晶性についても同じ傾向を示し、全体としては結晶性は良好な部分が多いものの、部分的に良くない場所が点在し、まだら模様となった。基板容器内での保管期間が長くなるほど、エピタキシャル結晶の結晶性の低下が進み、まだら模様が増えることが確認された。
ライトエッチング処理後のクリーンブース内の放置時間は、検証の結果、比較例5のような不具合を無くすには、少なくとも6時間は必要であり、12時間から24時間の間が特に安定した結果が再現性良く得られ、逆に36時間を越えると、今度は表面酸化層が厚くなることによる弊害(エピタキシャル結晶の結晶性の全体的な低下)が目立つことが判明した。
このようなCdTe基板は、基板表面に対してポリシング処理、ポリシング対応エッチング処理、洗浄・乾燥処理を経て、クラス100のクリーンブース内で所定時間を経過した後、ライトエッチング処理することで容易に作製することができる。ライトエッチング量としては、0.1μm以上1μm以下とするのが好ましく、また、ライトエッチング処理後の基板面内の厚さ変動の劣化は0.4μm以下であることが望ましい。
例えば、ライトエッチング処理に用いるエッチング溶液には、臭素メタノール溶液に水(超純水)、過酸化水素水、リン酸、或いはエチレングリコール等を添加し、或いは適宜組み替えて調製したエッチング液等が使用可能である。また、基板にはCdZnTe等、CdTeを主成分としZn等のドーパントを加えた結晶を適用することができる。
Claims (4)
- 基板表面に対して所定のポリシング処理、ポリシングに対応したエッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、
続いてクラス100のクリーンブース内で24時間から36時間を経過せしめた後、
0.1μm以上1μm以下のライトエッチング処理、洗浄・乾燥処理を行い、
再びクラス100のクリーンブース内で6時間から36時間を経過せしめた後、
窒素ガス雰囲気中に収めてなるエピタキシャル成長用CdTe系半導体基板であって、
原子間力顕微鏡で基板表面を観察したときに10μm×10μmの視野範囲内に深さ1nm以上の線状の研磨ダメージの痕跡が観察されず、かつ、蛍光灯下目視で基板表面を観察したときに、シワ状欠陥が観察されないことを特徴とするエピタキシャル成長用CdTe系半導体基板。 - 前記エッチング処理による基板面内の厚さ変動の劣化が0.4μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のエピタキシャル成長用CdTe系半導体基板。
- 請求項1又は2に記載のエピタキシャル成長用CdTe系半導体基板を、窒素ガスを満たした基板容器内に収納することを特徴とする基板の保管方法。
- 請求項3に記載のエピタキシャル成長用CdTe系半導体基板を、前記窒素ガス雰囲気を満たした基板容器内から取出し、
エッチング処理を施すことなく、前記基板上に半導体をエピタキシャル成長させることを特徴とするエピタキシャル成長方法。
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