JP5434494B2 - 磁気センサ - Google Patents

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本発明は、磁気センサに関する。さらに詳述すると、トンネル磁気抵抗効果素子等のスピントロニクス素子を用いた磁気センサに関する。
従来、各種の磁気抵抗素子を用いたセンサとして、磁気抵抗効果素子(MR素子など)、磁気インピーダンス素子(MI素子)、フラックスゲートセンサ、半導体ホール効果センサ等が用いられている。例えば、MIセンサによれば、MI素子という磁気抵抗素子を用いることで薄膜化・小型化が容易であり、その改良も盛んに行われている。このMI素子の場合には、高周波電流を流した場合のその高周波インピーダンスの磁界による変化をもって磁界強度を検知することができるもので、回路技術を駆使する必要があるが、センサ感度は高い特長を有する。
磁気抵抗効果素子(MR素子)を用いた磁気センサ(磁気抵抗センサ)の素子として、巨大磁気抵抗素子(GMR素子)や、トンネル磁気抵抗素子(TMR素子)等が知られている。GMR(Giant magnetic resistance)素子とは、強磁性層と非強磁性層とが交互に複数層形成され、隣接する2つの磁性層の磁化方向が、外部磁界の強さに応じて平行な場合と反平行な場合とで変化する抵抗を利用して磁気検知を行うものである。また、TMR(tunnel Magneto-Resistance)素子とは、磁性薄膜層が絶縁層を介して複数層形成され、伝導に関わる電子がスピンを維持しながら絶縁層をトンネル現象によって伝導されることで、このときの磁化の状態によってトンネル透過係数が異なることを利用して磁界検知を行うものである。
これらの磁気抵抗素子は磁化の向きと強度が所定の向きに固定されたピンド層(固定層)と、磁化の向きが外部磁界の向きに応じて変化するフリー層(自由層)とを備えている。磁気センサとして外部磁界を検知する時は固定されたピンド層の磁化方向に対して外部磁界の向きに応じて変化するフリー層の磁化方向の相対関係と磁化の強度に応じて抵抗値は変化することを利用して磁界の方向を検知するものである。
このような磁気抵抗素子を用いた磁気センサに関し、例えば、特許文献1及び特許文献2には、検知対象への分解能を高めるため、センサとしての磁気抵抗素子を直列に複数配置した磁気センサが開示されている。また、特許文献3には、TMR素子からなる磁気抵抗素子を有し、センサを平面に配置していても磁面の平面以外のZ軸方向のベクトル成分を検知可能な磁気センサが開示されている。
これまでTMR素子等のスピントロニクス素子は、磁界に対する変化率は大きいが、電子デバイス特有の低周波ノイズが大きいと考えられていたが、近年、検知に必要な素子の面積の微小化が進み、微細加工の限界まで検知素子として機能させることができることがわかってきた。しかしながら、TMR素子などのスピントロニクス素子を用いた磁気センサにおけるノイズの低減および高感度化のための技術は検討の余地が残されていた。
そこで本発明は、磁気抵抗素子を用いた磁気センサであって、磁気抵抗素子を並列または直列に接続して磁気抵抗素子群とし、該磁気抵抗素群を並列に接続したセルを検知部として備えることにより、高感度化を図ることができる磁気センサを提供することを目的とする。
かかる目的を達成するため、請求項1に記載の磁気センサは、磁気抵抗素子を用いた磁気センサであって、磁気抵抗素子を並列に接続して磁気抵抗素子群とし、該磁気抵抗素群を並列に接続したセルAと、磁気抵抗素子を直列に接続して磁気抵抗素子群とし、該磁気抵抗素群を並列に接続したセルBと、をそれぞれ少なくとも1以上有し、セルAおよびセルBを、さらに並列および/または直列に接続した検知部、および検知部を構成するセルA、セルBのうち少なくとも1つについて、接続を切り離すスイッチ部を備えるとともに、検知部の近傍に交流磁界印加部を設け、検知部を構成する磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させるものである。
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の磁気センサにおいて、交流磁界印加部は、磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させて、検知する実効的な周波数領域をシフトさせるものである。
また、請求項に記載の発明は、請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサにおいて、検知部を圧電素子とともに基板に配置し、圧電素子に交流電圧を印加して基板を振動させ、検知部を構成する磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させるものである。
また、請求項に記載の発明は、請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサにおいて、検知部の近傍に硬磁性材料からなる硬磁性体部を有する可動部を設け、該可動部の駆動により硬磁性体部を変位させ、検知部を構成する磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させるものである。
また、請求項に記載の発明は、請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサにおいて、検知部の近傍に軟磁性材料からなる軟磁性体部およびコイル部材を有する可動部を設け、コイル部材へ直流電流を印加して軟磁性体部が磁化された状態で可動部を駆動させることにより軟磁性体部を変位させ、検知部を構成する磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させるものである。

本発明によれば、ノイズを低減し、かつ、磁気センサの高感度化を図ることができる。
TMR層構成による検知用素子部の模式図である。 GMR層構成による検知用素子部の模式図である。 検知素子を直列に配置した磁気センサの一例を示す模式図である。 直列接続の際の配線方法の説明図である。 検知素子を直列に配置した磁気センサの他の例を示す模式図である。 検知素子を並列に配置した磁気センサの一例を示す模式図である。 検知素子を並列に配置した磁気センサの他の例を示す模式図である。 素子配列部を複合的に配置した磁気センサの一例を示す模式図である。 交流磁界印加部を有する磁気センサの一例を示す模式図である。 圧電素子を有する磁気センサの一例を示す模式図である。 可動部を有する磁気センサの一例を示す模式図である。 可動部を有する磁気センサの他の例を示す模式図である。
以下、本発明に係る構成を図1から図12に示す実施の形態に基づいて詳細に説明する。
(検知用素子部構成)
図1及び図2に検知用素子部(以下、磁気抵抗素子、検知素子、素子ともいう)の構成例を示す。図1に示す検知用素子部10は、キャップ層6、フリー層5、トンネル層4、反強磁性(AFM)層3、シード層2、基板1からなるTMR層構成による検知用素子部10の一例である。
基板1としては、例えば、SiやSi上熱酸化基板を用いる。また、超高真空スパッタ装置やイオンビームスパッタ装置、EB蒸着装置などを用いて、Taなどのシード層2、FeMn,PtMnIrMn,NiMn,PdPtMn,CrPtMn,CoMnなどやそれらの合金などからなるAFM層3を構成する。なお、厚みは各設計値によって3nm〜400nm程度か、もしくは、それ以上に設定されるが、10nm〜100nmが好適である。
トンネル層4は、例えば、Al−OやMgOで構成され、厚みは0.5nm〜6nmの間で設計されるが、1nm〜4nmが好適である。ここで、MgOによる構成とすると、比較的厚い膜厚であっても優れた磁気抵抗変化率特性が得られるため、抵抗値を大きくとりたい場合には厚みを厚くすることで実現可能となるメリットを有する。なお、図示はしないが、MgO層をトンネル層4とする場合には、例えば、CoFeSiBなどのアモルファス膜をアズデポで作製後、アニール時に結晶化することも好ましい。このようにすることにより、MgOの再配列を促して、結晶性を高めることにより磁気抵抗変化率を著しく向上させることができるため、さらに検知性能の向上を図ることができる。
フリー層5は、例えば、NiFe,CoFe,CoNiFe,CoZrNb等の軟磁気特性を有するもので構成することにより、センサ特性を発揮することが可能となる。また、キャップ層6としては、Taなどを成膜する。
検知用素子部10は、所望の形状にフォトリソ、EB露光等を用いた微細加工により形状を作製し、上下に電極を配して完成させる。
なお、本実施形態における検知用素子部10は、図1に示すTMR層構成に限られるものではなく、例えば、図2に示すようなGMR層構成であっても良い。図2に示す検知用素子部10は、トンネル層4に替えて非磁性金属層7を有し、その他の層構成は同様である。ここで、非磁性金属層7には、例えば、Cu,Agなどが適している。また、図1および図2ともに、AFM層3の上部にシンセティックフェリ層を設ける構成(スピンバルブ構成)とすることも好ましい。
(磁気センサ構成)
本発明に係る磁気センサ20は、以下に詳細に説明するように、磁気抵抗素子よりなる磁気センサであって、2重階層を持って構成され、磁気抵抗素子を並列または直列になるセンサとして機能される群(磁気抵抗素子群)であって、それらの群どうしがさらに並列になるセンサをもってセルとしてなり、セルごとの機能状態に応じて出力の合成または分離を行なうものである。すなわち、センサを素子群で構成し、かつ配置しやすいように2重階層を持って構成されることから、適宜、ノイズ対信号出力を測定対象に合わせて検知可能とし、検知情報をより高度に得ることができるものである。
図3に本実施形態に係る磁気センサ20の一例を示す。磁気センサ20は、検知素子10を直列に配置して磁気抵抗素子群8(8a,8b,8c...)とし、これらを並列に配置してセル(検知部、素子配列部)9とし、磁気抵抗素子群8を連動させるものである。このようにすることにより、素子数に比例して、抵抗値を高めることができる。また、基準抵抗(固定抵抗)11を直列に配置することにより、磁気抵抗値の変化につれて出力変化を実現することが可能となる。
さらに、直列接続としていることにより、同一電圧であれば接続した素子分の電圧変化が得られることとなりセンサの高感度化への寄与が大きい。なお、直列接続の方法としては、図4(a)に示すように素子に対して互い違いに電流を流す方法、図4(b)に示すように同一方向に電流を流す方法のいずれであっても良い。
また、図5に示すように図3に示した磁気センサ20に、さらにスイッチ(スイッチ部13)を配置した構成とすることも好ましい。ここで、スイッチは、例えば、CMOS等で構成することができる。
以上のように素子群と連動させて動作させることにより磁気センサの高感度化および1/fノイズの低減を図ることができる。
また、図6に本実施形態に係る磁気センサ20の他の例を示す。図6に示すように検知素子10を並列に配置して磁気抵抗素子群8(8a,8b,8c...)とし、これらを並列に配置してセル(検知部、素子配列部)9とし、磁気抵抗素子群8をこれらを連動させることとしても良い。このように素子を並列に配置することにより、ノイズ低減、特に1/fノイズの低減を図ることができる。また、図7に示すように図6に示した磁気センサ20に、さらにスイッチ(スイッチ部13)を配置した構成とすることも好ましい。
さらに、図8に示すように、並列化した素子配列部9a(図6)と直列化した素子配列部9b(図5に示すスイッチ部付きの構成)とを複合的に配置して、各素子配列部の配列をスイッチ部14により適宜変更可能とする構成とすることも好ましい。このように構成した磁気センサ20によれば、目的のノイズ特性と必要とされる信号出力、さらには検知可能な素子数を可変させることによりセンサとしての検知面積を適宜変更し、センサの検知性能の向上を図ることができる。例えば,信号が大きな領域についてのみ素子を機能させる等の検知方法が実現可能となる。
また、図8に示す例では、各素子の階層数を2としているが、それらをさらに群として並列化や直列化を行うことも好ましい。例えば、図1に示した検知素子10のそれぞれを並列化した素子で置き換えるようにしても良い。このような微細な加工に際しては、例えば、電子ビーム露光プロセスや自己組織化膜を用いたパターンニングなどのナノメータ(nm)オーダでの微細加工を行うようにすれば良い。このように階層性を多重とすることにより、さらなるノイズの低減、高感度化が可能となる。
(その他の実施形態)
以下、本発明に係る磁気センサ20のその他の実施の形態について説明する。上述の実施の形態と同様の点についての説明は省略する。また、検知素子の配列(直列、並列)、スイッチ部の有無等は、以下に説明する構成においても適宜組み合わせ可能なものである。
図9に示す磁気センサ20は、検知素子10に加えて、交流(AC)磁界印加用のコイル部(交流磁界印加部)16と、コイル部16への交流(AC)磁界印加用の電流源17を付加したものである。このように構成することにより、検知素子10に外部から交流磁界を重畳し、検知する実効的な周波数領域をシフトさせて検知を実現することができ、ノイズの低減、特に、1/fノイズの低減を図ることができる。
図10に示す磁気センサ20は、圧電素子18を配置した基板19に検知部を設け、圧電素子18は、駆動用電圧印加用の電極部21を備えるものである。このように構成した磁気センサ20では、駆動用電圧源22によって電極部21に駆動用電圧(交流電圧)を印加して、圧電素子18を駆動させ、基板19全体を機械的に一定周期で振動させる。
さらに、直流(DC)磁界印加用コイル部23と直流(DC)磁界印加用電流源24を配置し、直流磁界を印加可能とすることも好ましい。なお、直流磁界印加用コイル部23と直流磁界印加用電流源24を配置した状態で、DC磁界印加の有無を選択可能とする構成としても良い。
このような構成とすることにより、外部に対して振動させることによりAC分の成分が重畳された状態で検知できるためノイズ低減、特に、1/fノイズの低減を図ることができる。また、圧電素子による交流磁界の印加は簡便であり、磁気的には設計パラメータの自由度が大きく、効率的なノイズ低減が実現できる。
なお,本実施形態では、機械的に一定周期で振動を与える手段として圧電素子を配置したが、これに限られるものではなく、例えば、他のMEMS技術等で用いられる駆動系(静電型駆動方式、電磁駆動方式など)を用いることも好ましい。
図11(a)に上面図、(b)に断面図を示す磁気センサ20は、柔構造の梁部25によりフレーム26に固定された可動部27上に硬磁性材料からなる硬磁性体部28を配置したものであり、また、可動部27は圧電素子を備えた圧電素子部および梁部29とも接続されている。さらに、可動部27は圧電素子印加用配線および電源(図示せず)によって、屈曲させることができ、結果として、硬磁性体部28を変位させることができる。なお、可動部27の全部または一部を硬磁性材料からなる磁性体で構成するようにしても良い。
すなわち、基板上30の検知部9においては、硬磁性体部28からの磁界強度が周期的に変動することとなるので、実質上AC磁界中において外来磁界を検知することとなる。よって、実効的な動作周波数をよりノイズ分、特に1/fノイズ成分が少ないところで機能させることが実現でき、その結果、より鋭敏な検知を実現することができる。また、測定対象に応じて屈曲の周波数を変化させることにより、測定の感度を高めることもできる。
このような構成とすることにより、可動部27を大きく振幅させることができ、ノイズ低減の設計パラメータを大きく設定することができる。
図12(a)に上面図、(b)に断面図を示す磁気センサ20は、柔構造の梁部25によりフレーム26に固定された可動部27上に軟磁性材料からなる軟磁性体部31および軟磁性体を磁化するためのコイル部32を配置したものであり、また、可動部27は圧電素子を備えた圧電素子部および梁部29とも接続されている。さらに、可動部27は圧電素子印加用配線および電源(図示せず)によって、屈曲させることができ、結果として、軟磁性体部31およびコイル部32を変位させることができる。また、コイル部32は、DC電源部(図示せず)に接続されており、コイル部32に電流を流すことにより軟磁性体部31を磁化させることができる。なお、可動部27の全部または一部を軟磁性材料からなる磁性体で構成するようにしても良い。
すなわち、基板上30の検知部9においては、軟磁性体部31およびコイル部32による磁界の磁界強度が周期的に変動することとなるので、実質上AC磁界中において外来磁界を検知することとなる。よって、実効的な動作周波数をよりノイズ分、特に1/fノイズ成分が少ないところで機能させることが実現でき、その結果、より鋭敏な検知を実現することができる。また、測定対象に応じて屈曲の周波数を変化させることにより、測定の感度を高めることもできる。さらに、コイル部32に流す電流をDCからACとすることにより、2重の周期を重畳させることが可能となり、測定対象によってはノイズ分低減が実現可能となる。
このような構成とすることにより、ノイズ低減の設計パラメータをさらに大きく設定することができる。また、複数の周波数でのノイズ低減が可能となる。
尚、上述の実施形態は本発明の好適な実施の例ではあるがこれに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変形実施可能である。
1 基板
2 シード層
3 AFM層
4 トンネル層
5 フリー層
6 キャップ層
7 非磁性金属層
8 磁気抵抗素子群
9,9a,9b セル(素子配列部、検知部)
10 検知用素子部
11 基準抵抗
12 配線
13,14 スイッチ部
16 交流磁界印加用コイル部
17 交流磁界印加用電流源
18 圧電素子
19 圧電素子を配置した基板
20 磁気センサ
21 駆動用電圧印加用電極部
22 駆動用電源
23 直流磁界印加用コイル部
24 直流磁界印加用電流源
25 梁部
26 フレーム
27 可動部
28 硬磁性体部
29 圧電素子部および梁部
30 素子部用基板
31 軟磁性体部
32 コイル部
特開平04−192385号公報 特開平08−233841号公報 特開2009−222650号公報

Claims (5)

  1. 磁気抵抗素子を用いた磁気センサであって、
    前記磁気抵抗素子を並列に接続して磁気抵抗素子群とし、該磁気抵抗素群を並列に接続したセルAと、
    前記磁気抵抗素子を直列に接続して磁気抵抗素子群とし、該磁気抵抗素群を並列に接続したセルBと、
    をそれぞれ少なくとも1以上有し、前記セルAおよび前記セルBを、さらに並列および/または直列に接続した検知部、
    および前記検知部を構成する前記セルA、前記セルBのうち少なくとも1つについて、接続を切り離すスイッチ部を備えるとともに、
    前記検知部の近傍に交流磁界印加部を設け、
    前記検知部を構成する前記磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させることを特徴とする磁気センサ。
  2. 前記交流磁界印加部は、前記磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させて、検知する実効的な周波数領域をシフトさせることを特徴とする請求項1に記載の磁気センサ。
  3. 前記検知部を圧電素子とともに基板に配置し、
    前記圧電素子に交流電圧を印加して前記基板を振動させ、前記検知部を構成する前記磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサ。
  4. 前記検知部の近傍に硬磁性材料からなる硬磁性体部を有する可動部を設け、
    該可動部の駆動により前記硬磁性体部を変位させ、前記検知部を構成する前記磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサ。
  5. 前記検知部の近傍に軟磁性材料からなる軟磁性体部およびコイル部材を有する可動部を設け、
    前記コイル部材へ直流電流を印加して前記軟磁性体部が磁化された状態で前記可動部を駆動させることにより前記軟磁性体部を変位させ、前記検知部を構成する前記磁気抵抗素子の外部磁界の大きさを変動させることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の磁気センサ。
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