JP5428707B2 - 基板処理方法及び基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る基板処理装置の模式側面図である。本発明の実施の形態1に係る基板処理装置は、複数のノズル1、ノズルガイド2、流量制御装置4、演算処理ユニット5、データサーバー6、基板保持部7及びカップ8を具備している。基板保持部7は、被処理基板3を保持するものである。
2 ノズルガイド
3 被処理基板
4 流量制御装置
5 演算処理ユニット
6 データサーバー
7 基板保持部
8 カップ
9 流量制御バルブ
10 液体入口配管
11 液体出口配管
12 摩擦フローエレメント
13 一次側圧力センサ
14 二次側圧力センサ
15 空気式比例制御バルブ
16 制御器
Claims (5)
- フォトマスクにおけるレジストの現像工程において、パターン描画密度に応じて現像液の流量の制御を行ってレジストの現像を行う基板処理方法であって、
処理液吐出口を格子状に配置させて前記パターン描画密度別に前記現像液の流量を制御できる、
ことを特徴とする基板処理方法。 - 前記レジストの現像前に、データサーバーにパターン描画設計データの取り込み及び描画密度の演算を行ってこの演算の結果を元にパターン描画密度別に前記現像液の流量を制御することを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 格子状に配置されている処理液吐出口を具備し、パターン描画密度別に前記処理液吐出口の現像液の流量を独立して制御することを特徴とする基板処理装置。
- 前記処理液吐出口の現像液の流量を独立して制御する流量制御装置を具備し、前記流量制御装置はデジタル入力に対して比例流体制御バルブの空気式負荷を比例的に開放又は閉鎖することを特徴とする請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記流量制御装置は、流体の温度及び粘度の変化に対応して調整可能であることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
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