JP5427455B2 - Substrate processing apparatus schedule creation method and program thereof - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置のガラス基板(以下、単に基板と称する)に洗浄、乾燥等の所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに係り、特に、実際に基板に対する処理を実行する前に予めスケジュールを作成する技術に関する。   The present invention relates to a schedule creation method and program for a substrate processing apparatus for performing predetermined processing such as cleaning and drying on a semiconductor wafer or a glass substrate of a liquid crystal display device (hereinafter simply referred to as a substrate). The present invention relates to a technique for creating a schedule in advance before executing the process for.

従来、この種の方法として、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数個のロットを処理する際に、制御部が、複数個の処理工程を含むレシピに基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定するものが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, as a method of this kind, when a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus having a plurality of processing units for processing a substrate, the control unit is based on a recipe including a plurality of processing steps. For example, the processing order of each lot is determined in order to sequentially process each lot by each processing unit (see, for example, Patent Document 1).

このような基板処理装置のスケジュール作成方法は、実際にロットの処理を開始する前に、どのロットをどの処理部でどの時点で処理するかを決めているので、前詰めでロットを配置でき、効率よくロットを配置できる。したがって、基板処理装置の稼働率を向上させることができる。   Since the schedule creation method for such a substrate processing apparatus determines which lot is to be processed at which point in time before actually starting the processing of the lot, the lot can be arranged in the front-end, Lots can be placed efficiently. Therefore, the operation rate of the substrate processing apparatus can be improved.

上述した基板処理装置の構成例としては、複数の棚を備え、処理前の複数枚の基板がカセットに収納された状態で収容され、処理済の複数枚の基板がカセットに収納された状態で収容される収容部と、収容部に沿って移動可能であって、処理前の基板をカセットから取り出して姿勢変換したり、処理済の基板の姿勢変換をしてカセットに払い出したりする第1搬送機構と、第1搬送機構との間で基板を受け渡しする第2搬送機構と、第2搬送機構の移動方向に沿って配置された乾燥処理部、純水洗浄処理部、薬液処理部等と、を備えているものがある。   As an example of the configuration of the substrate processing apparatus described above, a plurality of shelves are provided, and a plurality of substrates before processing are stored in a cassette, and a plurality of processed substrates are stored in a cassette. A first transfer unit that can be moved along the storage unit and that can be moved along the storage unit to take out the substrate before processing from the cassette and change the posture, or to change the posture of the processed substrate and transfer it to the cassette A second transport mechanism that delivers a substrate between the mechanism and the first transport mechanism, a drying processing unit, a pure water cleaning processing unit, a chemical solution processing unit, and the like disposed along the moving direction of the second transport mechanism; Some are equipped with.

なお、第1搬送機構と第2搬送機構との間における基板の受け渡しは、一系統だけである。そのため、第1搬送機構から未処理の基板を第2搬送機構に渡す場合には、第2搬送機構から処理済の基板を第1搬送機構に渡すことができない。逆に、第2搬送機構から処理済の基板を第1搬送機構に渡す場合には、第1搬送機構から未処理の基板を第2搬送機構に渡すことができない。そこで、このような不都合を解消するために、第1搬送機構と第2搬送機構との間に配置され、第1搬送機構から第2搬送機構へ未処理の基板を渡す搬入機構と、第1搬送機構と第2搬送機構との間に配置され、第2搬送機構から第1搬送機構へ処理済の基板を払い出す払出機構とを備えたものが提案されている。なお、搬入機構の下流側には、基板を保持したまま第2搬送機構へ未処理の基板を受け渡すために待機可能な待機部が設けられている。   In addition, the delivery of the substrate between the first transport mechanism and the second transport mechanism is only one system. For this reason, when an unprocessed substrate is transferred from the first transfer mechanism to the second transfer mechanism, the processed substrate cannot be transferred from the second transfer mechanism to the first transfer mechanism. Conversely, when a processed substrate is transferred from the second transfer mechanism to the first transfer mechanism, an unprocessed substrate cannot be transferred from the first transfer mechanism to the second transfer mechanism. Therefore, in order to eliminate such inconvenience, a carry-in mechanism that is disposed between the first transport mechanism and the second transport mechanism and passes an unprocessed substrate from the first transport mechanism to the second transport mechanism; There has been proposed one provided with a payout mechanism that is disposed between the transport mechanism and the second transport mechanism and that delivers a processed substrate from the second transport mechanism to the first transport mechanism. A standby unit is provided on the downstream side of the carry-in mechanism so as to be able to stand by in order to deliver an unprocessed substrate to the second transport mechanism while holding the substrate.

この提案装置によると、第2搬送機構から第1搬送機構へ処理済の基板を払い出す際には、払出機構により払い出しさせる。そして、第1搬送機構から第2搬送機構へ未処理の基板を搬入機構により搬入させる。これにより、搬入と払出を効率的に行うことができる。   According to this proposed apparatus, when the processed substrate is paid out from the second transfer mechanism to the first transfer mechanism, the payout mechanism is made to pay out. Then, the unprocessed substrate is carried into the second carrying mechanism from the first carrying mechanism by the carrying-in mechanism. Thereby, carrying in and payout can be performed efficiently.

特許3758992号公報Japanese Patent No. 3758992

しかしながら、このような従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の提案装置によるスケジュール作成方法では、例えば、3つのロットを処理する場合であって、第1のロットと第2のロットが第1の純水洗浄処理部で長時間の処理を行い、第2のロットが第2の純水洗浄処理部で短時間の処理を行う場合には、次のような不都合が生じ得る。
However, such a conventional example has the following problems.
That is, in the schedule creation method using the conventional proposed apparatus, for example, when processing three lots, the first lot and the second lot are processed for a long time in the first pure water cleaning processing unit. When the second lot performs processing for a short time in the second pure water cleaning processing unit, the following inconvenience may occur.

すなわち、まず第1のロットを計画開始位置でスケジュールし、次に第2のロットを第1のロットに続く計画開始位置でスケジュールするが、第2のロットは第1のロットも使用する第1の純水洗浄処理部で処理するので、第2のロットは第1のロットが第1の純水洗浄処理部から搬出されるまで搬入機構の下流側の待機部で待機する必要が生じる。したがって、使用されていない第2の純水洗浄処理部を短時間利用する第3のロットが処理可能な状況にあるにもかかわらず、第2のロットに続く第3のロットの計画開始位置でスケジュールすると、第2のロットが待機している関係上、第3のロットを第2の純水洗浄処理に搬送することができない。その結果、第3のロットを搬入機構で長時間にわたり待機させることになる。換言すると、第3のロットが第2のロットを追い越すことができず、第2のロットが第1の純水洗浄処理部に搬送されるまで第3のロットの処理を開始することができないので、処理効率が低下するという問題がある。   That is, the first lot is first scheduled at the plan start position, and then the second lot is scheduled at the plan start position following the first lot, but the second lot also uses the first lot. Therefore, the second lot needs to wait in the standby section on the downstream side of the loading mechanism until the first lot is unloaded from the first pure water cleaning section. Therefore, even though the third lot that uses the second pure water cleaning processing unit that is not used for a short time is in a processable state, at the plan start position of the third lot following the second lot. When scheduled, the third lot cannot be transferred to the second pure water cleaning process because the second lot is waiting. As a result, the third lot is made to wait for a long time by the carry-in mechanism. In other words, the third lot cannot pass the second lot, and the processing of the third lot cannot be started until the second lot is transferred to the first pure water cleaning processing unit. There is a problem that processing efficiency decreases.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ロットの計画開始位置を工夫することにより、ロットの追い越し配置を可能にして処理効率を向上させることができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a substrate processing apparatus schedule that can improve the processing efficiency by enabling the overtaking arrangement of the lot by devising the plan start position of the lot. It is an object to provide a creation method and a program thereof.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、処理前の基板からなるロット及び処理済の基板からなるロットを収容する収容部と、前記収容部との間でロットの搬入及び搬出を行う第1搬送機構と、各処理部との間でロットを受け渡す第2搬送機構と、第1搬送機構と第2搬送機構との間に配置され、第1搬送機構から第2搬送機構へ未処理のロットを搬入する搬入機構と、第2搬送機構から第1搬送機構へ処理済のロットを払い出す払出機構と、搬入機構の第2搬送機構側で未処理のロットを待機可能な待機部と、基板に対して処理を行う複数の処理部とを含むリソースを備えた基板処理装置を用いて、複数のロットを各リソースにより実際に処理する前に、制御部が複数の処理工程からなるレシピに基づき各リソースに処理工程を配置して使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、同じ処理部で長時間の処理を行うレシピを採用した複数のロットと、前記処理部とは異なる処理部で短時間の処理を行うレシピを採用したロットとをその順序で処理するとして、スケジュールの開始位置を規定する計画開始位置が設定された状態でスケジュールを行うにあたり、計画開始位置からレシピに基づき各リソースに処理工程を配置する過程と、待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じる場合には、そのロットの計画開始位置を時間的に後に調整して調整計画開始位置を求める過程と、調整計画開始位置を含む計画開始位置のうち計画開始位置が早いロットのものから順に、レシピに基づき各リソースに処理工程を配置する過程と、を実施することを特徴とするものである。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, the invention described in claim 1, the performing a storage portion for storing lots consisting of the lot and the processed substrate made of the substrate before treatment, a lot of loading and unloading to and from the accommodating portion 1 Arranged between the transport mechanism and the second transport mechanism for delivering the lot between each processing unit, and between the first transport mechanism and the second transport mechanism, and is unprocessed from the first transport mechanism to the second transport mechanism. A carry-in mechanism for carrying in a lot; a payout mechanism for paying out a processed lot from the second transport mechanism to the first transport mechanism; a standby unit capable of waiting for an unprocessed lot on the second transport mechanism side of the carry-in mechanism; Using a substrate processing apparatus equipped with resources including a plurality of processing units that process a substrate, the control unit prepares a recipe consisting of a plurality of processing steps before actually processing a plurality of lots with each resource. Based on the process used by each process In the schedule creation method of the substrate processing apparatus that determines the timing, a plurality of lots adopting a recipe that performs long-time processing in the same processing unit and a recipe that performs short-time processing in a processing unit different from the processing unit are adopted When the schedule is set in a state in which the plan start position that defines the start position of the schedule is set, the process steps are arranged in each resource based on the recipe from the plan start position. When waiting time occurs between the processing process using the standby unit and the next processing process, the process of obtaining the adjustment plan start position by adjusting the plan start position of the lot later in time and the start of the adjustment plan The process of placing processing steps on each resource based on the recipe in order from the lot with the earlier plan start position among the plan start positions including the position, It is characterized in that the implement.

[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、制御部は、まず、スケジュールの開始位置を規定する計画開始位置から、レシピに基づいて各リソースに処理工程を配置する。そして、この結果、待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じる場合には、そのロットの計画開始位置を時間的に後にずらした調整計画開始位置を求める。これにより、最初に決められている計画開始位置からスケジュールすると、待機時間により無駄が生じるか否かを判断することができ、無駄が生じる場合には配置を調整することで待機時間を抑制できる。さらに、制御部は、調整計画開始位置を含む計画開始位置の時間的に早いロットの順に、処理工程の配置を開始する。これにより、計画開始位置のままの短時間の処理を行うレシピを採用したロットを、調整計画開始位置のロットよりも時間的に前に配置してスケジュールする追い越しが可能となる。したがって、基板処理装置における処理効率を向上させることができる。   [Operation / Effect] According to the first aspect of the present invention, the control unit first arranges processing steps in each resource based on the recipe from the planned start position that defines the start position of the schedule. As a result, when a standby time occurs between the processing step using the standby unit and the next processing step, an adjustment plan start position obtained by shifting the plan start position of the lot later in time is obtained. As a result, when scheduling is performed from the initially determined plan start position, it can be determined whether or not waste is caused by the standby time, and when waste occurs, the standby time can be suppressed by adjusting the arrangement. Further, the control unit starts the arrangement of the processing steps in the order of the lot earlier in time of the plan start position including the adjustment plan start position. As a result, it is possible to pass a lot that employs a recipe that performs processing for a short time at the plan start position and schedules the lot by placing it ahead of the lot at the adjustment plan start position. Therefore, the processing efficiency in the substrate processing apparatus can be improved.

また、本発明において、前記調整計画開始位置を求める過程では、待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じたロットについて、その待機部の使用タイミングと、当該ロットの搬入機構の使用タイミングとを含む前のリソースの使用タイミングを、待機部の後のリソースの使用タイミングに合わせて時間的に後に調整することが好ましい(請求項2)。待機時間が生じたロットの待機部と、搬入機構を含む前のリソースとの使用タイミングを、待機部の後のリソースの使用タイミングに合わせて時間的に後に調整することにより、第1搬送機構による収容部からのロットの搬出を時間的に後にずらすことになる。したがって、待機部における待機時間を抑制するとともに、搬入機構と待機部の間においても待機時間が生じることを抑制できる。   Further, in the present invention, in the process of obtaining the adjustment plan start position, with respect to a lot in which a standby time has occurred between a processing step using the standby unit and the next processing step, the use timing of the standby unit and the lot It is preferable to adjust the use timing of the previous resource including the use timing of the carry-in mechanism later in time in accordance with the use timing of the resource after the standby unit (claim 2). By adjusting the use timing of the waiting part of the lot in which the waiting time has occurred and the resource before the loading mechanism in time according to the use timing of the resource after the waiting part, by the first transport mechanism The removal of the lot from the storage unit will be shifted later in time. Therefore, it is possible to suppress the standby time in the standby unit and to prevent the standby time from occurring between the carry-in mechanism and the standby unit.

また、本発明において、前記調整計画開始位置を求める過程の後、求めた調整計画開始位置をロットに対応づけて記憶する過程を実施することが好ましい(請求項3)。調整計画開始位置をロットに対応づけておくことにより、ロットごとの調整計画開始位置を制御部が参照して、ロットごとに確実にスケジュールを行うことができる。   In the present invention, it is preferable that after the step of obtaining the adjustment plan start position, a step of storing the obtained adjustment plan start position in association with a lot is performed. By associating the adjustment plan start position with the lot, the control unit can refer to the adjustment plan start position for each lot and perform the schedule reliably for each lot.

また、請求項4に記載の発明は、処理前の基板からなるロット及び処理済の基板からなるロットを収容する収容部と、前記収容部との間でロットの搬入及び搬出を行う第1搬送機構と、各処理部との間でロットを受け渡す第2搬送機構と、第1搬送機構と第2搬送機構との間に配置され、第1搬送機構から第2搬送機構へ未処理のロットを搬入する搬入機構と、第2搬送機構から第1搬送機構へ処理済のロットを払い出す払出機構と、搬入機構の第2搬送機構側で未処理のロットを待機可能な待機部と、基板に対して処理を行う複数の処理部とを含むリソースを備えた基板処理装置を用いて、複数のロットを各リソースにより実際に処理する前に、制御部が複数の処理工程からなるレシピに基づき各リソースに処理工程を配置して使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、同じ処理部で長時間の処理を行うレシピを採用した複数のロットと、前記処理部とは異なる処理部で短時間の処理を行うレシピを採用したロットとをその順序で処理するとして、スケジュールの開始位置を規定する計画開始位置が設定された状態でスケジュールを行うにあたり、計画開始位置からレシピに基づき各リソースに処理工程を配置する機能と、待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じる場合には、そのロットの計画開始位置を時間的に後に調整して調整計画開始位置を求める機能と、調整計画開始位置を含む計画開始位置のうち計画開始位置が早いロットのものから順に、レシピに基づき各リソースに処理工程を配置する機能と、を前記制御部であるコンピュータに実行させることを特徴とするものである。 Further, the invention according to claim 4, first performs a storage portion for storing lots consisting of the lot and the processed substrate made of the substrate before treatment, a lot of loading and unloading to and from the accommodating portion 1 Arranged between the transport mechanism and the second transport mechanism for delivering the lot between each processing unit, and between the first transport mechanism and the second transport mechanism, and is unprocessed from the first transport mechanism to the second transport mechanism. A carry-in mechanism for carrying in a lot; a payout mechanism for paying out a processed lot from the second transport mechanism to the first transport mechanism; a standby unit capable of waiting for an unprocessed lot on the second transport mechanism side of the carry-in mechanism; Using a substrate processing apparatus equipped with resources including a plurality of processing units that process a substrate, the control unit prepares a recipe consisting of a plurality of processing steps before actually processing a plurality of lots with each resource. Based on the process used for each resource In the schedule creation program of the substrate processing apparatus that determines the processing, a plurality of lots adopting a recipe that performs long-time processing in the same processing unit and a recipe that performs short-time processing in a processing unit different from the processing unit are adopted When the schedule is set in a state where the plan start position that defines the start position of the schedule is set, the processing steps are arranged in each resource based on the recipe from the plan start position, When waiting time occurs between the processing process using the standby unit and the next processing process, the adjustment plan start position is obtained by adjusting the plan start position of the lot later in time, and the adjustment plan start A function that places processing steps on each resource based on a recipe in order from the one with the earliest plan start position among the plan start positions including the position The is characterized in causing a computer to execute a the control unit.

本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、まず、スケジュールの開始位置を規定する計画開始位置から、レシピに基づいて各リソースに処理工程を配置する。そして、この結果、待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じる場合には、そのロットの計画開始位置を時間的に後にずらした調整計画開始位置を求める。これにより、最初に決められている計画開始位置からスケジュールすると、待機時間により無駄が生じるか否かを判断することができ、無駄が生じる場合には配置を調整することで待機時間を抑制できる。さらに、制御部は、調整計画開始位置を含む計画開始位置の時間的に早いロットの順に、処理工程の配置を開始する。これにより、計画開始位置のままの短時間の処理を行うレシピを採用したロットを、調整計画開始位置のロットよりも時間的に前に配置してスケジュールする追い越しが可能となる。したがって、基板処理装置における処理効率を向上させることができる。   According to the schedule creation method for a substrate processing apparatus according to the present invention, the control unit first arranges a processing step in each resource based on a recipe from a planned start position that defines the start position of the schedule. As a result, when a standby time occurs between the processing step using the standby unit and the next processing step, an adjustment plan start position obtained by shifting the plan start position of the lot later in time is obtained. As a result, when scheduling is performed from the initially determined plan start position, it can be determined whether or not waste is caused by the standby time, and when waste occurs, the standby time can be suppressed by adjusting the arrangement. Further, the control unit starts the arrangement of the processing steps in the order of the lot earlier in time of the plan start position including the adjustment plan start position. As a result, it is possible to pass a lot that employs a recipe that performs processing for a short time at the plan start position and schedules the lot by placing it ahead of the lot at the adjustment plan start position. Therefore, the processing efficiency in the substrate processing apparatus can be improved.

実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on an Example. 実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on an Example. レシピの例を示すタイムチャートであり、(a)は第1のロット、(b)は第2のロット、(c)は第3のロットを示す。It is a time chart which shows the example of a recipe, (a) shows the 1st lot, (b) shows the 2nd lot, and (c) shows the 3rd lot. 動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows operation | movement. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. スケジュール過程を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a schedule process. 本発明と従来例のスケジュール作成方法を比較するためのタイムチャートであり、(a)は本実施例、(b)は従来例を示す。It is a time chart for comparing this invention with the schedule preparation method of a prior art example, (a) shows a present Example and (b) shows a prior art example.

以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図であり、図2は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment. FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment.

この基板処理装置は、例えば、基板Wに対して薬液処理及び洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Wは、複数枚(例えば、25枚)がFOUP1に対して水平姿勢で収納されている。未処理の基板Wを収納したFOUP1は、搬送収納部ACBに設けられている投入部3に載置される。投入部3は、搬送収納部ACBの搬入口(不図示)に付設されている。搬送収納部ACBに沿った投入部3の反対側には、搬送収納部ACBの払出口(不図示)に払出部7が設けられている。ここには、処理を終えた基板Wが収納されたFOUP1が払い出される。   This substrate processing apparatus is an apparatus for performing chemical liquid processing, cleaning processing, and drying processing on the substrate W, for example. A plurality of (for example, 25) substrates W are stored in a horizontal posture with respect to the FOUP 1. The FOUP 1 storing the unprocessed substrate W is placed on the input unit 3 provided in the transport storage unit ACB. The input unit 3 is attached to a carry-in port (not shown) of the transport storage unit ACB. On the opposite side of the loading unit 3 along the transport storage unit ACB, a payout unit 7 is provided at a payout opening (not shown) of the transport storage unit ACB. Here, the FOUP 1 containing the processed substrate W is paid out.

搬送収納部ACBは、未処理の基板Wを収納したFOUP1を投入部3から取り込み、作成されたスケジュールに応じて、搬送収納部ACBに隣接して配置された第1搬送機構PCR側にFOUP1を搬送し、FOUP1内の基板Wを搬出可能な状態にする。なお、スケジュールによっては内部に設けられている複数の収納棚にFOUP1を一時的に載置しておく。また、処理済の基板WをFOUP1に収容可能なように、スケジュールに応じてFOUP1を第1搬送機構PCR側に搬送する。また、処理済の基板Wを収納したFOUP1を払出部7に払い出すが、作成されたスケジュールによっては一時的に複数の収納棚に載置しておく。   The transport storage unit ACB takes in the FOUP 1 storing the unprocessed substrates W from the input unit 3, and places the FOUP 1 on the first transport mechanism PCR side arranged adjacent to the transport storage unit ACB according to the created schedule. Then, the substrate W in the FOUP 1 is brought into a state where it can be unloaded. Depending on the schedule, the FOUP 1 is temporarily placed on a plurality of storage shelves provided inside. Further, the FOUP 1 is transported to the first transport mechanism PCR side according to the schedule so that the processed substrate W can be accommodated in the FOUP 1. In addition, the FOUP 1 storing the processed substrates W is paid out to the payout unit 7, but is temporarily placed on a plurality of storage shelves depending on the created schedule.

第1搬送機構PCRは、搬送収納部ACBから、未処理の基板Wが収納されたFOUP1から基板Wだけ受け取るとともに、基板の姿勢を水平姿勢から起立姿勢に変換する姿勢変換を行う。そして、起立姿勢の基板Wを1ロットとして構成し、第1搬送機構PCRに隣接して配置された搬入機構WTV2を通してロットを第2搬送機構WTRに渡す。なお、第1搬送機構PCRは、二つのFOUP1から基板Wを受け取り、二つのFOUP1に収納されている基板Wを合わせて1ロット(例えば、50枚)構成とする処理を行うようにしてもよい。   The first transport mechanism PCR receives only the substrate W from the transport storage unit ACB from the FOUP 1 in which the unprocessed substrate W is stored, and performs posture conversion to convert the substrate posture from a horizontal posture to a standing posture. Then, the standing substrate W is configured as one lot, and the lot is transferred to the second transport mechanism WTR through the transport mechanism WTV2 arranged adjacent to the first transport mechanism PCR. Note that the first transport mechanism PCR may receive the substrates W from the two FOUPs 1 and perform a process of combining the substrates W stored in the two FOUPs 1 into one lot (for example, 50 sheets). .

搬入機構WTV2は、第1搬送機構PCRから受け取ったロットを第2搬送機構WTRに対して受け渡す。この搬入機構WTV2は、ロットを第1搬送機構PCRから第2搬送機構WTRへ搬送する中継を行うだけである。また、払出機構WTV1は、第2搬送機構WTRから受け取ったロットを第1搬送機構PCRへ受け渡す。この払出機構WTV1は、ロットを第2搬送機構WTRから第1搬送機構PCRへ搬送する中継を行うだけである。なお、図示の関係上、搬入機構WTV2と払出機構WTV1とを水平方向で並設して描いてあるが、例えば、これらを縦方向の積層配置としてもよい。   The carry-in mechanism WTV2 delivers the lot received from the first transport mechanism PCR to the second transport mechanism WTR. The carry-in mechanism WTV2 only relays the lots from the first transfer mechanism PCR to the second transfer mechanism WTR. Further, the payout mechanism WTV1 delivers the lot received from the second transport mechanism WTR to the first transport mechanism PCR. The payout mechanism WTV1 only performs relay for transporting the lot from the second transport mechanism WTR to the first transport mechanism PCR. Although the carry-in mechanism WTV2 and the payout mechanism WTV1 are drawn in parallel in the horizontal direction for the sake of illustration, they may be stacked in the vertical direction, for example.

搬入機構WTV2と第2搬送機構WTRとの間であって、第2搬送機構WTRが最も搬送収納部ACB側に移動可能な位置(搬入機構WTV2の下流側)には、基板待機部CWSが配置されている。この基板待機部CWSは、搬入機構WTV2から第2搬送機構WTRへ基板Wを受け渡す前に一時的に待機させる待機位置として使用する。   A substrate standby unit CWS is disposed at a position between the carry-in mechanism WTV2 and the second transport mechanism WTR and at which the second transport mechanism WTR can move most toward the transport storage unit ACB (downstream side of the carry-in mechanism WTV2). Has been. This substrate standby part CWS is used as a standby position for temporarily waiting before delivering the substrate W from the carry-in mechanism WTV2 to the second transport mechanism WTR.

なお、基板待機部CWSが本発明における「待機部」に相当する。   The substrate standby unit CWS corresponds to the “standby unit” in the present invention.

第2搬送機構WTRは、基板待機部CWSから装置の長手方向に移動可能に構成されている。この第2搬送機構WTRの移動方向に沿う位置には、基板待機部CWS側から順に、乾燥処理部LPDと、第1処理部19と、第2処理部21と、第3処理部23とが配置されている。   The second transport mechanism WTR is configured to be movable from the substrate standby unit CWS in the longitudinal direction of the apparatus. At a position along the moving direction of the second transport mechanism WTR, the drying processing unit LPD, the first processing unit 19, the second processing unit 21, and the third processing unit 23 are sequentially arranged from the substrate standby unit CWS side. Has been placed.

乾燥処理部LPDは、基板Wを乾燥させる処理を行うものであって、例えば、ロットをチャンバ内に収容し、チャンバ内を減圧して乾燥処理を行う。   The drying processing unit LPD performs a process of drying the substrate W. For example, the lot is accommodated in the chamber, and the chamber is decompressed to perform the drying process.

第1処理部19は、ロットを構成する基板Wに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部ONB1と、これに隣接して配置された薬液処理部CHB1とを備えている。薬液処理部CHB1は、ロットを構成する基板Wに対して薬液を含む処理液によって薬液処理を施す。また、第1処理部19は、第2搬送機構WTRとロットを受け渡すとともに、純水洗浄処理部ONB1でのみ昇降可能なリフタLF1と、第2搬送機構WTRとロットを受け渡すとともに薬液処理部CHB1でのみ昇降可能なリフタLF2とを備えている。   The first processing unit 19 includes a pure water cleaning processing unit ONB1 for performing pure water cleaning processing on the substrate W constituting the lot, and a chemical solution processing unit CHB1 disposed adjacent thereto. The chemical processing unit CHB1 performs a chemical processing on the substrate W constituting the lot with a processing liquid containing a chemical. In addition, the first processing unit 19 delivers the lot to the second transport mechanism WTR and the lifter LF1, which can be lifted and lowered only by the pure water cleaning processing unit ONB1, and the chemical processing unit to deliver the lot to the second transport mechanism WTR. And a lifter LF2 that can be lifted and lowered only by CHB1.

第2処理部21は、上述した第1処理部19と同様の構成を備えている。つまり、第2処理部21は、純水洗浄処理部ONB2と、薬液処理部CHB2と、リフタLF3,LF4とを備えている。   The second processing unit 21 has the same configuration as the first processing unit 19 described above. That is, the second processing unit 21 includes a pure water cleaning processing unit ONB2, a chemical processing unit CHB2, and lifters LF3 and LF4.

また、第3処理部23は、上述した第1処理部19及び第2処理部21と同様の構成を備えている。つまり、第3処理部23は、純水洗浄処理部ONB3と、薬液処理部CHB3と、リフタLF5,LF6とを備えている。   The third processing unit 23 has the same configuration as the first processing unit 19 and the second processing unit 21 described above. That is, the third processing unit 23 includes a pure water cleaning processing unit ONB3, a chemical solution processing unit CHB3, and lifters LF5 and LF6.

上記のように構成された基板処理装置は、図2のブロック図に示すように制御部31によって統括的に制御される。なお、制御部31が本発明における「コンピュータ」に相当する。   The substrate processing apparatus configured as described above is comprehensively controlled by the control unit 31 as shown in the block diagram of FIG. The control unit 31 corresponds to the “computer” in the present invention.

制御部31は、CPUやタイマ等を備え、スケジューリング部33と、処理実行指示部35とを備えている。制御部31に接続されている記憶部37は、この基板処理装置のユーザ等によって予め作成され、基板Wからなるロットをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムなどが予め記憶されている。また、オペレータによるロット群の投入及びレシピの指定とともに、それらの処理順序に基づきスケジューリング部33によって自動的に付与されたロットごとの計画開始位置を記憶している。また、詳細後述するように、スケジューリング部33によって求められた調整計画開始位置も記憶部37に記憶される。制御部31は、基板処理装置の全てのリソースを制御対象としている。ここでリソースとは、第1搬送機構PCR、搬入機構WTV2、払出機構WTV1、第2搬送機構WTR、基板待機部CWS、乾燥処理部LPD、純水洗浄処理部ONB1〜3、薬液処理部CHB1〜3、リフタLF1〜LF6などをいう。   The control unit 31 includes a CPU, a timer, and the like, and includes a scheduling unit 33 and a process execution instruction unit 35. A storage unit 37 connected to the control unit 31 is created in advance by a user or the like of this substrate processing apparatus, and includes a recipe including a plurality of processing steps that define how to process a lot of substrates W, A schedule creation program and a processing program for executing the created schedule are stored in advance. In addition to the lot group input and the recipe designation by the operator, the plan start position for each lot automatically assigned by the scheduling unit 33 based on the processing order is stored. As will be described later in detail, the adjustment plan start position obtained by the scheduling unit 33 is also stored in the storage unit 37. The control unit 31 controls all resources of the substrate processing apparatus. Here, the resources are the first transport mechanism PCR, the carry-in mechanism WTV2, the payout mechanism WTV1, the second transport mechanism WTR, the substrate standby unit CWS, the drying processing unit LPD, the pure water cleaning processing units ONB1 to 3, the chemical solution processing units CHB1 to CHB1. 3, the lifters LF1 to LF6.

スケジューリング機能部33は、例えば、投入部3に載置されたFOUP1に収納された複数枚の基板Wを一つのロットとして取り扱い、装置のオペレータによって指示された、記憶部37に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、ロットごとの処理工程を時系列的に効率よく配置できるようにスケジュールを作成する。その際には、投入順に、レシピに応じて予め計画開始位置をロットごとに求めて記憶部37に記憶しておく。そして、スケジュールを作成する際に、ロットごとに対応する計画開始位置を基準にして処理工程からなるブロック(詳細後述)を配置する。なお、各ロットの各ブロックを配置する際には、前のブロックの終了予定時刻が最も早いロットを優先し、それに続くブロックを配置する。但し、後述するように、ある条件下において待機時間が生じたロットについては、計画開始位置を時間的に後にずらした調整計画開始位置を求めて、この調整計画開始位置を基準にしてそのロットのブロックを配置する。   The scheduling function unit 33 handles, for example, a plurality of substrates W stored in the FOUP 1 placed on the loading unit 3 as one lot, and is stored in advance in the storage unit 37 instructed by the apparatus operator. Depending on the recipe, before actually starting the processing, a schedule is created so that the processing steps for each lot can be efficiently arranged in time series. At that time, the plan start position is obtained in advance for each lot in accordance with the recipe in the order of input and stored in the storage unit 37. Then, when creating a schedule, blocks (details will be described later) consisting of processing steps are arranged with reference to the plan start position corresponding to each lot. When placing each block of each lot, the lot with the earliest scheduled end time of the previous block is prioritized and the subsequent blocks are placed. However, as will be described later, for a lot that has a waiting time under certain conditions, an adjustment plan start position obtained by shifting the plan start position later in time is obtained, and the lot's Place blocks.

本実施例においては、理解を容易にするために、第1のロットと、第2のロットと、第3のロットの三つのロットを処理する場合を例に採って説明する。なお、第1のロットと第2のロットは、同じ純水洗浄処理部ONB1による長時間の純水洗浄処理を行い、第3のロットは、純水洗浄処理部ONB2で短時間の純水洗浄処理を行うものとする。なお、本実施例では、第3処理部23については使用しないので、以下のタイムチャート(図3〜図41)では記載を省略してある。   In the present embodiment, in order to facilitate understanding, a case where three lots of a first lot, a second lot, and a third lot are processed will be described as an example. The first lot and the second lot are subjected to a long-time pure water cleaning process by the same pure water cleaning processing unit ONB1, and the third lot is a short time pure water cleaning by the pure water cleaning processing unit ONB2. Processing shall be performed. In the present embodiment, since the third processing unit 23 is not used, the description is omitted in the following time charts (FIGS. 3 to 41).

次に、各ロットのレシピについて図3を参照して説明する。なお、図3は、レシピの例を示すタイムチャートであり、(a)は第1のロット、(b)は第2のロット、(c)は第3のロットを示す。これらのタイムチャートは、単一のロットだけでタイムチャートに処理工程を示した単バッチのスケジュールである。   Next, the recipe for each lot will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a time chart showing an example of a recipe, where (a) shows the first lot, (b) shows the second lot, and (c) shows the third lot. These time charts are single batch schedules showing processing steps in the time chart using only a single lot.

なお、タイムチャートではリソースである各処理部を処理工程として縦軸に配置している。また、上述した基板処理装置における搬送収納部ACBは、レシピとは関係が低いので省略してある。具体的には、処理工程aは、例えば、第1搬送機構PCRの処理部による搬送・姿勢変換等の処理である。処理工程bは、例えば、払出機構WTV1の処理部による払出処理である。処理工程cは、搬入機構WTV2の処理部による搬入処理である。処理工程dは、例えば、第2搬送機構WTRの処理部による搬送処理である。処理工程eは、例えば、基板待機部CWSの処理部による待機処理である。処理工程fは、例えば、乾燥処理部LPDの処理部による乾燥処理である。処理工程gは、純水洗浄処理部ONB1による純水洗浄処理である。処理工程hは、薬液処理部CHB1の処理部による薬液処理である。処理工程iは、純水洗浄処理部ONB2の処理部による純水洗浄処理である。処理工程jは、薬液処理部CHB2の処理部による薬液処理である。但し、本実施例では、処理工程h、jを使用することがない。   In the time chart, each processing unit, which is a resource, is arranged on the vertical axis as a processing step. Further, the transfer storage unit ACB in the substrate processing apparatus described above is omitted because it has a low relationship with the recipe. Specifically, the processing step a is, for example, processing such as transport / posture change by the processing unit of the first transport mechanism PCR. The processing step b is, for example, a payout process by the processing unit of the payout mechanism WTV1. Processing step c is a carry-in process by the processing unit of the carry-in mechanism WTV2. The processing step d is, for example, a transport process by the processing unit of the second transport mechanism WTR. The processing step e is, for example, standby processing by the processing unit of the substrate standby unit CWS. The processing step f is, for example, a drying process by the processing unit of the drying processing unit LPD. The processing step g is a pure water cleaning process performed by the pure water cleaning processing unit ONB1. The processing step h is a chemical processing by the processing unit of the chemical processing unit CHB1. The process step i is a pure water cleaning process performed by the processing unit of the pure water cleaning processing unit ONB2. The processing step j is a chemical processing by the processing unit of the chemical processing unit CHB2. However, in this embodiment, the processing steps h and j are not used.

第1のロットについてのレシピは、例えば、例えば、図3(a)に示すようなものである。
つまり、第1のロットのレシピは、処理工程a及びcがブロックAを構成し、処理工程eがブロックBを構成し、処理工程d及び処理工程gがブロックCを構成し、処理工程d及び処理工程fがブロックDを構成し、処理工程d及び処理工程bがブロックEを構成し、処理工程aがブロックFを構成する。これらのブロックは、処理を中断することが可能な処理工程でまとめられている。この例では、ブロックCの処理工程gは、純水洗浄処理部ONB1による「長時間」の純水洗浄処理である。
The recipe for the first lot is, for example, as shown in FIG.
That is, in the recipe of the first lot, processing steps a and c constitute block A, processing step e constitutes block B, processing step d and processing step g constitute block C, processing step d and Processing step f constitutes block D, processing step d and processing step b constitute block E, and processing step a constitutes block F. These blocks are grouped in processing steps that can interrupt processing. In this example, the processing step g of the block C is a “long-time” pure water cleaning process by the pure water cleaning processing unit ONB1.

また、第2のロットについてのレシピは、例えば、図3(b)に示すようなものである。
第2のロットのレシピは、上述した第1のロットのレシピと同じであり、ブロック構成も同じである。
The recipe for the second lot is, for example, as shown in FIG.
The recipe of the second lot is the same as the recipe of the first lot described above, and the block configuration is also the same.

また、第3のロットについてのレシピは、例えば、図3(c)に示すようなものである。
つまり、第3のロットのレシピは、処理工程a及びcがブロックAを構成し、処理工程eがブロックBを構成し、処理工程d及び処理工程iがブロックCを構成し、処理工程d及び処理工程fがブロックDを構成し、処理工程d及び処理工程bがブロックEを構成し、処理工程aがブロックFを構成する。これらのブロックは、処理を中断することが可能な処理工程でまとめられている。この例では、ブロックCの処理工程iは、純水洗浄処理部ONB2による「短時間」の純水洗浄処理である。
The recipe for the third lot is, for example, as shown in FIG.
That is, in the recipe of the third lot, processing steps a and c constitute block A, processing step e constitutes block B, processing step d and processing step i constitute block C, processing step d and Processing step f constitutes block D, processing step d and processing step b constitute block E, and processing step a constitutes block F. These blocks are grouped in processing steps that can interrupt processing. In this example, the process step i of the block C is a “short time” pure water cleaning process by the pure water cleaning processing unit ONB2.

なお、各ブロックA〜Fの前には数字を付すことで第1〜第3のロットを区別している。つまり、第1のロットのブロックAは、「1−A」と表し、第2のロットのブロックAは、「2−A」と表し、第3のロットのブロックAは、「3−A」と表している。また、上述した各処理工程a〜jにおける前の部分(空白部分)は、準備作業であり、後の部分(空白部分)は後片付けを表し、中央部(ハッチング部分)が処理の実体を表している。但し、処理工程によっては、後片付けが存在しないこともある。   Note that the first to third lots are distinguished by attaching a number before each of the blocks A to F. That is, the block A of the first lot is represented as “1-A”, the block A of the second lot is represented as “2-A”, and the block A of the third lot is represented as “3-A”. It expresses. In addition, the previous part (blank part) in each of the processing steps a to j described above is a preparation work, the subsequent part (blank part) represents rear-cleaning, and the central part (hatched part) represents the substance of processing. Yes. However, depending on the processing step, there may be no clean-up.

ここで、図4〜図40を参照して具体的な動作について説明する。なお、図4は、動作を示すフローチャートであり、図5〜図40は、スケジュール過程を示すタイムチャートである。   Here, a specific operation will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a flowchart showing the operation, and FIGS. 5 to 40 are time charts showing the schedule process.

ステップS1
制御部31は、搬送収納部ACBを操作して、第1のロット、第2のロット、第3のロットを投入部3からその順で搬送収納部ACBに受け入れる。さらに、装置のオペレータが図示しない操作部を介してロットごとに上述したレシピを指定したとする。すると、制御部31は、バッチスタートによるスケジューリングか否かに応じて処理を分岐する。ここでは、バッチスタートであるとして次のステップS2に移行する。
Step S1
The control unit 31 operates the conveyance storage unit ACB to receive the first lot, the second lot, and the third lot from the input unit 3 to the conveyance storage unit ACB in that order. Furthermore, it is assumed that the above-described recipe is designated for each lot through an operation unit (not shown) by the apparatus operator. Then, the control part 31 branches a process according to whether it is the scheduling by batch start. Here, the process proceeds to the next step S2 because it is a batch start.

ステップS2〜S9
制御部31のスケジューリング部33は、記憶部37から第1のロットの計画開始位置PSP1を読み出し、図5に示すスケジューリングにおけるタイムチャート上に、第1のロットの計画開始位置PSP1から第1のロットの最初のブロックA(符号1−A)を配置する。そして、第1のロットの各ブロックB〜Fを順に配置する(図6〜図10)が、基板待機部CWS以降のブロックCを配置した際に、ブロックBと、これに続くブロックCとの間に待機時間が生じたか否かを判断し(ステップS6)、処理を分岐する。この第1のロットの例では、図7において第1のロットのブロックC(符号1−C)が配置されているが、図8に示すように待機時間は生じていない。したがって、ステップS6からステップS9を経て、全ブロックを配置することができるので、計画開始位置PSP1は調整されることなくそのままである。
Steps S2 to S9
The scheduling unit 33 of the control unit 31 reads the plan start position PSP1 of the first lot from the storage unit 37, and displays the first lot from the plan start position PSP1 of the first lot on the time chart in the scheduling shown in FIG. The first block A (reference numeral 1-A) is arranged. Then, the blocks B to F of the first lot are arranged in order (FIGS. 6 to 10). When the block C after the substrate standby unit CWS is arranged, the block B and the block C subsequent thereto are arranged. It is determined whether a waiting time has occurred in the meantime (step S6), and the process branches. In the example of the first lot, the block C (reference numeral 1-C) of the first lot is arranged in FIG. 7, but no waiting time occurs as shown in FIG. Therefore, all the blocks can be arranged through steps S6 to S9, so that the plan start position PSP1 remains unchanged.

次に、図11〜図25に示すように、第1のロットと第2のロットを配置してゆく。その際には、複数のロットの配置なので、前のブロックの終了予定時刻が早い方のロットのブロックを優先して配置するルールの下で行う。なお、最初の配置は、計画配置位置が早いロットを優先する。   Next, as shown in FIGS. 11 to 25, the first lot and the second lot are arranged. In this case, since a plurality of lots are arranged, it is performed under a rule that gives priority to a block of a lot whose earlier scheduled end time of the previous block is earlier. In the first placement, a lot with an earlier planned placement position is given priority.

まず、図11に示すように、第1のロットのブロックA(符号1−A)を計画開始位置PSP1を基準にして配置し、次に第2のロットのブロックA(符号2−A)を計画開始位置PSP2を基準にして配置する。しかし、搬入機構WTV2において両ロットが衝突することになるので、第2のロットのブロックA(符号2−A)の配置を回避して、図12に示すように、第1のロットの次のブロックB(符号1−B)を配置する。次に、第2のロットのブロックA(符号2−A)を計画開始位置PSP2から配置すると、搬入機構WTV2において衝突は起きないので、その位置に第2のロットのブロックA(符号2−A)を配置する(図13)。次に、終了予定時刻が第1のロットの方が早いので、そのブロックC(符号1−C)を配置する(図14)。このときステップS6における判断は、待機時間が生じないことになるので、順次に両ロットの残りのブロックを配置する。まず、図15に示すように、第2のロットのブロックA(符号2−A)に続いて、第2のロットのブロックB(符号2−B)を配置する。但し、図16に示すように、第1のロットのブロックC(符号1−C)に続いて第2のロットのブロックC(符号2−C)を配置することはできないので、第1のロットのブロックC(符号1−C)に続いては、図17に示すように第1のロットのブロックD(符号1−D)を配置する。   First, as shown in FIG. 11, the block A (reference numeral 1-A) of the first lot is arranged with reference to the plan start position PSP1, and then the block A (reference numeral 2-A) of the second lot is arranged. It arrange | positions on the basis of the plan start position PSP2. However, since both lots collide with each other in the carry-in mechanism WTV2, the arrangement of the block A (reference numeral 2-A) of the second lot is avoided, and as shown in FIG. Block B (reference numeral 1-B) is arranged. Next, when the block A (reference numeral 2-A) of the second lot is arranged from the plan start position PSP2, no collision occurs in the carry-in mechanism WTV2, so the block A (reference numeral 2-A of the second lot) is placed at that position. ) Is arranged (FIG. 13). Next, since the scheduled end time of the first lot is earlier, the block C (reference numeral 1-C) is arranged (FIG. 14). At this time, since the determination in step S6 does not cause a waiting time, the remaining blocks of both lots are sequentially arranged. First, as shown in FIG. 15, the block B (reference numeral 2-B) of the second lot is arranged following the block A (reference numeral 2-A) of the second lot. However, as shown in FIG. 16, since the block C (reference numeral 2-C) of the second lot cannot be arranged following the block C (reference numeral 1-C) of the first lot, the first lot Following block C (reference numeral 1-C), the block D (reference numeral 1-D) of the first lot is arranged as shown in FIG.

図18に示すように、第1のロットのブロックD(符号1−D)に続いて、第2のブロックC(符号2−C)を配置するが、基板待機部CWS以降のブロックCにおいて、待機時間wtが生じる。したがって、ステップS6においてステップS7に処理を分岐する。まず、図19に示すように、第2のロットのブロックB(符号2−B)の基板待機部CWSでの機時間wtをなくするように、時間的に後にシフトして配置する。具体的には、後のブロックC(符号2−C)の処理工程dの準備作業の位置までシフトする。さらに、基板待機部CWSよりも前にブロックA(符号2−A)があるので、これも時間的に後にシフトする(図20)。具体的には、第2のロットのブロックB(符号2−B)の準備作業までシフトする。これで先頭のブロックA(符号2−A)が配置されたので、その先頭位置を、計画開始位置PSP2に代わる調整計画開始位置MSP2とする。スケジューリング部33は、この調整計画開始位置MSP2を記憶部37に記憶する(ステップS8)。次に、第1のロットのブロックE(符号1−E)を配置し(図21)、第1のロットのブロックF(符号1−F)を配置する(図22)。これで第1のロットの全ブロックを配置したので、残りの第2のブロックD〜F(符号2−D〜2−F)を配置する(図23〜図25)。   As shown in FIG. 18, the second block C (reference numeral 2-C) is arranged subsequent to the block D (reference numeral 1-D) of the first lot. In the block C after the substrate standby unit CWS, A waiting time wt occurs. Therefore, the process branches to step S7 in step S6. First, as shown in FIG. 19, the second lot block B (reference numeral 2-B) is shifted and arranged later in time so as to eliminate the machine time wt in the substrate standby unit CWS. Specifically, the position is shifted to the position of the preparation work in the processing step d of the subsequent block C (reference numeral 2-C). Furthermore, since there is a block A (reference numeral 2-A) before the substrate standby unit CWS, this also shifts later in time (FIG. 20). Specifically, the process shifts to the preparation work for the block B (reference numeral 2-B) of the second lot. Since the head block A (reference numeral 2-A) is now arranged, the head position is set as an adjustment plan start position MSP2 instead of the plan start position PSP2. The scheduling unit 33 stores the adjustment plan start position MSP2 in the storage unit 37 (step S8). Next, block E (reference numeral 1-E) of the first lot is arranged (FIG. 21), and block F (reference numeral 1-F) of the first lot is arranged (FIG. 22). Now that all the blocks of the first lot have been arranged, the remaining second blocks DF (reference numerals 2-D to 2-F) are arranged (FIGS. 23 to 25).

次に、図26〜図40に示すように、調整計画開始位置MSP2を含む計画開始位置PSP1,PSP3で第1のロット〜第3のロットを配置する。第2のロットの計画開始位置PSP2は、第3のロットの計画開始位置PSP3より時間的に前であったが、調整計画開始位置MSP2が時間的に後にシフトされたので、開始順序としては第1のロットに続いて第3のロット、そして第2のロットとなる。第3のロットのブロックC(符号3−C)が配置された時点(図28)でステップS6の判断がなされるが、この場合には第3ロットのブロックB(符号3−B)とブロックC(符号3−C)との間に待機時間wtが生じないので、第3のロットの計画開始位置PSP3が変更されることはない。このようにしてスケジュールが進むと、最終的には図40に示すようになる。   Next, as shown in FIGS. 26 to 40, the first lot to the third lot are arranged at the plan start positions PSP1 and PSP3 including the adjustment plan start position MSP2. The plan start position PSP2 of the second lot is temporally earlier than the plan start position PSP3 of the third lot, but the adjustment plan start position MSP2 is shifted later in time, so the start order is the first A lot is followed by a third lot and a second lot. When the block C (reference numeral 3-C) of the third lot is arranged (FIG. 28), the determination in step S6 is made. In this case, the block B (reference numeral 3-B) and the block of the third lot are determined. Since the waiting time wt does not occur with C (reference numeral 3-C), the planned start position PSP3 of the third lot is not changed. When the schedule advances in this way, the final result is as shown in FIG.

このようにして作成されたスケジュールは記憶部37に格納され、処理実行指示部35の制御の下で各リソースが操作されて実際に三つのロットに対する処理が行われる。   The schedule created in this way is stored in the storage unit 37, and each resource is operated under the control of the process execution instruction unit 35, and processing is actually performed for three lots.

上述したように、制御部31は、まず、計画開始位置PSP1〜PSP3から、レシピに基づいて各ブロックを配置する。そして、この結果、基板待機部CWSを使用するブロックBから次のブロックCまでの間に待機時間wtが生じる場合には、第2のロットの計画開始位置PSP2を時間的に後にずらした調整計画開始位置MSP2を求める。これにより、最初に決められている計画開始位置PSP2からスケジュールすると、待機時間wtにより無駄が生じるか否かを判断することができ、無駄が生じる場合には、待機時間wtより前のブロックの配置位置を調整することで待機時間wtを抑制できる。さらに、制御部31は、調整計画開始位置MSP2を含む計画開始位置PSP1,3の時間的に早いロットの順に、ブロックの配置を開始する。これにより、計画開始位置PSP3のままの第2の純水洗浄処理部ONB2での短時間の処理を行うレシピを採用した第3のロットを、調整計画開始位置MSP2の第2のロットよりも時間的に前に配置してスケジュールする追い越しが可能となる。したがって、基板処理装置における処理効率を向上させることができる。   As described above, the control unit 31 first arranges each block based on the recipe from the plan start positions PSP1 to PSP3. As a result, when the standby time wt occurs between the block B using the substrate standby unit CWS and the next block C, the adjustment plan in which the plan start position PSP2 of the second lot is shifted later in time. The starting position MSP2 is obtained. As a result, when scheduling is started from the plan start position PSP2 determined first, it can be determined whether or not waste is caused by the standby time wt. If waste occurs, the arrangement of blocks before the standby time wt is arranged. The standby time wt can be suppressed by adjusting the position. Further, the control unit 31 starts block arrangement in the order of lots earlier in time at the plan start positions PSP1 and 3 including the adjustment plan start position MSP2. As a result, the third lot adopting the recipe for performing the short-time processing in the second pure water cleaning processing unit ONB2 that remains at the plan start position PSP3 is set to be more time than the second lot at the adjustment plan start position MSP2. This enables overtaking to be placed in front and scheduled. Therefore, the processing efficiency in the substrate processing apparatus can be improved.

因みに、本実施例と従来例によるスケジュールとを比較すると図41のようになる。なお、図41は、本発明と従来例のスケジュール作成方法を比較するためのタイムチャートであり、(a)は本実施例、(b)は従来例を示す。   Incidentally, a comparison between the present embodiment and the schedule according to the conventional example is as shown in FIG. FIG. 41 is a time chart for comparing the schedule creation method of the present invention and the conventional example, where (a) shows the present example and (b) shows the conventional example.

このように本実施例と従来例とでは、三つのロットを処理するのに要する全体の時間は変わらないものの、従来例の長い待機時間が発生しているスケジュールよりも、ブロックを時間的に前詰めで配置することができ、効率的にリソースを利用できていることが分かる。一見すると、本発明の場合には、後半に無駄があるように思えるが、さらに多くのロットを処理する場合には、この後半部分にそれらのロットの処理を詰めることができるので、効率的であって無駄ではない。   In this way, in the present example and the conventional example, although the total time required to process the three lots does not change, the block is temporally preceded by the schedule in which the long standby time is generated in the conventional example. It can be seen that the resources can be used efficiently because they can be arranged in a packed manner. At first glance, in the case of the present invention, it seems that there is a waste in the second half, but when processing more lots, the processing of those lots can be packed in this second half, which is efficient. There is no waste.

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施例では、図1に示したような構成の基板処理装置を対象にして説明したが、本発明はその構成だけに限定されるものではない。   (1) In the above-described embodiment, the substrate processing apparatus having the configuration as shown in FIG. 1 has been described. However, the present invention is not limited to the configuration.

(2)上述した実施例では、長時間の処理を行うロットが二つで、短時間の処理を行うロットが一つの場合を例に採ったが、長時間の処理を行うロットが3つ以上の場合でも上記同様の効果を奏する。   (2) In the above-described embodiment, the case where there are two lots for which long-time processing is performed and one lot for which short-time processing is performed is taken as an example. Even in this case, the same effects as described above can be obtained.

(3)上述した実施例では、長時間の処理が純水洗浄処理で、短時間の処理が純水洗浄処理であったが、本発明はこれらの処理に限定されるものではない。例えば、長時間の処理が純水洗浄処理で、短時間の処理が薬液処理の場合や、長時間の処理が薬液処理で、短時間の処理が純水洗浄処理の場合であってもよい。   (3) In the above-described embodiments, the long-time process is the pure water cleaning process and the short-time process is the pure water cleaning process, but the present invention is not limited to these processes. For example, the long-time process may be a pure water cleaning process and the short-time process may be a chemical liquid process, or the long-time process may be a chemical liquid process and the short-time process may be a pure water cleaning process.

W … 基板
1 … FOUP
ACB … 搬送収納部
3 … 投入部
7 … 払出部
PCR … 第1搬送機構
WTV1 … 払出機構
WTV2 … 搬入機構
WTR … 第2搬送機構
CWS … 基板待機部
LPD … 乾燥処理部
19 … 第1処理部
21 … 第2処理部
23 … 第3処理部
ONB1〜ONB3 … 純水洗浄処理部
CHB1〜CHB3 … 薬液処理部
LF1〜LF6 … リフタ
31 … 制御部
33 … スケジューリング部
35 … 処理実行指示部
37 … 記憶部
PSP1〜PSP3 … 計画開始位置
MSP2 … 調整計画開始位置
wt … 待機時間
W ... Substrate 1 ... FOUP
ACB ... transport storage section 3 ... input section 7 ... payout section PCR ... first transport mechanism WTV1 ... payout mechanism WTV2 ... carry-in mechanism WTR ... second transport mechanism CWS ... substrate standby section LPD ... drying processing section 19 ... first processing section 21 ... 2nd process part 23 ... 3rd process part ONB1-ONB3 ... Pure water washing | cleaning process part CHB1-CHB3 ... Chemical solution process part LF1-LF6 ... Lifter 31 ... Control part 33 ... Scheduling part 35 ... Process execution instruction part 37 ... Memory | storage part PSP1 to PSP3 ... Plan start position MSP2 ... Adjustment plan start position wt ... Standby time

Claims (4)

処理前の基板からなるロット及び処理済の基板からなるロットを収容する収容部と、前記収容部との間でロットの搬入及び搬出を行う第1搬送機構と、各処理部との間でロットを受け渡す第2搬送機構と、第1搬送機構と第2搬送機構との間に配置され、第1搬送機構から第2搬送機構へ未処理のロットを搬入する搬入機構と、第2搬送機構から第1搬送機構へ処理済のロットを払い出す払出機構と、搬入機構の第2搬送機構側で未処理のロットを待機可能な待機部と、基板に対して処理を行う複数の処理部とを含むリソースを備えた基板処理装置を用いて、複数のロットを各リソースにより実際に処理する前に、制御部が複数の処理工程からなるレシピに基づき各リソースに処理工程を配置して使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
同じ処理部で長時間の処理を行うレシピを採用した複数のロットと、前記処理部とは異なる処理部で短時間の処理を行うレシピを採用したロットとをその順序で処理するとして、スケジュールの開始位置を規定する計画開始位置が設定された状態でスケジュールを行うにあたり、
計画開始位置からレシピに基づき各リソースに処理工程を配置する過程と、
待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じる場合には、そのロットの計画開始位置を時間的に後に調整して調整計画開始位置を求める過程と、
調整計画開始位置を含む計画開始位置のうち計画開始位置が早いロットのものから順に、レシピに基づき各リソースに処理工程を配置する過程と、
を実施することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
A storage portion for storing lots consisting of the lot and the processed substrate made of substrate pretreatment, a first transport mechanism for loading and unloading lots between said housing portion, with each processing unit A second transfer mechanism that delivers the lot; a carry-in mechanism that is arranged between the first transfer mechanism and the second transfer mechanism and carries an unprocessed lot from the first transfer mechanism to the second transfer mechanism; and a second transfer A payout mechanism that pays out a processed lot from the mechanism to the first transport mechanism, a standby unit that can wait for an unprocessed lot on the second transport mechanism side of the carry-in mechanism, and a plurality of processing units that process the substrate Before processing multiple lots with each resource using a substrate processing apparatus equipped with resources including the above, the control unit arranges and uses the processing steps for each resource based on a recipe consisting of multiple processing steps Substrate processing equipment that determines timing In Jules how to create,
Assuming that a plurality of lots adopting recipes for long-time processing in the same processing unit and lots adopting recipes for short-time processing in processing units different from the processing unit are processed in that order, When performing a schedule with the plan start position that defines the start position set,
The process of placing processing steps on each resource based on the recipe from the plan start position,
In the case where a waiting time occurs between the processing step using the standby unit and the next processing step, the process of obtaining the adjustment plan start position by adjusting the plan start position of the lot later in time,
The process of arranging the processing steps to each resource based on the recipe in order from the lot with the earlier plan start position among the plan start positions including the adjustment plan start position;
A method for creating a schedule for a substrate processing apparatus, comprising:
請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記調整計画開始位置を求める過程では、
待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じたロットについて、その待機部の使用タイミングと、当該ロットの搬入機構の使用タイミングとを含む前のリソースの使用タイミングを、待機部の後のリソースの使用タイミングに合わせて時間的に後に調整することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus of Claim 1,
In the process of obtaining the adjustment plan start position,
For a lot that has a waiting time between the processing step using the standby unit and the next processing step, the use timing of the previous resource including the use timing of the standby unit and the use timing of the carry-in mechanism of the lot A schedule creation method for a substrate processing apparatus, wherein the schedule is adjusted later in time according to the use timing of resources after the standby unit.
請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記調整計画開始位置を求める過程の後、求めた調整計画開始位置をロットに対応づけて記憶する過程を実施することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus of Claim 1 or 2,
A method of creating a schedule for a substrate processing apparatus, wherein after the step of obtaining the adjustment plan start position, a step of storing the obtained adjustment plan start position in association with a lot is performed.
処理前の基板からなるロット及び処理済の基板からなるロットを収容する収容部と、前記収容部との間でロットの搬入及び搬出を行う第1搬送機構と、各処理部との間でロットを受け渡す第2搬送機構と、第1搬送機構と第2搬送機構との間に配置され、第1搬送機構から第2搬送機構へ未処理のロットを搬入する搬入機構と、第2搬送機構から第1搬送機構へ処理済のロットを払い出す払出機構と、搬入機構の第2搬送機構側で未処理のロットを待機可能な待機部と、基板に対して処理を行う複数の処理部とを含むリソースを備えた基板処理装置を用いて、複数のロットを各リソースにより実際に処理する前に、制御部が複数の処理工程からなるレシピに基づき各リソースに処理工程を配置して使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
同じ処理部で長時間の処理を行うレシピを採用した複数のロットと、前記処理部とは異なる処理部で短時間の処理を行うレシピを採用したロットとをその順序で処理するとして、スケジュールの開始位置を規定する計画開始位置が設定された状態でスケジュールを行うにあたり、
計画開始位置からレシピに基づき各リソースに処理工程を配置する機能と、
待機部を使用する処理工程から次の処理工程までの間に待機時間が生じる場合には、そのロットの計画開始位置を時間的に後に調整して調整計画開始位置を求める機能と、
調整計画開始位置を含む計画開始位置のうち計画開始位置が早いロットのものから順に、レシピに基づき各リソースに処理工程を配置する機能と、
を前記制御部であるコンピュータに実行させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
A storage portion for storing lots consisting of the lot and the processed substrate made of substrate pretreatment, a first transport mechanism for loading and unloading lots between said housing portion, with each processing unit A second transfer mechanism that delivers the lot; a carry-in mechanism that is arranged between the first transfer mechanism and the second transfer mechanism and carries an unprocessed lot from the first transfer mechanism to the second transfer mechanism; and a second transfer A payout mechanism that pays out a processed lot from the mechanism to the first transport mechanism, a standby unit that can wait for an unprocessed lot on the second transport mechanism side of the carry-in mechanism, and a plurality of processing units that process the substrate Before processing multiple lots with each resource using a substrate processing apparatus equipped with resources including the above, the control unit arranges and uses the processing steps for each resource based on a recipe consisting of multiple processing steps Substrate processing equipment that determines timing In Jules creation program,
Assuming that a plurality of lots adopting recipes for long-time processing in the same processing unit and lots adopting recipes for short-time processing in processing units different from the processing unit are processed in that order, When performing a schedule with the plan start position that defines the start position set,
A function to place processing steps on each resource based on the recipe from the plan start position,
In the case where a waiting time occurs between the processing step using the standby unit and the next processing step, a function for obtaining the adjustment plan starting position by adjusting the plan starting position of the lot later in time,
A function that arranges processing steps on each resource based on the recipe in order from the lot with the earlier plan start position among the plan start positions including the adjustment plan start position;
Is executed by a computer which is the control unit.
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