JP2003031454A - Method and program for scheduling substrate treatment system - Google Patents

Method and program for scheduling substrate treatment system

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JP2003031454A JP2001216440A JP2001216440A JP2003031454A JP 2003031454 A JP2003031454 A JP 2003031454A JP 2001216440 A JP2001216440 A JP 2001216440A JP 2001216440 A JP2001216440 A JP 2001216440A JP 2003031454 A JP2003031454 A JP 2003031454A
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淳 河合
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喜代志 赤尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance throughput by making a plurality of treatment schedules previously and considering of the use schedule of a plurality of equivalent treating sections thereby quickening delivery of lot surely. SOLUTION: When a schedule is made prior to starting treatment for each lot actually, a plurality of schedules using all equivalent treating sections (pure water treating sections 21 and 29, chemical treatment sections 23 and 31) available depending on the recipe are made when a certain lot is fed and a schedule ending first is employed. The plurality of schedules are compared and a schedule where the lot is delivered earliest is employed. Since use schedule of the equivalent treating sections can be taken into account, delivery of lot can be quickened surely and throughput can be enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称す
る)に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作
成方法及びそのプログラムに係り、特に、略同じ処理を
施すことが可能な等価処理部を複数個備えている基板処
理装置におけるスケジューリング技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and program for creating a schedule for a substrate processing apparatus for performing a predetermined process on a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display device (hereinafter simply referred to as a substrate), and more particularly, The present invention relates to a scheduling technique in a substrate processing apparatus having a plurality of equivalent processing units capable of performing substantially the same processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、純水洗浄処理部と薬液処理部と
をそれぞれ二台ずつ備えた基板処理装置では、二台の純
水洗浄処理部が等価処理部であり、二台の薬液処理部が
等価処理部として扱われる。このような基板処理装置に
おいては、従来、次のようにして複数枚の基板からなる
ロットが処理される。
2. Description of the Related Art For example, in a substrate processing apparatus having two pure water cleaning processing units and two chemical processing units, two pure water cleaning processing units are equivalent processing units and two chemical processing units are used. Is treated as an equivalent processing unit. In such a substrate processing apparatus, conventionally, a lot consisting of a plurality of substrates is processed as follows.

【0003】すなわち、ロットの投入時点において、使
われずに空いている処理部があればそちらを選択する。
つまり、二つの純水洗浄処理部のうちいずれで純水洗浄
を行なうかが予め規定されておらず、二つの薬液処理部
のうちいずれで薬液処理を行なうかについても規定され
ていない。
That is, if there is a processing unit that is not used and is empty at the time of inputting a lot, that processing unit is selected.
That is, it is not specified in advance which of the two deionized water cleaning processing units should perform deionized water cleaning, nor is it specified in which of the two deionized liquid processing units the deionized liquid processing should be performed.

【0004】したがって、実際にロットを投入する時間
に、等価処理部のうち空いている方が自動的に選択され
ることになる。
Therefore, when the lot is actually put in, the free one of the equivalent processing units is automatically selected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来方法のようにロットの投入時点で
のみ等価処理部の状況を判断する振り分け方では、その
他の等価処理部の使用状況や、その後の使用状況などを
考慮することができない。そのため、そのロットの払い
出しが、投入時点で空いていた等価処理部を選択しなか
った場合よりも遅くなることがある。
However, the conventional example having such a structure has the following problems. That is, in the distribution method that determines the status of the equivalent processing unit only at the time of lot introduction as in the conventional method, the usage status of other equivalent processing units and the usage status after that cannot be taken into consideration. Therefore, the payout of the lot may be delayed as compared with the case where the equivalent processing unit that was empty at the time of input was not selected.

【0006】また、投入時点でいずれの等価処理部も空
いていない場合には、いずれかの等価処理部が空いてか
ら搬送動作が開始されるので、待ち時間が増えてスルー
プットが低下するという問題がある。
Further, if none of the equivalent processing units are vacant at the time of input, the carrying operation is started after any of the equivalent processing units is vacant, so that the waiting time increases and the throughput decreases. There is.

【0007】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、処理前に複数のスケジュールを予め
作成して複数の等価処理部の使用予定を考慮することに
より、ロットの払い出しが確実に早く、スループットを
向上させることができる基板処理装置のスケジュール作
成方法及びそのプログラムを提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and lots are paid out by preparing a plurality of schedules in advance before processing and considering the usage schedules of a plurality of equivalent processing units. An object of the present invention is to provide a method of creating a schedule of a substrate processing apparatus and a program thereof which can surely improve the throughput.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板に対して略同じ処理
を施すことができる処理部を等価処理部とし、この等価
処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロッ
トを処理する際に、各ロットが使用する等価処理部を選
択する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
各ロットに対する処理を実際に開始するのに先立ち予め
スケジュールを作成する際に、あるロットの投入時に、
使用可能な全ての等価処理部を使用した複数のスケジュ
ールを作成し、その中で最も早く終了するスケジュール
を採用することを特徴とするものである。
The present invention has the following constitution in order to achieve such an object. That is, according to the first aspect of the present invention, a processing unit capable of performing substantially the same processing on a substrate is an equivalent processing unit, and a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus including a plurality of the equivalent processing units. At this time, in the method of creating the schedule of the substrate processing apparatus for selecting the equivalent processing unit used by each lot,
When creating a schedule in advance before actually starting processing for each lot, at the time of inputting a certain lot,
A feature is that a plurality of schedules using all available equivalent processing units are created, and the schedule that finishes the earliest among them is adopted.

【0009】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記
各等価処理部で各々定期的に実施されるメンテナンスを
考慮することを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the method of creating a schedule of the substrate processing apparatus according to the first aspect, the maintenance regularly performed in each of the equivalent processing units is taken into consideration. Is.

【0010】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法におい
て、前記複数個の等価処理部に優先度を設定しておき、
作成した複数のスケジュールの終了時間が同じになった
場合には、優先度が高い方の等価処理部を使用するスケ
ジュールを採用することを特徴とするものである。
According to a third aspect of the invention, in the method of creating a schedule for a substrate processing apparatus according to the first or second aspect, priorities are set for the plurality of equivalent processing units,
When the end times of a plurality of created schedules are the same, the schedule that uses the equivalent processing unit with the higher priority is adopted.

【0011】請求項4に記載の発明は、請求項1ないし
3のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、前記複数個の等価処理部の一つは、純水
洗浄処理部であることを特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method of creating a schedule for a substrate processing apparatus according to any of the first to third aspects, one of the plurality of equivalent processing units is a pure water cleaning processing unit. It is characterized by being.

【0012】請求項5に記載の発明は、請求項1ないし
3のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、前記複数個の等価処理部の一つは、薬液
処理部であることを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the invention, in the method of creating a schedule for a substrate processing apparatus according to any one of the first to third aspects, one of the plurality of equivalent processing sections is a chemical solution processing section. It is characterized by.

【0013】請求項6に記載の発明は、基板に対して略
同じ処理を施すことができる処理部を等価処理部とし、
この等価処理部を複数個備えた基板処理装置によって複
数のロットを処理する際に、各ロットが使用する等価処
理部を選択する基板処理装置のスケジュール作成プログ
ラムにおいて、各ロットに対する処理を実際に開始する
のに先立ち予めスケジュールを作成する際に、あるロッ
トの投入時に、使用可能な等価処理部を使用した複数の
スケジュールを作成し、その中で最も早く終了するスケ
ジュールを採用するようにコンピュータを制御すること
を特徴とするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, the processing unit capable of performing substantially the same processing on the substrate is an equivalent processing unit,
When processing a plurality of lots with a substrate processing apparatus equipped with a plurality of such equivalent processing units, the processing for each lot is actually started in the schedule creation program of the substrate processing apparatus that selects the equivalent processing unit to be used by each lot. When creating a schedule in advance, when creating a lot, create multiple schedules that use available equivalent processing units, and control the computer to adopt the schedule that finishes earliest. It is characterized by doing.

【0014】[0014]

【作用】請求項1に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。すなわち、実際にロットを処理する前に、次のよう
に予め複数のスケジュールを作成してみる。まず、ある
ロットの投入時を想定し、この時点で、レシピに応じて
使用可能な全ての等価処理部を使用した複数のスケジュ
ールを作成する。そして、複数のスケジュールを比較
し、ロットの払い出しが最も早いスケジュールを採用す
る。
The operation of the invention described in claim 1 is as follows. That is, before actually processing a lot, a plurality of schedules are created in advance as follows. First, assuming the time of inputting a certain lot, at this point, a plurality of schedules using all the equivalent processing units that can be used according to the recipe are created. Then, a plurality of schedules are compared with each other, and the schedule with the earliest lot payout is adopted.

【0015】請求項2に記載の発明によれば、各等価処
理部において各々定期的に実施される、使用回数などに
制限が設けられている処理液の交換等に関するメンテナ
ンスを考慮してスケジュールを作成する。
According to the second aspect of the present invention, the schedule is set in consideration of the maintenance related to the replacement of the processing liquid, which has a limited number of times of use, which is regularly performed in each equivalent processing unit. create.

【0016】請求項3に記載の発明によれば、複数のス
ケジュールを比較した結果、終了時間が同じになった場
合には、優先度が高い方の等価処理部を使用するスケジ
ュールを採用する。
According to the invention described in claim 3, when a plurality of schedules are compared and the end times are the same, the schedule using the equivalent processing unit having the higher priority is adopted.

【0017】請求項4に記載の発明によれば、純水によ
って洗浄処理を施す純水洗浄処理部を等価処理部とす
る。
According to the fourth aspect of the invention, the pure water cleaning processing unit that performs cleaning processing with pure water is an equivalent processing unit.

【0018】請求項5に記載の発明によれば、薬液によ
って薬液処理を施す薬液処理部を等価処理部とする。
According to the fifth aspect of the present invention, the chemical solution processing section that performs the chemical solution processing with the chemical solution is an equivalent processing section.

【0019】請求項6に記載の発明によれば、上記請求
項1と同様の作用を奏する。
According to the invention described in claim 6, the same operation as that of claim 1 is achieved.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
一実施例を説明する。図1及び図2は本発明の一実施例
に係り、図1は実施例に係る基板処理装置の概略構成を
示した平面図であり、図2はそのブロック図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 relate to an embodiment of the present invention, FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to the embodiment, and FIG. 2 is a block diagram thereof.

【0021】この基板処理装置は、例えば、基板Wに対
して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すため
の装置である。基板Wは複数枚(例えば25枚)がカセ
ット1に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基
板Wを収納したカセット1は、投入部3に載置される。
投入部3は、カセット1を載置させる載置台5を二つ備
えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部3の反
対側には、払出部7が配備されている。この払出部7
は、処理済みの基板Wをカセット1に収納してカセット
1ごと払い出す。このように機能する払出部7は、投入
部3と同様に、カセット1を載置するための二つの載置
台9を備えている。
The substrate processing apparatus is, for example, an apparatus for subjecting the substrate W to chemical treatment, pure water cleaning treatment and drying treatment. A plurality of (e.g., 25) substrates W are stored in the cassette 1 in an upright posture. The cassette 1 containing the unprocessed substrate W is placed on the loading unit 3.
The loading unit 3 includes two mounting tables 5 on which the cassette 1 is mounted. A payout unit 7 is provided on the opposite side of the input unit 3 with the central portion of the substrate processing apparatus sandwiched therebetween. This payout section 7
Stores the processed substrate W in the cassette 1 and dispenses the cassette 1 together. The payout unit 7 functioning in this way is provided with two mounting bases 9 for mounting the cassette 1 similarly to the loading unit 3.

【0022】投入部3と払出部7に沿う位置には、これ
らの間を移動可能に構成された第1搬送機構11が配置
されている。第1搬送機構11は、投入部3に載置され
たカセット1ごと複数枚の基板Wを第2搬送機構13に
対して搬送する。
At a position along the input section 3 and the payout section 7, a first transport mechanism 11 is arranged so as to be movable between them. The first transport mechanism 11 transports a plurality of substrates W together with the cassette 1 placed on the loading unit 3 to the second transport mechanism 13.

【0023】第2搬送機構13は、収納されている全て
の基板Wをカセット1から取り出した後、第3搬送機構
15に対して全ての基板Wを搬送する。また、第3搬送
機構15から処理済みの基板Wを受け取った後に、基板
Wをカセット1に収容して第1搬送機構11に搬送す
る。第3搬送機構15は、基板処理装置の長手方向に向
けて移動可能に構成されている。
The second transfer mechanism 13 takes out all the stored substrates W from the cassette 1 and then transfers all the substrates W to the third transfer mechanism 15. After receiving the processed substrate W from the third transfer mechanism 15, the substrate W is accommodated in the cassette 1 and transferred to the first transfer mechanism 11. The third transfer mechanism 15 is configured to be movable in the longitudinal direction of the substrate processing apparatus.

【0024】上記第3搬送機構15の移動方向における
最も手前側には、複数枚の基板Wを低圧のチャンバ内に
収納して乾燥させるための乾燥処理部17が配備されて
いる。
A drying processing section 17 for accommodating a plurality of substrates W in a low-pressure chamber and drying them is provided on the most front side in the moving direction of the third transfer mechanism 15.

【0025】第3搬送機構15の移動方向であって上記
乾燥処理部17に隣接する位置には、第1処理部19が
配備されている。この第1処理部19は、複数枚の基板
Wに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部2
1を備えているとともに、複数枚の基板Wに対して薬液
処理を施すための薬液処理部23を備えている。また、
これらの間で基板Wを搬送する第1副搬送機構25を備
えている。この第1副搬送機構25は、第1処理部19
内での基板搬送の他に、純水洗浄処理部21において第
3搬送機構15との間で基板Wを受け渡しする。
A first processing unit 19 is provided at a position adjacent to the drying processing unit 17 in the moving direction of the third transport mechanism 15. The first processing unit 19 is a pure water cleaning processing unit 2 for performing a pure water cleaning process on a plurality of substrates W.
1, and a chemical liquid processing unit 23 for performing chemical liquid processing on a plurality of substrates W. Also,
A first sub-transport mechanism 25 that transports the substrate W between them is provided. The first sub transport mechanism 25 includes the first processing unit 19
In addition to the internal substrate transfer, the pure water cleaning processing unit 21 transfers the substrate W to and from the third transfer mechanism 15.

【0026】第1処理部19に隣接して第2処理部27
が配備されている。この第2処理部27は、上述した第
1処理部19と同じ構成であり、純水洗浄処理部29
と、薬液処理部31と、純水洗浄処理部29において基
板Wを第3搬送機構15との間で受け渡す第2副搬送機
構33とを備えている。
The second processing unit 27 is adjacent to the first processing unit 19.
Has been deployed. The second processing unit 27 has the same configuration as the first processing unit 19 described above, and a pure water cleaning processing unit 29.
And a second sub-transfer mechanism 33 that transfers the substrate W to and from the third transfer mechanism 15 in the pure water cleaning processing unit 29.

【0027】第2搬送機構13に付設されているカセッ
ト洗浄部35は、上述した第2搬送機構13が全ての基
板Wを取り出した後、空になったカセット1を洗浄する
機能を有する。
The cassette cleaning unit 35 attached to the second transfer mechanism 13 has a function of cleaning the empty cassette 1 after the second transfer mechanism 13 has taken out all the substrates W.

【0028】なお、上述した第1処理部19の純水洗浄
処理部21と、第2処理部27の純水洗浄処理部29と
が本発明における処理部及び等価処理部に相当し、第2
処理部27の薬液処理部23と第2処理部の薬液処理部
31とが同様に処理部及び等価処理部に相当する。
The pure water cleaning processing section 21 of the first processing section 19 and the pure water cleaning processing section 29 of the second processing section 27 correspond to the processing section and the equivalent processing section in the present invention, and the second processing section
Similarly, the chemical liquid processing unit 23 of the processing unit 27 and the chemical liquid processing unit 31 of the second processing unit correspond to a processing unit and an equivalent processing unit.

【0029】上記のように構成されている基板処理装置
は、図2のブロック図に示すように制御部37によって
統括的に制御される。
The substrate processing apparatus configured as described above is controlled by the control unit 37 as shown in the block diagram of FIG.

【0030】制御部37は、CPUなどから構成されて
おり、以下に説明するスケジュール作成プログラムに相
当する手順に基づき、レシピに応じて上述したどの構成
をどの順序で使用するかを、実際に処理を開始する前に
予め決定する。その後、実際に基板Wを処理するにあた
り、作成されたスケジュールに基づき各構成を使用して
レシピに応じた処理を基板Wに対して施す。
The control unit 37 is composed of a CPU and the like, and actually processes which of the above-mentioned configurations is to be used and in which order according to the recipe based on a procedure corresponding to a schedule creating program described below. Predetermine before starting. After that, when actually processing the substrate W, the processing according to the recipe is performed on the substrate W using each configuration based on the created schedule.

【0031】記憶部39には、この基板処理装置のユー
ザによって予め作成され、基板Wをどのような手順で処
理するかを規定した複数種類のレシピと、スケジュール
作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する
処理プログラム等が予め格納されている。また、上述し
た二つの等価処理部のうちのいずれを優先的に選択する
かを示す情報が予め記憶されており、さらに作成された
スケジュール等も記憶される。
The storage unit 39 stores a plurality of types of recipes created in advance by the user of this substrate processing apparatus and defining the procedure for processing the substrate W, a schedule creation program, and the created schedule. Processing programs to be executed and the like are stored in advance. Further, information indicating which one of the above-mentioned two equivalent processing units is preferentially selected is stored in advance, and the created schedule and the like are also stored.

【0032】まず、図3に示すタイムチャートを参照し
ながらスケジュール作成プログラムに相当する手順につ
いて説明するが、理解を容易にするためにレシピのうち
の一部だけを例に採って説明する。また、この例では、
同じレシピで二つのロットが並行して処理されてゆく場
合を想定したスケジュールを例に採って説明する。
First, a procedure corresponding to the schedule creating program will be described with reference to the time chart shown in FIG. 3, but only a part of the recipe will be described as an example for easy understanding. Also, in this example,
An example of a schedule assuming a case where two lots are processed in parallel with the same recipe will be described.

【0033】具体的に処理について説明すると、第1ロ
ット(図3(a),(b)中に白色矩形で示す)の基板
WがステップS10で第2搬送処理部13により搬送さ
れ、ステップS11で純水洗浄処理を施した後、ステッ
プS12で薬液処理を施し、ステップS13で純水洗浄
処理を行なってからステップS14で乾燥処理部17に
より乾燥処理を施した後に、ステップS15で第2搬送
機構13により搬送するというものである。
Explaining the processing in detail, the substrates W in the first lot (shown by white rectangles in FIGS. 3A and 3B) are transferred by the second transfer processing unit 13 in step S10, and then in step S11. After performing the pure water cleaning process in step S12, the chemical solution process is performed in step S12, the pure water cleaning process is performed in step S13, and the drying process is performed by the drying processing unit 17 in step S14, and then the second transfer is performed in step S15. It is to be conveyed by the mechanism 13.

【0034】なお、説明の簡略化のために第3搬送機構
15と第1/第2副搬送機構25,33の動作について
は省略してある。
For simplification of description, the operations of the third transport mechanism 15 and the first / second sub-transport mechanisms 25 and 33 are omitted.

【0035】第1ロットの処理に並行して第2ロット
(図3(a),(b)中にハッチングした矩形で示す)
を同じレシピで処理するために、図3中に矢印で示すよ
うに「第2ロットの投入」時点で第2ロットを投入す
る。本実施例装置の場合には等価処理部が二つであるの
で、第2ロットがとり得るスケジュールは全部で二つで
ある。
In parallel with the processing of the first lot, the second lot (shown by hatched rectangles in FIGS. 3A and 3B)
In order to process the same with the same recipe, as shown by the arrow in FIG. 3, the second lot is added at the time of “input of the second lot”. In the case of the apparatus of this embodiment, since there are two equivalence processing units, there are two schedules in total for the second lot.

【0036】つまり、図3(a)に示すように、純水洗
浄処理部21で最初の純水洗浄処理(ステップS21)
が行なわれるように第2ロットを処理する場合と、図3
(b)に示すように、純水洗浄処理部29で最初の処理
が行なわれるように第2ロットを処理する場合とがあ
る。
That is, as shown in FIG. 3A, the first pure water cleaning processing is performed by the pure water cleaning processing section 21 (step S21).
And the case of processing the second lot as shown in FIG.
As shown in (b), the pure water cleaning processing unit 29 may process the second lot so that the first processing is performed.

【0037】なお、本実施例装置の場合には、その構成
上、第1副搬送機構25と第2副搬送機構33とは、そ
れぞれ自分の処理部19,27でだけしかロットの搬送
ができないので、第1処理部19側で最初の水洗を行な
った後に次の水洗を第2処理部27で行なったりするこ
とや、その逆は不可能である。また、水洗や薬液処理に
いずれかのロットがはいっている場合には、水洗から搬
出されるまでは次のロットをそのロットと同じ処理部
(第1/第2処理部19,27)には搬入することはで
きない。
In the case of the apparatus of this embodiment, due to its structure, the first sub-transport mechanism 25 and the second sub-transport mechanism 33 can transport the lot only by their own processing units 19 and 27, respectively. Therefore, it is impossible to perform the first water washing on the side of the first processing unit 19 and then the second water washing on the second processing unit 27, and vice versa. Also, if any lot is involved in washing or chemical treatment, the next lot is placed in the same processing unit (first / second processing unit 19, 27) as that lot until it is carried out from the washing process. It cannot be carried in.

【0038】まず、図3(a)に示す第1のスケジュー
ルでは、第1ロットのステップS13に並行するよう
に、第2ロットの基板WがステップS20で第2搬送処
理部13により搬送されて、ステップS21で純水洗浄
処理部21により純水洗浄処理を施した後、ステップS
22で薬液処理部23により薬液処理を施し、ステップ
S23で再び純水洗浄処理部21により純水洗浄処理を
行なってからステップS24で乾燥処理部17により乾
燥処理を施した後に、ステップS25で第2搬送機構1
3により搬送する。
First, in the first schedule shown in FIG. 3A, the second lot of substrates W are transported by the second transport processing unit 13 in step S20 in parallel with step S13 of the first lot. After performing the pure water cleaning processing by the pure water cleaning processing unit 21 in step S21,
In step 22, the chemical solution processing unit 23 performs chemical solution processing, in step S23 the pure water cleaning processing section 21 performs pure water cleaning processing again, and then in step S24, the drying processing section 17 performs drying processing. 2 Transport mechanism 1
Transport by 3.

【0039】次に、図3(b)に示す第2のスケジュー
ルでは、第1ロットのステップS11に並行するように
第2ロットの基板WがステップS20で第2搬送処理部
13により搬送され、ステップS21で純水洗浄処理部
29により純水洗浄処理を施した後、ステップS22で
薬液処理部31により薬液処理を施し、ステップS23
で再び純水洗浄処理部29により純水洗浄処理を行なっ
てからステップS24で乾燥処理部17により乾燥処理
を施した後に、ステップS25で第2搬送機構13によ
り搬送する。
Next, in the second schedule shown in FIG. 3B, the substrates W of the second lot are transported by the second transport processing unit 13 in step S20 in parallel with step S11 of the first lot. After the pure water cleaning processing unit 29 performs the pure water cleaning processing in step S21, the chemical liquid processing unit 31 performs the chemical liquid processing in step S22, and the step S23.
Then, the pure water cleaning processing unit 29 performs the pure water cleaning processing again, the drying processing is performed by the drying processing unit 17 in Step S24, and the second transportation mechanism 13 carries the cleaning processing in Step S25.

【0040】そして、これら二つのスケジュールを制御
部37が比較し、早く終了する方のスケジュール、つま
り図3(a)のスケジュールを採用するのである。この
ようにして採用されたスケジュールは、記憶部39に格
納され、実際にロットを処理する際に実行されるように
なっている。
Then, the control unit 37 compares these two schedules and adopts the schedule that finishes earlier, that is, the schedule shown in FIG. 3 (a). The schedule thus adopted is stored in the storage unit 39 and is executed when the lot is actually processed.

【0041】次に、図4を参照して、上述した状況とは
異なる状況でのスケジュール作成について説明する。こ
の状況においては、薬液処理部31において薬液交換に
伴う、定期的に実施されるメンテナンスMが行なわれる
ので、その間、薬液処理部31を使用することができな
いようになっている。
Next, with reference to FIG. 4, schedule creation in a situation different from the above situation will be described. In this situation, since the maintenance M is regularly performed in the chemical treatment unit 31 due to the chemical exchange, the chemical treatment unit 31 cannot be used during that period.

【0042】まず、図4(a)に示す第1のスケジュー
ルでは、第1ロットのステップS33に並行するよう
に、第2ロットの基板WがステップS40で第2搬送処
理部13により搬送されて、ステップS41で純水洗浄
処理部21により純水洗浄処理を施した後、ステップS
42で薬液処理部23により薬液処理を施し、ステップ
S43で再び純水洗浄処理部21により純水洗浄処理を
行なってからステップS44で乾燥処理部17により乾
燥処理を施した後に、ステップS45で第2搬送機構1
3により搬送する。
First, in the first schedule shown in FIG. 4A, the second lot of substrates W are transferred by the second transfer processing section 13 in step S40 in parallel with step S33 of the first lot. After performing the pure water cleaning processing by the pure water cleaning processing unit 21 in step S41,
In step 42, the chemical solution processing unit 23 performs chemical solution processing, in step S43 the pure water cleaning processing section 21 performs pure water cleaning processing again, and then in step S44, the drying processing section 17 performs drying processing, and then in step S45. 2 Transport mechanism 1
Transport by 3.

【0043】次に、図4(b)に示す第2のスケジュー
ルでは、第1ロットのステップS31に並行するように
第2ロットの基板WがステップS40で第2搬送処理部
13により搬送され、ステップS41で純水洗浄処理部
29により純水洗浄処理を施した後、薬液処理部31の
メンテナンスMが終了するまで待機wtする。そして、
メンテナンスMが終了した後、ステップS42で薬液処
理部31により薬液処理を施し、ステップS43で再び
純水洗浄処理部29により純水洗浄処理を行なってから
ステップS44で乾燥処理部17により乾燥処理を施し
た後に、ステップS45で第2搬送機構13により搬送
する。
Next, in the second schedule shown in FIG. 4B, the substrates W of the second lot are transported by the second transport processing unit 13 in step S40 in parallel with step S31 of the first lot. After the pure water cleaning processing unit 29 performs the pure water cleaning processing in step S41, the process waits until the maintenance M of the chemical liquid processing unit 31 is completed. And
After the maintenance M is completed, the chemical solution processing unit 31 performs chemical solution processing in step S42, the pure water cleaning processing unit 29 again performs pure water cleaning processing in step S43, and the drying processing unit 17 performs drying processing in step S44. After the application, the sheet is conveyed by the second conveying mechanism 13 in step S45.

【0044】このような状況においては、図4(a)の
方が早く終了するので、これがスケジュールとして記憶
部39に格納されることになる。
In such a situation, the process shown in FIG. 4A is completed earlier, and this is stored in the storage unit 39 as a schedule.

【0045】次に、図5を参照する。この状況では、レ
シピが上述したものとは多少異なり、第1ロットの乾燥
処理工程ステップS54,第2ロットの乾燥処理工程ス
テップS64が長く設定されているが、処理内容的には
上記のレシピと同じである。
Next, refer to FIG. In this situation, the recipe is slightly different from the one described above, and the drying processing step S54 for the first lot and the drying processing step S64 for the second lot are set to be long, but the contents of the processing are different from those of the above recipe. Is the same.

【0046】この場合には、ステップS50〜S55か
らなる第1ロットの処理に対して、ステップS60〜S
65からなる第2ロットの処理について全てのスケジュ
ールを作成すると、図5(a),(b)に示すようにい
ずれも終了時間が同じになる。このような場合に制御部
37が判断できずに処理が行き詰まることを防止するた
めに、記憶部39に判断ルールとして優先度が設定して
ある。例えば、「第1処理部19(純水洗浄処理部21
及び薬液処理部23)を優先する」と設定されている場
合には、図5(a)のスケジュールが選択されるのであ
る。
In this case, with respect to the processing of the first lot consisting of steps S50-S55, steps S60-S
When all schedules are created for the processing of the second lot consisting of 65, the end times are the same as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b). In such a case, the priority is set as a determination rule in the storage unit 39 in order to prevent the control unit 37 from making a determination and preventing the process from being stalled. For example, the “first processing unit 19 (pure water cleaning processing unit 21
And the chemical treatment unit 23) ”is set”, the schedule of FIG. 5A is selected.

【0047】このように実際にロットを処理する前に、
レシピに応じて使用可能な全ての等価処理部(純水洗浄
処理部21,29、薬液処理部29,31)を使用した
複数のスケジュールを作成する。そして、複数のスケジ
ュールを比較し、ロットの払い出しが最も早いスケジュ
ールを採用して、等価処理部の使用予定を考慮すること
により、ロットの払い出しを確実に早くすることができ
てスループットを向上させることができるのである。
Before actually processing the lot in this way,
A plurality of schedules using all equivalent processing units (pure water cleaning processing units 21, 29, chemical liquid processing units 29, 31) that can be used according to the recipe are created. Then, by comparing multiple schedules and adopting the schedule with the earliest lot payout, and considering the usage schedule of the equivalent processing unit, the lot payout can be surely speeded up and throughput is improved. Can be done.

【0048】また、各等価処理部において各々定期的に
実施されるメンテナンスを考慮するようにしているの
で、メンテナンスの時期であっても同様の効果を得るこ
とが可能である。
Further, since the maintenance performed regularly in each equivalent processing unit is taken into consideration, the same effect can be obtained even at the time of maintenance.

【0049】さらに、優先度が高い方の等価処理部を使
用するスケジュールを採用するルールの適用により、複
数のスケジュールにおいて終了時間が同じになってもス
ケジュール作成が行き詰まることを防止できる。
Further, by applying the rule adopting the schedule using the equivalent processing unit having the higher priority, it is possible to prevent the schedule creation from being stalled even if the end times are the same in a plurality of schedules.

【0050】なお、上記の説明においては理解の容易の
ために、水洗及び薬液処理に係るレシピの一部だけを例
に採って説明した。本発明は、予め処理の前にスケジュ
ールを作成してから実際の処理を行なうのであれば適用
可能であるが、そのなかでも次のようなスケジュール作
成方法が好適である。
In the above description, for ease of understanding, only a part of the recipes relating to washing and chemical treatment has been described as an example. The present invention can be applied if a schedule is created in advance before processing and then actual processing is performed. Among them, the following schedule creation method is preferable.

【0051】すなわち、基板に処理を施すための処理部
を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処
理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づい
て各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロ
ットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール
作成方法において、いずれかのロットについて最初の処
理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のう
ち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早
いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置す
るのである。
That is, when a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus having a plurality of processing units for processing a substrate, each lot is sequentially processed by each processing unit based on a recipe including a plurality of processing steps. In the method of creating a schedule for a substrate processing apparatus that determines the processing order of each lot for processing, after arranging the first processing step for any lot, the next processing step of each lot The processing step for the lot having the earliest scheduled end time in the processing step is arranged as the next processing step.

【0052】この方法における処理工程とは、上述した
第1ロットの第2搬送機構13における処理と、純水洗
浄処理部21における水洗処理とを含む工程や、薬液処
理部23における処理と、純水洗浄処理部21における
水洗処理とを含む工程や、乾燥処理部17における乾燥
処理と、第2搬送機構13による搬送処理とを含む工程
である。
The processing steps in this method include the steps including the above-described processing in the second transport mechanism 13 for the first lot and the rinsing processing in the pure water cleaning processing section 21, the processing in the chemical solution processing section 23, and the pure processing. These are a process including a water washing process in the water washing processing unit 21, a drying process in the drying treatment unit 17, and a carrying process by the second carrying mechanism 13.

【0053】この方法によれば、予めスケジュールする
ことで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前
作業とを重複させて配置することができるとともに、配
置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロッ
トの処理工程を次の処理工程として選択して配置するこ
とで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮するこ
とができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効
利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率
を向上することができる。
According to this method, it is possible to arrange the post-work of the previous processing step and the pre-work of the subsequent processing step in an overlapping manner by pre-scheduling, and to arrange the pre-processing of the process steps that can be arranged. By selecting and arranging the processing step of the lot whose processing step ends early as the next processing step, the time until the completion of the next processing step can be shortened. Therefore, since the processing unit of the substrate processing apparatus can be effectively used, the standby time can be suppressed and the operating rate can be improved.

【0054】なお、本発明は上記の実施形態に限定され
るものではなく、以下のように変形実施が可能である。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be modified as follows.

【0055】(1)上記の例では、基板処理装置が等価
処理部を二つ備えた例を示したが、3つ以上備えている
基板処理装置であってもよい。
(1) In the above example, the substrate processing apparatus has two equivalent processing units, but the substrate processing apparatus may have three or more equivalent processing units.

【0056】(2)本発明は基板処理装置であればどの
ような処理を施す装置であっても適用することができ
る。例えば、基板に対してフォトレジスト被膜を被着す
る装置や、基板の表面に導電膜を被着するエッチング装
置などであってもよい。このような場合における等価処
理部とは、例えば、塗布処理部やエッチング処理部など
である。
(2) The present invention can be applied to any apparatus that performs any processing as long as it is a substrate processing apparatus. For example, an apparatus that deposits a photoresist film on the substrate, an etching apparatus that deposits a conductive film on the surface of the substrate, or the like may be used. The equivalent processing unit in such a case is, for example, a coating processing unit or an etching processing unit.

【0057】[0057]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、実際にロットを処理する前
に、使用可能な等価処理部を使用した複数のスケジュー
ルを作成する。そして、複数のスケジュールを比較し、
ロットの払い出しが最も早いスケジュールを採用して、
等価処理部の使用予定を考慮することにより、ロットの
払い出しを確実に早くすることができてスループットを
向上させることができる。
As is apparent from the above description, according to the invention described in claim 1, a plurality of schedules using usable equivalent processing units are created before actually processing a lot. And compare multiple schedules,
Adopting the earliest schedule for lot payout,
By considering the usage schedule of the equivalence processing unit, it is possible to surely speed up the lot payout and improve the throughput.

【0058】請求項2に記載の発明によれば、各等価処
理部において各々定期的に実施されるメンテナンスが考
慮されるので、メンテナンスの時期であっても同様の効
果を得ることが可能である。
According to the second aspect of the present invention, since the maintenance regularly performed in each equivalent processing unit is taken into consideration, it is possible to obtain the same effect even at the maintenance time. .

【0059】請求項3に記載の発明によれば、優先度が
高い方の等価処理部を使用するスケジュールを採用する
ことにより、スケジュール作成が行き詰まることを防止
できる。
According to the third aspect of the present invention, it is possible to prevent the schedule from being stalled by adopting the schedule using the equivalent processing unit having the higher priority.

【0060】請求項4に記載の発明によれば、純水洗浄
処理部を等価処理部として備えた基板処理装置において
スケジュール作成が可能である。
According to the fourth aspect of the invention, the schedule can be created in the substrate processing apparatus having the pure water cleaning processing unit as the equivalent processing unit.

【0061】請求項5に記載の発明によれば、薬液処理
部を等価処理部として備えた基板処理装置においてスケ
ジュール作成が可能である。
According to the fifth aspect of the invention, it is possible to create a schedule in the substrate processing apparatus having the chemical solution processing section as the equivalent processing section.

【0062】請求項6に記載の発明によれば、プログラ
ムとして上記請求項1と同様の効果を奏する。
According to the invention described in claim 6, as a program, the same effect as in claim 1 can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す平
面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment.

【図2】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブ
ロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment.

【図3】スケジュール作成の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of schedule creation.

【図4】スケジュール作成の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of schedule creation.

【図5】スケジュール作成の一例を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an example of schedule creation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 … カセット 3 … 投入部 5 … 載置台 11 … 第1搬送機構 13 … 第2搬送機構 15 … 第3搬送機構 17 … 乾燥処理部 19 … 第1処理部 21 … 純水洗浄処理部(処理部、等価処理部) 23 … 薬液処理部(処理部、等価処理部) 25 … 第1副搬送機構 27 … 第2処理部 29 … 純水洗浄処理部(処理部、等価処理部) 31 … 薬液処理部(処理部、等価処理部) 33 … 第2副搬送機構 37 … 制御部 39 … 記憶部 1 ... Cassette 3 ... Input section 5… Mounting table 11 ... First transport mechanism 13 ... Second transport mechanism 15 ... Third transport mechanism 17 ... Drying processing section 19 ... First processing unit 21 ... Pure water cleaning processing section (processing section, equivalent processing section) 23 ... Chemical processing unit (processing unit, equivalent processing unit) 25 ... First sub-transport mechanism 27 ... Second processing unit 29 ... Pure water cleaning processing section (processing section, equivalent processing section) 31 ... Chemical processing unit (processing unit, equivalent processing unit) 33 ... Second sub-transport mechanism 37 ... Control unit 39 ... Storage unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河合 淳 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 赤尾 喜代志 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 堀口 修 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA01 AB13 AB44 BB92 BB93 CB11 CC11 CD43 3C100 AA05 AA16 AA63 BB13 EE06   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Jun Kawai             4-chome Tenjin, which runs up to Teranouchi, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto             1 Kitamachi No. 1 Dai Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd.             Inside the company (72) Inventor Kiyoshi Akao             4-chome Tenjin, which runs up to Teranouchi, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto             1 Kitamachi No. 1 Dai Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd.             Inside the company (72) Inventor Osamu Horiguchi             4-chome Tenjin, which runs up to Teranouchi, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto             1 Kitamachi No. 1 Dai Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd.             Inside the company F term (reference) 3B201 AA01 AB13 AB44 BB92 BB93                       CB11 CC11 CD43                 3C100 AA05 AA16 AA63 BB13 EE06

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板に対して略同じ処理を施すことがで
きる処理部を等価処理部とし、この等価処理部を複数個
備えた基板処理装置によって複数のロットを処理する際
に、各ロットが使用する等価処理部を選択する基板処理
装置のスケジュール作成方法において、 各ロットに対する処理を実際に開始するのに先立ち予め
スケジュールを作成する際に、 あるロットの投入時に、使用可能な等価処理部を使用し
た複数のスケジュールを作成し、その中で最も早く終了
するスケジュールを採用することを特徴とする基板処理
装置のスケジュール作成方法。
1. A processing unit capable of performing substantially the same processing on a substrate is an equivalent processing unit, and when a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus including a plurality of the equivalent processing units, each lot In the method of creating a schedule for a substrate processing apparatus that selects the equivalent processing unit to be used, when creating a schedule in advance before actually starting the processing for each lot, select the equivalent processing unit that can be used when a certain lot is input. A method of creating a schedule for a substrate processing apparatus, characterized in that a plurality of used schedules are created, and a schedule that finishes first among them is adopted.
【請求項2】 請求項1に記載の基板処理装置のスケジ
ュール作成方法において、 前記各等価処理部で各々定期的に実施されるメンテナン
スを考慮することを特徴とする基板処理装置のスケジュ
ール作成方法。
2. The method of creating a schedule for a substrate processing apparatus according to claim 1, wherein maintenance performed regularly in each of the equivalent processing units is taken into consideration.
【請求項3】 請求項1または2に記載の基板処理装置
のスケジュール作成方法において、 前記複数個の等価処理部に優先度を設定しておき、 作成した複数のスケジュールの終了時間が同じになった
場合には、優先度が高い方の等価処理部を使用するスケ
ジュールを採用することを特徴とする基板処理装置のス
ケジュール作成方法。
3. The method of creating a schedule for a substrate processing apparatus according to claim 1, wherein priorities are set for the plurality of equivalent processing units, and the end times of the created plurality of schedules are the same. In this case, the method for creating a schedule for a substrate processing apparatus is characterized in that a schedule using an equivalent processing unit having a higher priority is adopted.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかに記載の基
板処理装置のスケジュール作成方法において、 前記複数個の等価処理部の一つは、純水洗浄処理部であ
ることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方
法。
4. The method for creating a schedule of a substrate processing apparatus according to claim 1, wherein one of the plurality of equivalent processing units is a pure water cleaning processing unit. A method for creating a schedule for a processing device.
【請求項5】 請求項1ないし3のいずれかに記載の基
板処理装置のスケジュール作成方法において、 前記複数個の等価処理部の一つは、薬液処理部であるこ
とを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
5. The method of creating a schedule for a substrate processing apparatus according to claim 1, wherein one of the plurality of equivalent processing units is a chemical solution processing unit. How to create a schedule.
【請求項6】 基板に対して略同じ処理を施すことがで
きる処理部を等価処理部とし、この等価処理部を複数個
備えた基板処理装置によって複数のロットを処理する際
に、各ロットが使用する等価処理部を選択する基板処理
装置のスケジュール作成プログラムにおいて、 各ロットに対する処理を実際に開始するのに先立ち予め
スケジュールを作成する際に、 あるロットの投入時に、使用可能な等価処理部を使用し
た複数のスケジュールを作成し、その中で最も早く終了
するスケジュールを採用するようにコンピュータを制御
することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成
プログラム。
6. A processing unit capable of performing substantially the same processing on a substrate is an equivalent processing unit, and when a plurality of lots are processed by a substrate processing apparatus having a plurality of the equivalent processing units, each lot In the schedule creation program of the substrate processing apparatus that selects the equivalent processing unit to be used, when creating a schedule in advance before actually starting the processing for each lot, select the equivalent processing unit that can be used when a certain lot is input. A schedule creation program for a substrate processing apparatus, which creates a plurality of used schedules and controls a computer so as to adopt the schedule that finishes the earliest.
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