JP2009238916A - Scheduling method and program of substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent excessive processing to a lot by performing scheduling while considering maintenance at a safety processing section. <P>SOLUTION: When maintenance M1 is performed at a drying processing section LPD, the use of a virtual resource VIL can excluded for a series of processing processes P2-P5, thus preventing the resources of a chemical liquid processing section CHB1 from being used in parallel with the maintenance M1 of the drying processing section LPD and hence preventing excessive processing to a lot even if the maintenance M1 at the drying processing section LPD is extended timewise. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板(以下、単に基板と称する)に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに関する。   The present invention relates to a schedule creation method for a substrate processing apparatus for performing a predetermined process on a glass substrate (hereinafter simply referred to as a substrate) for a semiconductor wafer or a liquid crystal display device, and a program therefor.

従来、この種の方法として、例えば、薬液処理部、純水洗浄処理部、乾燥処理部などの処理部とこれらの間でロットの搬送を行ってロットに処理を行う基板処理装置において、処理を開始する前に予めスケジュールを作成してから、そのスケジュールにしたがって実際の処理を開始するものがある。   Conventionally, as a method of this type, for example, in a processing unit such as a chemical solution processing unit, a pure water cleaning processing unit, a drying processing unit, and a substrate processing apparatus that performs processing on a lot by transferring a lot between them, There is one in which a schedule is created in advance before starting, and then actual processing is started according to the schedule.

このような基板処理装置のスケジュール方法としては、レシピに応じて各ロットの処理工程を配置するが、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットのうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を配置するものが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。このような方法では、前詰めで処理工程を配置するので、待機時間を抑制でき、装置の稼働率を向上できる。   As a schedule method for such a substrate processing apparatus, the processing steps of each lot are arranged according to the recipe, but after the first processing step is arranged for any lot, each previous processing of each lot is processed. There is one that arranges a processing step for a lot with the earliest scheduled end time in the step (for example, see Patent Document 1). In such a method, since the processing steps are arranged in front-packing, standby time can be suppressed and the operating rate of the apparatus can be improved.

ところで、処理部には、例えば、装置異常が発生した場合であってもロットをそこで待機させることができるものと、待機させることができないものの二種類がある。例えば、薬液処理部は、薬液による過剰処理がロットに生じる関係上、ロットを待機させることができないが、乾燥処理部は、そのような問題が生じないので、ロットを待機させることができる。前者を非安全処理部と称し、後者を安全処理部と称する。   By the way, there are two types of processing units, for example, those in which a lot can be made to wait even if an apparatus abnormality occurs and those that cannot be made to wait. For example, the chemical processing unit cannot wait for the lot because excessive processing by the chemical occurs in the lot, but the drying processing unit does not cause such a problem, and therefore can wait for the lot. The former is referred to as a non-safe processing unit, and the latter is referred to as a safety processing unit.

上記のような非安全処理部と、安全処理部と、ロットを搬送する搬送部とを備えた基板処理装置では、搬送部同士が干渉する空間をリソースとして定義して、搬送部が移動する場合には、そのリソースも同時に使用することを考慮してスケジュールするものがある(例えば、特許文献2参照)。このような方法では、一方の搬送部が使用される場合には、他方の搬送部が干渉空間を使用することができないので、そのタイミングで搬送が行われないように非安全処理部における処理工程を配置することになるので、非安全処理部で処理されるロットに対する過剰処理の発生を防止できる。
特許第3758992号公報 特開2003−31453号公報
In the substrate processing apparatus including the non-safe processing unit, the safety processing unit, and the transport unit that transports the lot as described above, a space where the transport units interfere with each other is defined as a resource, and the transport unit moves. In some cases, scheduling is performed in consideration of simultaneous use of the resources (see, for example, Patent Document 2). In such a method, when one transport unit is used, since the other transport unit cannot use the interference space, the processing steps in the non-safe processing unit are performed so that the transport is not performed at that timing. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of excessive processing for the lot processed by the non-safe processing unit.
Japanese Patent No. 3758992 JP 2003-31453 A

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、安全処理部によっては所定時間ごとあるいは所定の使用回数ごとにメンテナンスを行う必要があるので、スケジュールにおいてメンテナンスを配置する必要が生じる。メンテナンスとしては、例えば、乾燥処理部の内部洗浄がある。
However, the conventional example having such a configuration has the following problems.
That is, depending on the safety processing unit, it is necessary to perform maintenance every predetermined time or every predetermined number of times of use, so that it is necessary to arrange maintenance in the schedule. Maintenance includes, for example, internal cleaning of the drying processing unit.

従来の方法では、搬送部による干渉空間を考慮してスケジュールを行っているが、安全処理部においてメンテナンスを配置するスケジュールを行った場合、そのメンテナンスに並行的に非安全処理部における処理を配置し、かつそのメンテナンスが終了した後に、並行的に配置された非安全処理部からメンテナンスを終えた安全処理部にロットを移動するようにスケジュールしている。そのため、何らかの原因により、そのメンテナンスが長引いた場合には、ロットが非安全処理部から安全処理部に移動することができず、そのロットに対して非安全処理部において過剰処理が行われることがあるという問題がある。   In the conventional method, the schedule is performed in consideration of the interference space by the transport unit. However, when the schedule for placing maintenance in the safety processing unit is performed, processing in the non-safe processing unit is placed in parallel with the maintenance. In addition, after the maintenance is completed, the lot is moved from the non-safe processing unit arranged in parallel to the safety processing unit that has completed the maintenance. Therefore, if the maintenance is prolonged for some reason, the lot cannot be moved from the non-safe processing unit to the safe processing unit, and the lot may be excessively processed in the non-safe processing unit. There is a problem that there is.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、安全処理部におけるメンテナンスを考慮してスケジューリングすることにより、ロットに対する過剰処理を防止することができる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and a scheduling method for a substrate processing apparatus capable of preventing excessive processing for a lot by scheduling in consideration of maintenance in a safety processing unit, and The purpose is to provide the program.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板を待機させることが可能な安全処理部と、基板を待機させることが不可能な非安全処理部とを含む処理部を備えた基板処理装置により、制御部が各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、ロットによる各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、安全処理部に対するメンテナンスに相当するリソースと、非安全処理部による処理に続いて安全処理部による処理を行う一連の処理に相当するリソースとで共通の仮想リソースを定義する過程と、安全処理部のリソースをメンテナンスで使用する場合には、安全処理部のリソースを使用するとともに前記仮想リソースを使用する過程と、非安全処理部と安全処理部のリソースをその順に使用する場合には、非安全処理部と安全処理部のリソースを使用するとともに前記仮想リソースを使用する過程と、仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定する過程と、を備えていることを特徴とするものである。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, the invention according to claim 1 is a substrate processing apparatus including a processing unit including a safety processing unit capable of waiting a substrate and a non-safe processing unit capable of waiting a substrate. When the control unit processes a plurality of lots using the resources of each processing unit, in the substrate processing apparatus schedule creation method for determining the use timing of each resource by the lot, the resource corresponding to the maintenance for the safety processing unit In the process of defining a common virtual resource with a resource corresponding to a series of processing that performs processing by the safety processing unit following processing by the non-safe processing unit, and when using the resource of the safety processing unit in maintenance, The process of using the resources of the safety processing unit and the virtual resource, and the resources of the non-safe processing unit and the safety processing unit in that order Use the resources of the non-safe processing unit and the safety processing unit, use the virtual resource, and determine the use timing of each resource by eliminating duplication of virtual resources. It is characterized by that.

[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、制御部は、非安全処理部と安全処理部による一連の処理においてリソースを使用する場合には、それらのリソースを使用するとともに、それらにわたって仮想リソースも使用する。さらに、安全処理部のメンテナンスを行う場合には、安全処理部のリソースを使用するとともに、仮想リソースも同時に使用する。そして、仮想リソースの重複がないように各リソースの使用タイミングを決めてゆく。したがって、安全処理部にてメンテナンスが行われる場合には、仮想リソースの使用を一連の処理に対して排他することができるので、安全処理部のメンテナンスに並行して非安全処理部のリソースが使用されることを防止できる。その結果、安全処理部におけるメンテナンスが時間的に後ろに延びた場合であっても、非安全処理部におけるロットに対する過剰処理を防止することができる。   [Operation / Effect] According to the invention described in claim 1, when the control unit uses resources in a series of processes by the non-safety processing unit and the safety processing unit, the control unit uses these resources and uses them. Also use virtual resources. Furthermore, when performing maintenance of the safety processing unit, the resources of the safety processing unit are used and the virtual resources are also used at the same time. Then, the use timing of each resource is determined so that there is no duplication of virtual resources. Therefore, when maintenance is performed in the safety processing unit, the use of virtual resources can be excluded from a series of processes, so resources in the non-safe processing unit are used in parallel with maintenance of the safety processing unit. Can be prevented. As a result, even if the maintenance in the safety processing unit extends backward in time, excessive processing on the lot in the non-safe processing unit can be prevented.

なお、本発明における「リソース」(resource)とは、純水洗浄処理部、薬液処理部、乾燥処理部、塗布処理部、メッキ処理部、エッチング処理部、基板を搬送する搬送部、基板の姿勢を変換する姿勢変換部などのことを示す。   The “resource” in the present invention refers to a pure water cleaning processing unit, a chemical processing unit, a drying processing unit, a coating processing unit, a plating processing unit, an etching processing unit, a transporting unit that transports a substrate, and a posture of the substrate. This indicates a posture conversion unit that converts.

本発明において、前記安全処理部は、ロットに対して乾燥処理を行う乾燥処理部であり、前記非安全処理部は、ロットに対して薬液による処理を行う薬液処理部であることが好ましい(請求項2)。乾燥処理部は、内部を清浄にする等の理由によりメンテナンスが行われるが、その時間が予定より長引いたとしても、ロットが薬液処理部を使用中に待機時間が生じて、薬液によってロットに対して過剰処理が生じることを防止できる。   In the present invention, it is preferable that the safety processing unit is a drying processing unit that performs a drying process on a lot, and the non-safety processing unit is a chemical processing unit that performs processing with a chemical on a lot (claim). Item 2). Although the drying processing unit is maintained for reasons such as cleaning the inside, even if the time is longer than planned, a waiting time occurs while the lot is using the chemical processing unit, Over-treatment can be prevented.

また、本発明において、前記制御部は、各処理部が安全処理部であるか非安全処理部であるかを記述した定義ファイルを参照して、処理部ごとに仮想リソースを定義することが好ましい(請求項3)。制御部は、定義ファイルを参照することで、各処理部が安全処理部か非安全処理部であるかを判断することができる。   In the present invention, it is preferable that the control unit defines a virtual resource for each processing unit with reference to a definition file that describes whether each processing unit is a safety processing unit or a non-safe processing unit. (Claim 3). The control unit can determine whether each processing unit is a safety processing unit or a non-safe processing unit by referring to the definition file.

本発明に係る基板処理装置のスケジュール作成方法によれば、制御部は、仮想リソースの重複がないように各リソースの使用タイミングを決めてゆく。したがって、安全処理部にてメンテナンスが行われる場合には、仮想リソースの使用を一連の処理に対して排他することができるので、安全処理部のメンテナンスに並行して非安全処理部のリソースが使用されることを防止できる。その結果、安全処理部におけるメンテナンスが時間的に後ろに延びた場合であっても、ロットに対する過剰処理を防止することができる。   According to the schedule creation method for a substrate processing apparatus according to the present invention, the control unit determines the use timing of each resource so that there is no duplication of virtual resources. Therefore, when maintenance is performed in the safety processing unit, the use of virtual resources can be excluded from a series of processes, so resources in the non-safe processing unit are used in parallel with maintenance of the safety processing unit. Can be prevented. As a result, even if the maintenance in the safety processing unit extends backward in time, excessive processing on the lot can be prevented.

以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図1は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図2は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment, and FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of the substrate processing apparatus according to the embodiment.

この基板処理装置は、例えば、基板Wに対して薬液処理及び洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Wは、複数枚(例えば25枚)がカセット1に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Wを収納したカセット1は、投入部3に載置される。投入部3は、カセット1を載置される載置台5を二つ備えている。投入部3に隣接する位置には、払出部7が備えられている。この払出部7は、処理済の基板Wをカセット1に収納してカセット1ごと払い出す。この払出部7は、投入部3と同様に、カセット1を載置するための二つの載置台9を備えている。   This substrate processing apparatus is an apparatus for performing chemical liquid processing, cleaning processing, and drying processing on the substrate W, for example. A plurality of substrates (for example, 25 substrates) are stored in a standing posture with respect to the cassette 1. The cassette 1 storing the unprocessed substrates W is placed on the input unit 3. The input unit 3 includes two mounting tables 5 on which the cassette 1 is mounted. A payout unit 7 is provided at a position adjacent to the input unit 3. The dispensing unit 7 stores the processed substrate W in the cassette 1 and dispenses the cassette 1 together. Similar to the loading unit 3, the payout unit 7 includes two mounting tables 9 for mounting the cassette 1.

投入部3と払出部7に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第1搬送機構CTCが設けられている。第1搬送機構CTCは、投入部3に載置されたカセット1に収納されている全ての基板Wを取り出した後、第2搬送機構WTRに対して搬送する。また、第1搬送機構CTCは、第2搬送機構WTRから処理済みの基板Wを受け取った後に、基板Wをカセット1に収納する。また、第2搬送機構WTRは、基板処理装置の長手方向に沿って移動可能に構成されている。   A first transport mechanism CTC configured to be movable between these is provided at a position along the input unit 3 and the payout unit 7. The first transport mechanism CTC takes out all the substrates W stored in the cassette 1 placed on the input unit 3 and then transports them to the second transport mechanism WTR. The first transport mechanism CTC stores the processed substrate W from the second transport mechanism WTR and then stores the substrate W in the cassette 1. The second transport mechanism WTR is configured to be movable along the longitudinal direction of the substrate processing apparatus.

第2搬送機構WTRの移動方向における最も手前側には、複数枚の基板Wを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部LPDが設けられている。   A drying processing unit LPD for storing a plurality of substrates W in a low-pressure chamber and drying them is provided on the most front side in the moving direction of the second transport mechanism WTR.

第2搬送機構WTRの移動方向であって乾燥処理部LPDに隣接する位置には、第1処理部19が配設されている。この第1処理部19は、複数枚の基板Wに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部ONB1を備えているとともに、複数枚の基板Wに対して薬液を含む処理液によって薬液処理を施すための薬液処理部CHB1を備えている。また、第1処理部19は、第2搬送機構WTRとの間で基板Wを受け渡すとともに、純水洗浄処理部ONB1でのみ昇降可能なリフタLF1と、第2搬送機構WTRとの間で基板Wを受け渡すとともに、薬液処理部CHB1でのみ移動可能なリフタLF2を備えている。   A first processing unit 19 is disposed at a position adjacent to the drying processing unit LPD in the moving direction of the second transport mechanism WTR. The first processing unit 19 includes a pure water cleaning processing unit ONB1 for performing a pure water cleaning process on a plurality of substrates W, and a processing liquid containing a chemical solution for the plurality of substrates W. A chemical treatment unit CHB1 for performing chemical treatment is provided. Further, the first processing unit 19 delivers the substrate W to and from the second transport mechanism WTR, and the substrate between the lifter LF1 that can be lifted and lowered only by the pure water cleaning processing unit ONB1 and the second transport mechanism WTR. A lifter LF2 is provided which can transfer only W and can be moved only by the chemical treatment unit CHB1.

第1処理部19に隣接した位置には、第2処理部21が設けられ、第2処理部21に隣接した位置には、第3処理部23が設けられている。第2処理部21は、上述した第1処理部19と同様の構成である。つまり、純水洗浄処理部ONB2と薬液処理部CHB2とリフタLF3,LF4とを備えている。また、同様に、第3処理部23は、純水洗浄処理部ONB3と薬液処理部CHB3とリフタLF5,LF6とを備えている。   A second processing unit 21 is provided at a position adjacent to the first processing unit 19, and a third processing unit 23 is provided at a position adjacent to the second processing unit 21. The second processing unit 21 has the same configuration as the first processing unit 19 described above. That is, the apparatus includes a pure water cleaning processing unit ONB2, a chemical solution processing unit CHB2, and lifters LF3 and LF4. Similarly, the third processing unit 23 includes a pure water cleaning processing unit ONB3, a chemical solution processing unit CHB3, and lifters LF5 and LF6.

上記のように構成された基板処理装置は、図2のブロック図に示すように制御部31によって統括的に制御される。なお、制御部31が本発明におけるコンピュータに相当する。   The substrate processing apparatus configured as described above is comprehensively controlled by the control unit 31 as shown in the block diagram of FIG. The control unit 31 corresponds to the computer in the present invention.

制御部31は、CPUやタイマ等を備え、スケジューリング部33と、仮想リソース処理部34と、処理実行指示部35とを備えている。制御部31に接続されている記憶部37は、この基板処理装置のユーザなどによって予め作成され、基板Wをどのようにして処理するかを規定した複数の処理工程を含むレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラムと、後述する定義ファイルなどが予め格納されている。   The control unit 31 includes a CPU, a timer, and the like, and includes a scheduling unit 33, a virtual resource processing unit 34, and a process execution instruction unit 35. A storage unit 37 connected to the control unit 31 is prepared in advance by a user of the substrate processing apparatus, and includes a recipe including a plurality of processing steps that define how to process the substrate W, and a schedule generation program And a processing program for executing the created schedule, a definition file to be described later, and the like are stored in advance.

スケジューリング部33は、カセット1に収納されて投入部3に載置された複数枚の基板Wを一つのロットとして取り扱い、装置のオペレータによって指示された、記憶部37に予め記憶されているレシピに応じて、実際に処理を開始する前に、ロット毎の処理工程を時系列的に効率よく配置できるようにスケジュールを作成する。作成されたスケジュールは、記憶部37に格納される。なお、スケジュールを作成する際には、後述する仮想リソースを考慮する。   The scheduling unit 33 handles a plurality of substrates W stored in the cassette 1 and placed on the input unit 3 as one lot, and stores the recipe stored in advance in the storage unit 37 instructed by the operator of the apparatus. Accordingly, before actually starting processing, a schedule is created so that processing steps for each lot can be efficiently arranged in time series. The created schedule is stored in the storage unit 37. Note that when creating a schedule, virtual resources described later are taken into consideration.

仮想リソース処理部34は、装置の処理部ごとに安全処理部であるか非安全処理部であるかを記述した定義ファイルを参照し、安全処理部にあたる処理部のメンテナンスと、安全処理部を含む一連の処理工程について仮想リソースを追加する。なお、安全処理部とは、基板を待機させることができる処理部であり、非安全処理部とは、基板を待機させることができない処理部のことをいう。具体的には、安全処理部として乾燥処理部LPDや純水洗浄処理部ONB1〜3があり、非安全処理部として薬液処理部CHB1〜CHB3がある。この例では、乾燥処理部LPDにおけるメンテナンスに対して仮想リソースVILが定義されるものとする。   The virtual resource processing unit 34 refers to a definition file that describes whether each processing unit of the device is a safety processing unit or a non-safe processing unit, and includes maintenance of the processing unit corresponding to the safety processing unit and a safety processing unit. Add virtual resources for a series of processing steps. Note that the safety processing unit is a processing unit that can make a substrate stand by, and the non-safe processing unit means a processing unit that cannot make a substrate stand by. Specifically, there are dry processing units LPD and pure water cleaning processing units ONB1 to 3 as safety processing units, and chemical solution processing units CHB1 to CHB3 as non-safety processing units. In this example, it is assumed that a virtual resource VIL is defined for maintenance in the drying processing unit LPD.

なお、ここでいうリソースとは、第1搬送機構CTC、第2搬送機構WTR、乾燥処理部LPD、純水洗浄処理部ONB1〜3、薬液処理部CHB1〜3など、制御部31の制御の下でロットの処理のために使用される資源をいう。また、ここでいう仮想リソースとは、第1搬送機構CTCなどの処理部の実体とは相違し、実体はないものの仮想的に存在するものとして取り扱うためのリソースである。この実施例では、安全処理部にあたる乾燥処理部LPDにおけるメンテナンスに相当するリソースと、第2搬送機構WTRと、薬液処理部CHB1(〜3)と、第2搬送機構WTRと、乾燥処理部LPDとによる一連の処理に相当するリソースとで共通するリソースとして仮想リソースVILを定義している。   The resources referred to here are under the control of the control unit 31, such as the first transport mechanism CTC, the second transport mechanism WTR, the drying processing unit LPD, the pure water cleaning processing units ONB1 to 3 and the chemical solution processing units CHB1 to 3. Refers to resources used for lot processing. Further, the virtual resource here is a resource that is treated as being virtually present although there is no entity, unlike the entity of the processing unit such as the first transport mechanism CTC. In this embodiment, the resources corresponding to the maintenance in the drying processing unit LPD corresponding to the safety processing unit, the second transport mechanism WTR, the chemical processing unit CHB1 (˜3), the second transport mechanism WTR, and the drying processing unit LPD A virtual resource VIL is defined as a resource that is common to resources corresponding to a series of processes according to.

処理実行指示部35は、スケジューリング部33によって作成されて、記憶部37に格納されているスケジュールに基づいて、適切なタイミングで各処理部などの処理に係る動作を指示する。   The process execution instructing unit 35 instructs an operation related to the processing of each processing unit at an appropriate timing based on the schedule created by the scheduling unit 33 and stored in the storage unit 37.

次に、具体的なスケジューリングについて、図3〜8を参照して説明する。なお、図3は、スケジュール動作を示すフローチャートであり、図4は、単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートであり、図5は、メンテナンスを示すタイムチャートであり、図6は、単バッチに仮想リソースを追加した例を示すタイムチャートであり、図7は、メンテナンスに仮想リソースを追加した例を示すタイムチャートであり、図8は、全体のスケジュールを行った例を示すタイムチャートである。   Next, specific scheduling will be described with reference to FIGS. 3 is a flowchart showing the schedule operation, FIG. 4 is a time chart showing an example of a single batch schedule, FIG. 5 is a time chart showing maintenance, and FIG. 6 is a virtual diagram for a single batch. FIG. 7 is a time chart illustrating an example in which resources are added, FIG. 7 is a time chart illustrating an example in which virtual resources are added to maintenance, and FIG. 8 is a time chart illustrating an example in which an overall schedule is performed.

以下においては、説明の理解を容易にするために、単一のロットのみをスケジュールする場合を例に採って説明するが、複数のロットについても同様にしてスケジューリングすることができる。   In the following, in order to facilitate understanding of the description, a case where only a single lot is scheduled will be described as an example. However, a plurality of lots can be similarly scheduled.

また、この例におけるレシピは、例えば、図4に示すようになものであるとする。
すなわち、処理工程P1は、第1搬送機構CTC(リソースa)による搬送処理であり、処理工程P2は、例えば、第2搬送機構WTR(リソースb)による搬送処理であり、処理工程P3は、例えば、薬液処理部CHB1(リソースc)による薬液処理であり、処理工程P4は、例えば、第2搬送機構WTR(リソースb)による搬送処理であり、処理工程P5は、乾燥処理部LPD(リソースd)による乾燥処理であり、処理工程P6は、第2搬送機構WTR(リソースb)による搬送処理であり、処理工程P7は、第1搬送機構CTC(リソースa)による搬送処理である。また、各処理工程P1〜P7において、ハッチングした部分の前にあたる部分は、リソースを使用するための準備にあたる前作業であり、ハッチングした部分の後ろにあたる部分は、使用したリソースの片付けにあたる後作業である。なお、リソースfは、仮想リソースVILである。
In addition, it is assumed that the recipe in this example is as shown in FIG.
That is, the process step P1 is a transfer process by the first transfer mechanism CTC (resource a), the process step P2 is a transfer process by the second transfer mechanism WTR (resource b), and the process step P3 is, for example, The chemical processing by the chemical processing unit CHB1 (resource c), the processing step P4 is, for example, the transport processing by the second transport mechanism WTR (resource b), and the processing step P5 is the drying processing unit LPD (resource d). The process P6 is a transport process by the second transport mechanism WTR (resource b), and the process process P7 is a transport process by the first transport mechanism CTC (resource a). Further, in each of the processing steps P1 to P7, the portion corresponding to the hatched portion is a pre-operation for preparing for using the resource, and the portion corresponding to the hatched portion is a post-operation for cleaning up the used resource. is there. The resource f is a virtual resource VIL.

ステップS1〜S3
装置のオペレータは、未処理の基板Wが収納されたカセット1を投入台3の載置台5に載置する(ステップS1)。図示しない指示部から上述したレシピを指示する(ステップS2)。すると、制御部31は、記憶部37に記憶されているレシピのデータを読み込む(ステップS3)。
Steps S1-S3
The operator of the apparatus places the cassette 1 storing the unprocessed substrates W on the placing table 5 of the loading table 3 (Step S1). The above-described recipe is instructed from an instruction unit (not shown) (step S2). Then, the control unit 31 reads recipe data stored in the storage unit 37 (step S3).

ステップS4
スケジューリング部33は、読み込まれたレシピのデータに基づいて、各処理工程P1〜P7の時間計算を行うとともに、図4に示すように、各処理工程P1〜P7に要する時間に基づいてスケジュールを作成する。このとき、一ロット単独の各処理工程P1〜P7だけのスケジュールを行うので、単バッチのスケジュールと称する。なお、複数のロットが搬入されている場合には、この時点で各ロットについて単バッチのスケジュールを作成する。また、図5に示すように、乾燥処理部LPDのメンテナンスM1についてもスケジュールを作成する。因みに、メンテナンスM1は、乾燥処理部LPDの内部にある槽などの洗浄及び乾燥を行うものであり、時間的には各処理工程P1〜P7に比較して長時間(例えば、40分程度)である。
Step S4
The scheduling unit 33 calculates the time of each processing step P1 to P7 based on the read recipe data, and creates a schedule based on the time required for each processing step P1 to P7 as shown in FIG. To do. At this time, since the schedule for only one processing step P1 to P7 of one lot is performed, it is referred to as a single batch schedule. If a plurality of lots are carried in, a single batch schedule is created for each lot at this point. Further, as shown in FIG. 5, a schedule is also created for the maintenance M1 of the drying processing unit LPD. Incidentally, the maintenance M1 cleans and dries the tank etc. inside the drying processing unit LPD, and is longer in time (for example, about 40 minutes) than the processing steps P1 to P7. is there.

ステップS5
仮想リソース処理部34は、図7に示すように、安全処理部である乾燥処理部LPDのメンテナンスM1にあわせて仮想リソースVILを追加する。
Step S5
As illustrated in FIG. 7, the virtual resource processing unit 34 adds a virtual resource VIL in accordance with the maintenance M1 of the drying processing unit LPD that is a safety processing unit.

ステップS6
仮想リソース処理部34は、単バッチのスケジュール中に、安全処理部である乾燥処理部LPDによる処理工程(P5)がある場合には、仮想リソースVILを追加する。具体的には、図6に示すように、一連の処理工程P2〜P5(前作業及び後作業を除く)で使用するリソース(第2搬送機構WTRと薬液処理部CHB1と第2搬送機構WTRと乾燥処理部LPD)と、安全処理部である乾燥処理部LPDのメンテナンスM1で使用するリソースとで共通の仮想リソースVILを追加する。
Step S6
The virtual resource processing unit 34 adds the virtual resource VIL when there is a processing step (P5) by the drying processing unit LPD that is the safety processing unit in the schedule of the single batch. Specifically, as shown in FIG. 6, resources (second transport mechanism WTR, chemical treatment unit CHB1, second transport mechanism WTR, and the like) used in a series of processing steps P2 to P5 (excluding pre-work and post-work). A common virtual resource VIL is added between the drying processing unit LPD) and the resources used in the maintenance M1 of the drying processing unit LPD, which is a safety processing unit.

ステップS7
スケジューリング部33は、上述した仮想リソースVILが追加された単バッチのスケジュール(図6)と、メンテナンスM1とで全体のスケジュールを行う。具体的には、図8に示すように、単バッチのスケジュールとメンテナンスとで共通の仮想リソースVILが重複することを回避してスケジュールを作成する。なお、この例では、最初に乾燥処理部LPDのメンテナンスを行ってから、ロットの処理を行うようになっている。
Step S7
The scheduling unit 33 performs the entire schedule with the single batch schedule (FIG. 6) to which the virtual resource VIL is added and the maintenance M1. Specifically, as shown in FIG. 8, a schedule is created while avoiding duplication of common virtual resources VIL in a single batch schedule and maintenance. In this example, the lot processing is performed after the dry processing section LPD is first maintained.

このように、安全処理部である乾燥処理部LPDにてメンテナンスM1が行われる場合には、仮想リソースVILの使用を一連の処理工程P2〜P5に対して排他することができるので、安全処理部である乾燥処理部LPDのメンテナンスM1に並行して非安全処理部である薬液処理部CHB1のリソースが使用されることを防止できる。その結果、安全処理部である乾燥処理部LPDにおけるメンテナンスM1が時間的に後ろに延びた場合であっても、ロットに対する過剰処理を防止することができる。   In this way, when the maintenance M1 is performed in the drying processing unit LPD that is a safety processing unit, the use of the virtual resource VIL can be excluded from the series of processing steps P2 to P5. It is possible to prevent the resources of the chemical solution processing unit CHB1, which is a non-safe processing unit, from being used in parallel with the maintenance M1 of the drying processing unit LPD. As a result, even if the maintenance M1 in the drying processing unit LPD, which is a safety processing unit, extends backward in time, excessive processing on the lot can be prevented.

上述したようにして全体のスケジュールが完了すると、処理実行指示部35がそのスケジュールにしたがって各リソースを制御して実際にロットに対する処理を順次に行わせてゆく。   When the entire schedule is completed as described above, the process execution instructing unit 35 controls each resource according to the schedule and actually performs the process on the lot sequentially.

因みに、メンテナンスM1が予定時刻t1よりも遅延して時刻t2となった場合には、図9に示すようにスケジュールが調整される。   Incidentally, when the maintenance M1 is delayed from the scheduled time t1 and reaches the time t2, the schedule is adjusted as shown in FIG.

すなわち、第1搬送機構CTCから第2搬送機構WTRへのロットの搬送が待機状態とされ、ロットは第1搬送機構CTCにおいて待機される。そして、メンテナンスM1が完了した時点(t2)において、第2搬送機構WTRへのロットの搬送が行われ、それ以降が順次にスケジュールされていた時刻から待機時間wtだけ後ろにずらされてゆく。   In other words, the transfer of the lot from the first transfer mechanism CTC to the second transfer mechanism WTR is set in a standby state, and the lot is waited in the first transfer mechanism CTC. Then, when the maintenance M1 is completed (t2), the lot is transported to the second transport mechanism WTR, and the subsequent time is sequentially shifted backward by the waiting time wt from the scheduled time.

なお、上述した一連の処理のうち、仮想リソースVILを使用するのに第2搬送機構WTR(処理工程P2)を含むのは、第2搬送機構WTRがロットを受け取った状態で待機させると、待機状態のロットに対して悪影響が及ぶ恐れがあるからである。   Of the series of processes described above, the second transport mechanism WTR (processing step P2) is included in order to use the virtual resource VIL when the second transport mechanism WTR waits in a state where a lot is received. This is because there is a possibility of adversely affecting the lot in the state.

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施例におけるレシピは一例であり、上記以外のレシピの場合であっても同様の効果を奏する。   (1) The recipe in the Example mentioned above is an example, and even if it is a recipe other than the above, there exists the same effect.

(2)上述した実施例における基板処理装置の構成は一例であり、上記以外の構成の基板処理装置であっても同様の効果を奏する。   (2) The configuration of the substrate processing apparatus in the above-described embodiment is an example, and the same effect can be obtained even with a substrate processing apparatus having a configuration other than the above.

(3)上述した実施例では、安全処理部として乾燥処理部LPDを挙げたが、例えば、安全処理部にあたる純水洗浄処理部ONB1〜3がメンテナンスを行う場合には、上述したようにしてスケジューリングを行うことで同様の効果を奏する。   (3) In the above-described embodiment, the drying processing unit LPD is exemplified as the safety processing unit. However, for example, when the pure water cleaning processing units ONB1 to ONB3 corresponding to the safety processing unit perform maintenance, scheduling is performed as described above. The same effect can be achieved by performing.

実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。It is the top view which showed schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on an Example. 実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。It is the block diagram which showed schematic structure of the substrate processing apparatus which concerns on an Example. スケジュール動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows schedule operation | movement. 単バッチのスケジュール例を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the example of a schedule of a single batch. メンテナンスを示すタイムチャートである。It is a time chart which shows a maintenance. 単バッチに仮想リソースを追加した例を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the example which added the virtual resource to the single batch. メンテナンスに仮想リソースを追加した例を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the example which added the virtual resource to the maintenance. 全体のスケジュールを行った例を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the example which performed the whole schedule. メンテナンスが延びた場合の動作を説明するタイムチャートである。It is a time chart explaining operation | movement when a maintenance is extended.

符号の説明Explanation of symbols

W … 基板
1 … カセット
CTC … 第1搬送機構
WTR … 第2搬送機構
LPD … 乾燥処理部
19 … 第1処理部
ONB1〜ONB3 … 純水洗浄処理部
CHB1〜CHB3 … 薬液処理部
LF1〜LF6 … リフタ
31 … 制御部
33 … スケジューリング部
34 … 仮想リソース処理部
35 … 処理実行指示部
37 … 記憶部
P1〜P7 … 処理工程
VIL … 仮想リソース
M1 … メンテナンス
W ... Substrate 1 ... Cassette CTC ... First transport mechanism WTR ... Second transport mechanism LPD ... Drying processing unit 19 ... First processing unit ONB1-ONB3 ... Pure water cleaning processing unit CHB1-CHB3 ... Chemical solution processing unit LF1-LF6 ... Lifter DESCRIPTION OF SYMBOLS 31 ... Control part 33 ... Scheduling part 34 ... Virtual resource process part 35 ... Process execution instruction | indication part 37 ... Memory | storage part P1-P7 ... Processing process VIL ... Virtual resource M1 ... Maintenance

Claims (4)

基板を待機させることが可能な安全処理部と、基板を待機させることが不可能な非安全処理部とを含む処理部を備えた基板処理装置により、制御部が各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、ロットによる各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
安全処理部に対するメンテナンスに相当するリソースと、非安全処理部による処理に続いて安全処理部による処理を行う一連の処理に相当するリソースとで共通の仮想リソースを定義する過程と、
安全処理部のリソースをメンテナンスで使用する場合には、安全処理部のリソースを使用するとともに前記仮想リソースを使用する過程と、
非安全処理部と安全処理部のリソースをその順に使用する場合には、非安全処理部と安全処理部のリソースを使用するとともに前記仮想リソースを使用する過程と、
仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定する過程と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
A control unit uses resources of each processing unit by a substrate processing apparatus including a processing unit including a safety processing unit capable of waiting for a substrate and a non-safe processing unit capable of not waiting for a substrate. However, when processing a plurality of lots, in the substrate processing apparatus schedule creation method for determining the use timing of each resource by lot,
A process of defining a common virtual resource by a resource corresponding to maintenance for the safety processing unit and a resource corresponding to a series of processing for performing processing by the safety processing unit following processing by the non-safe processing unit;
When using the resource of the safety processing unit for maintenance, the process of using the resource of the safety processing unit and the virtual resource,
When using the resources of the non-safe processing unit and the safe processing unit in that order, the process of using the virtual resource while using the non-safe processing unit and the resource of the safe processing unit,
The process of determining when to use each resource by eliminating duplication of virtual resources;
A method of creating a schedule for a substrate processing apparatus, comprising:
請求項1に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記安全処理部は、ロットに対して乾燥処理を行う乾燥処理部であり、
前記非安全処理部は、ロットに対して薬液による処理を行う薬液処理部であることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus of Claim 1,
The safety processing unit is a drying processing unit that performs a drying process on a lot,
The non-safe processing unit is a chemical processing unit that performs chemical processing on a lot.
請求項1または2に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記制御部は、各処理部が安全処理部であるか非安全処理部であるかを記述した定義ファイルを参照して、処理部ごとに仮想リソースを定義することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
In the schedule preparation method of the substrate processing apparatus of Claim 1 or 2,
The control unit defines a virtual resource for each processing unit with reference to a definition file describing whether each processing unit is a safety processing unit or a non-safe processing unit. Schedule creation method.
基板を待機させることが可能な安全処理部と、基板を待機させることが不可能な非安全処理部とを含む処理部を備えた基板処理装置により、制御部が各処理部のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、ロットによる各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
安全処理部に対するメンテナンスに相当するリソースと、非安全処理部による処理に続いて安全処理部による処理を行う一連の処理に相当するリソースとで共通の仮想リソースを定義するステップと、
安全処理部のリソースをメンテナンスで使用する場合には、安全処理部のリソースを使用するとともに前記仮想リソースを使用するステップと、
非安全処理部と安全処理部のリソースをその順に使用する場合には、非安全処理部と安全処理部のリソースを使用するとともに前記仮想リソースを使用するステップと、
仮想リソースの重複を排除して各リソースの使用タイミングを決定するステップと、
を前記制御部であるコンピュータに実行させることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
A control unit uses resources of each processing unit by a substrate processing apparatus including a processing unit including a safety processing unit capable of waiting for a substrate and a non-safe processing unit capable of not waiting for a substrate. However, when processing multiple lots, in the schedule creation program of the substrate processing apparatus that determines the use timing of each resource by lot,
Defining a common virtual resource between a resource corresponding to maintenance for the safety processing unit and a resource corresponding to a series of processing for performing processing by the safety processing unit following processing by the non-safe processing unit;
When using the resource of the safety processing unit for maintenance, using the resource of the safety processing unit and using the virtual resource,
When using the resources of the non-safe processing unit and the safety processing unit in that order, using the resources of the non-safe processing unit and the safe processing unit and using the virtual resource,
Determining when to use each resource by eliminating duplication of virtual resources;
Is executed by a computer which is the control unit.
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