JP5425547B2 - 基板処理装置、及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、開口部を有する基板に対してイオンビームを照射して所定の処理を行うことが可能な基板処理装置であって、前記基板を保持するための基板キャリアと、前記基板キャリアを挟み、互いに対向配置された、プラズマ中のイオンを引き出すための第1の引き出し機構を有する第1のイオンビーム発生装置および前記第1のイオンビーム発生装置と対向配置され、プラズマ中のイオンを引き出すための第2の引き出し機構を有する第2のイオンビーム発生装置とを備え、前記第1のイオンビーム発生装置および前記第2のイオンビーム発生装置の各々は、前記第1のイオンビーム発生装置および第2のイオンビーム発生装置の間の前記基板キャリアに保持される前記基板にイオンビームを照射するものであり、前記第1の引出し機構は第1の細孔群を備えた第1のグリッドを有すると共に、前記第2の引出し機構は第2の細孔群を備えた第2のグリッドを有し、且つ前記第1のグリッドと前記第2のグリッドと前記基板キャリアに保持される前記基板とが、互いに略平行に配置されており、前記第1のグリッドと前記第2のグリッドにおける前記第1の細孔群と前記第2の細孔群との形状が異なるか、又は前記第1の細孔群と前記第2の細孔群とを、これらの中心軸を中心として互いに所定の角度ずらして配置したことを特徴とする。
図1に示すように、基板処理装置100は、概ね、基板(ウエハ)Wと、基板Wを挟んで対向配置された第1および第2のイオンビーム発生装置1a,1bと、制御部101と、カウンタ103と、コンピュータインターフェース105と、を備えている。
本発明の実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法で用いる製造装置は、図4に示すように、複数の真空排気可能なチャンバ111〜121・・・が無端の方形状に接続配置されたインライン式の製造装置である。そして、各チャンバ111〜121・・・内には、隣接する真空室に基板を搬送するための搬送路が形成され、基板は製造装置内を周回するうちに順次各真空室内での処理が行われる。また、基板は方向転換チャンバ151〜154において搬送方向が転換され、チャンバ間を直線状に搬送されてきた基板の搬送方向を90度転換し、次のチャンバに引き渡す。また、基板はロードロックチャンバ145により製造装置内に導入され、処理が終了すると、アンロードロックチャンバ146により製造装置から搬出される。なお、チャンバ121のように、同じ処理を実行可能なチャンバを複数個連続して配置し、同じ処理を複数回に分けて実施させてもよい。これにより、時間がかかる処理もタクトタイムを伸ばすことなく実施できる。図4では、チャンバ121のみ複数個配置しているが、他のチャンバを複数個配置してもよい。
1b 第2のイオンビーム発生装置
7 引出し電極
10a 第1のグリッド
10b 第2のグリッド
100 基板処理装置
Claims (4)
- 開口部を有する基板に対してイオンビームを照射して所定の処理を行うことが可能な基板処理装置であって、
前記基板を保持するための基板キャリアと、
前記基板キャリアを挟み、互いに対向配置された、プラズマ中のイオンを引き出すための第1の引き出し機構を有する第1のイオンビーム発生装置および前記第1のイオンビーム発生装置と対向配置され、プラズマ中のイオンを引き出すための第2の引き出し機構を有する第2のイオンビーム発生装置とを備え、
前記第1のイオンビーム発生装置および前記第2のイオンビーム発生装置の各々は、前記第1のイオンビーム発生装置および第2のイオンビーム発生装置の間の前記基板キャリアに保持される前記基板にイオンビームを照射するものであり、
前記第1の引出し機構は第1の細孔群を備えた第1のグリッドを有すると共に、前記第2の引出し機構は第2の細孔群を備えた第2のグリッドを有し、且つ前記第1のグリッドと前記第2のグリッドと前記基板キャリアに保持される前記基板とが、互いに略平行に配置されており、
前記第1のグリッドと前記第2のグリッドにおける前記第1の細孔群と前記第2の細孔群との形状が異なるか、又は前記第1の細孔群と前記第2の細孔群とを、これらの中心軸を中心として互いに所定の角度ずらして配置したことを特徴とする基板処理装置。 - 前記第1のグリッドと前記第2のグリッドとは、少なくとも前記第1の細孔群と前記第2の細孔群の中心領域の形状が異なることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記第1のグリッドまたは前記第2のグリッドの少なくとも一方に、前記第1の細孔群と前記第2の細孔群とを、これらの中心軸を中心として互いに所定の角度回転させるグリッド回転機構が備えられていることを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 請求項1に記載の基板処理装置を用いて磁気記録媒体を製造する製造方法であって、
開口部を有する基板を保持する基板キャリアを前記領域に配置する工程と、
前記基板の一方の処理面に対して前記第1のイオンビーム発生装置によりイオンビームを照射し、前記基板の他方の処理面に対して前記第2のイオンビーム発生装置によりイオンビームを照射する工程と
を有することを特徴とする製造方法。
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