JP5419350B2 - 直接塩素化により１，２−ジクロロエタンを製造する方法および装置 - Google Patents

Description

本発明は、主として塩化ビニルモノマー（以下ＶＣＭと呼ぶ）の製造の中間生成物として役立ち、そこから最終的にポリ塩化ビニルＰＶＣが製造される１，２−ジクロロエタン（以下ＥＤＣと呼ぶ）を製造する方法および装置に関する。ＥＤＣからＶＣＭへの反応時に塩化水素ＨＣｌが発生する。ＥＤＣはそれゆえ有利にはエチレンＣ_２Ｈ_４および塩素Ｃｌ_２から、反応時に生成され消費される塩化水素ＨＣｌに関して、均衡の取れた収支が以下の反応式に応じて達成されるように製造される：
Cl₂ + C₂H₄ → C₂H₄Cl₂ (純EDC) + 218kJ/Mol (1)
C₂H₄Cl₂ (分解EDC) → C₂H₃Cl (VCM) + HCl - 71kJ/Mol (2)
C₂H₄ + 2HCl + 1/2 O₂ → C₂H₄Cl₂ (粗EDC) + H₂O + 238kJ/Mol (3)。

均衡の取れたＨＣｌ収支でもってＶＣＭを製造する方法（以下短く「均衡ＶＣＭ法（ａｕｓｇｅｗｏｇｅｎｅｓ ＶＣＭ−Ｖｅｒｆａｈｒｅｎ）」と呼ぶ）は、以下の工程を有している：
・直接塩素化では、エチレンＣ_２Ｈ_４および塩素Ｃｌ_２から、必要なＥＤＣの一部分が均一系触媒の存在下で生成され、「純ＥＤＣ」として放出される；
・オキシ塩素化では、エチレンＣ_２Ｈ_４、塩化水素ＨＣｌおよび酸素Ｏ_２から、ＥＤＣの別の部分が生成され、「粗ＥＤＣ」として放出される；
・分留式のＥＤＣ精製では、粗ＥＤＣから、ＶＣＭ分留からリサイクルされた還流ＥＤＣおよびオプションとしての純ＥＤＣと共に、オキシ塩素化およびＥＤＣ熱分解で生成された副生物が除去され、それにより、ＥＤＣ熱分解での使用のために適した「供給ＥＤＣ」が獲得され得る。選択的に、直接塩素化に由来する純ＥＤＣがＥＤＣ蒸留の高沸塔内で一緒に蒸留されてもよい；
・ＥＤＣ熱分解では、供給ＥＤＣが熱分解される。分解ガスと呼ばれる反応器排出混合物は、ＶＣＭ、塩化水素ＨＣｌ、未反応ＥＤＣならびに副生物を有する；
・ＶＣＭ分留では、生成物として所望の純ＶＣＭが分解ガスから分離され、その他の主要な分解ガス成分、すなわち塩化水素ＨＣｌおよび未反応ＥＤＣが材料として別個に回収され、再利用可能な投入分、つまり還流ＨＣｌもしくは還流ＥＤＣとして、均衡ＶＣＭ法内でリサイクルされる。

直接塩素化における反応媒体として、大抵の場合産業上の尺度で使用される方法では、反応生成物であるＥＤＣの循環流が役立つ。反応生成物ＥＤＣは、外側または内側の循環を有するループ型反応器（Ｓｃｈｌａｕｆｅｎｒｅａｋｔｏｒ）内で生成され得る。さらに、循環流は強制循環または自然循環により形成され得る。触媒として、とりわけ塩化鉄（ＩＩＩ）が使用される。付加的に、高沸点物質の生成を回避し得る塩化ナトリウムが、添加剤として使用され得る。

直接塩素化に関する背景技術は、例えば独国特許出願公開第１９９１０９６４号明細書に記載されている。独国特許出願公開第１９９１０９６４号明細書に記載された方法では、副反応、とりわけＥＤＣがさらに１，１，２−トリクロロエタンへと塩素化される副反応は、塩素化反応が均一な液相でほぼ進行することにより抑制されるはずである。塩素に比べてＥＤＣに溶解しにくいエチレンは、並流式気泡塔内で、循環する反応媒体ＥＤＣの主流に完全に溶解される。エチレンに比べてＥＤＣに溶解しやすい塩素は、過冷却されたＥＤＣ分流に溶解され、そうして得られた、ＥＤＣに塩素を溶解した溶液は、エチレンが既に溶解されている循環主流に添加される。

反応（１）は一般に僅かなエチレン過剰でもって運転される。それにより、反応系内の腐食問題、副生物生成の増大ならびに塩素を含む排ガス流の処理に関連する問題は、いずれにせよ回避され得る。塩素およびエチレンは反応器に比率制御部を介して供給される。基準量として反応器排出流のエチレン含有量が役立つ。その際、経済的な理由から常に、過度に大きなエチレン損失を回避するために、反応器出口におけるエチレン過剰をできるだけ低く維持するように努められている。

さらに、国際公開第０３／０７０６７３号パンフレットにも記載されているように、反応（１）が、特に完全に液相反応として行われると、大きな副生物生成なしに進行することが判っている。そのためには、エチレンを反応管内でなお、溶解された塩素の添加前に完全に溶解する必要がある。ガス分配器により当初形成される小さなガス気泡は、この区間に沿って凝集して成長し、最終的に、凝集プロセスおよび崩壊プロセスに起因するコンスタントな均衡サイズに到達する。このことは、物質移動に不都合な影響を及ぼす効果である。それというのも、気泡直径の拡大により、ある特定のガス総体積時に、物質移動のために供与される表面が小さくなってしまうからである。

引き続いてのほぼ均一な反応域での反応（１）は速度論的に二次の速度法則（Ｇｅｓｃｈｗｉｎｄｉｇｋｅｉｔｓｇｅｓｅｔｚ ２． Ｏｒｄｎｕｎｇ）にしたがって経過する。両方の反応物が当初化学量論比にあるか、または一方の反応物が軽微な過剰状態にあるとき、この反応は、一方の反応物、例えばエチレンが反応（１）において当初、比較的大きな過剰状態にある場合に比べてゆっくりと経過する。ここで述べた類の反応器にとって、当初の比較的大きなエチレン過剰は、当初の比較的小さなエチレン過剰時に比べて、反応が、反応媒体の循環流内の比較的短い流動区間後に完了することを意味している。

エチレンの溶解時の効果、反応自体の効果および沸騰の利用時の効果の重畳は、従来慣用の背景技術において、沸騰型反応器（Ｓｉｅｄｅｒｅａｋｔｏｒ）の寸法設定を規定し、事後的な容量拡大をかなり困難にしてしまう。
「先行技術文献」
「特許文献」
「特許文献１」独国特許出願公開第１９９１０９６４号明細書
「特許文献２」国際公開第０３／０７０６７３号パンフレット

本発明の課題はそれゆえ、外的な反応器寸法を拡大することなく容量拡大を可能にすると同時に、高純度のＥＤＣを生成する経済的な方法ならびに所属の装置を提供することである。

この課題は特許請求項１記載の方法により解決される。本発明はこの課題を、
・少なくとも３つの複数の添加区分を、ループの、液体が上昇する辺内に配置し、
・前記添加区分がそれぞれ、溶解されたまたはガス状のエチレンの、上流側に置かれた供給部と、溶解された塩素の、下流側に置かれた供給部とから成り、さらに静止型の混合装置を備えていることができるようにする
ことにより解決する。供給部は一般的に噴射ノズルとして構成されるが、別の形式で構成されていてもよい。

上記添加区分により規定される複数の反応区間を反応器ループの上昇管内に導入することにより、以下の利点が得られる。すなわち、相前後して接続したことにより、最後尾の反応区間を除くすべての反応区間が、高いエチレン過剰でもって運転され得る。このことは、反応区間のかなりの短縮に至り、ひいては複数の反応区間を経済的な構成サイズの反応管内に収容する可能性を開く。つまり、ある特定の反応器サイズで、極めて高い生産容量が実現され得る。その都度前置された反応区間の未反応エチレンは、溶解された状態で、後続の溶解区間もしくは反応区間内に搬送される。反応器出口の手前に配置された最後尾の反応区間を除くすべての反応区間のエチレン／塩素比は、有利には固定的に設定される。最後尾の反応区間のエチレン／塩素比はそれに対して従来慣用の形式で制御される。その際、基準量として、反応器を後にしたガス流のエチレン含有量が役立つ。

その際付加的に、多くの反応区間が導入されればされるほどもしくは多くのＥＤＣがここで述べた類の反応器ループ内で生産されればされるほど、生産されるＥＤＣの量に対するエチレン損失がますます低下するという驚くべき利点が得られる。その理由は、系全体のエチレン損失が最後尾の反応区間のエチレン損失に等しいにすぎず、前置された反応区間が損失なしに運転されるという点にある。反応が、国際公開第０３／０７０６７３号パンフレットに記載された方法と同様にやはり液相で行われるので、この系の利点、特に、極めて低い副生物生成は、相対的に高い反応温度においても完全に維持されたままである。反応区間の付加的な短縮は、反応区間の上記直列接続が、エチレン溶解もしくは反応の工程の、静止型の混合エレメントの使用による助成と組み合わされると達成される。

複数のエチレン添加箇所が反応器ループの上昇管内に導入されることにより、上昇管内の平均的なガス含有量、ひいては自然循環のために常に必要な駆動力が高められる。それゆえ、静止型の混合器をそれぞれの反応区間に組み込むことが可能となる。静止型の混合器の使用は、確かに欧州特許出願公開第９０７６２６号明細書から実際に公知であるが、静止型の混合器はその圧力損失に基づき、別の方法では、エネルギーのかかる、方法の経済性を悪化させるポンプ循環により運転されねばならないか、または自然循環を行う反応器ループへの導入時にその制御特性、特に部分負荷特性に対して不都合な影響を及ぼしてしまう。

本発明の別の構成では、下流側の最後尾の添加区分を除くすべてのエチレン添加箇所で、その都度化学量論的に著しく過剰なエチレン量が供給される。１０％〜２０％の分だけ化学量論的に過剰なエチレン量の添加が特に経済的であることが判っている。添加の増加により、確かにそれぞれの溶解区間は相応に拡大するが、そのために反応は全体的により急速に経過する。このことは概して構成高さの節減に至り、より多くの添加箇所を収納し、反応の反応率を拡大することを可能にする。

全体的にこうして、本発明による形式で改造したことにより、従来慣用の構成サイズの沸騰型反応器でもって、反応（１）にしたがった少なくとも二倍の反応率を達成することが可能である。本発明の大きな利点はそれゆえ、既存の設備における容量拡大時の簡単な拡張性にある。もちろん、沸騰型反応器に既に計画当初から本発明による供給装置を装備することも、経済的に、特に大きな設備時に有意義である。

本発明による沸騰型反応器は優れた部分負荷特性によっても特徴付けられる。それというのも、個々の添加箇所が運転中に停止されることもできるからである。このことは本発明の別の利点である。有利には、まず、より上側に置かれた添加箇所を停止し、圧力を低下させる。その結果、生成ＥＤＣはより早期に沸騰する。それにより、反応率が比較的小さい場合にも、静止型の混合器が設けられる限り惹起されてしまう圧力損失は、補償されることができる。

本発明は上記方法を実施するための装置も含む。本発明による装置は、脱気容器と、自然循環で運転される反応ループと、生成ＥＤＣのための抜取り装置とから成る沸騰型反応器を有し、かつ溶解された塩素およびエチレンのためのそれぞれ少なくとも２つの添加装置を有している。装置はオプションとして静止型の混合装置を有していてもよい。

本発明について以下に一例をもとに詳説する。図１は直接塩素化反応器を示す。直接塩素化反応器は脱気容器１およびループ２から成る。ループ２内を、液状のＥＤＣ３が、矢印で示すように循環し、その中で、反応（１）が遂行される。図１はさらに塩素およびエチレンのための本発明による添加箇所を示す。

ガス状の、圧力下にあるエチレン４が、制御弁を介してエチレン添加箇所５，６および７に分配される。エチレン添加箇所は、図１に点で象徴的に示すが、微細な気泡が発生するように構成される。微細な気泡は溶解区間８，９および１０で迅速に溶解し得る。溶解区間８，９および１０内には、オプションとして、静止型の混合器３１，３２および３３が組み込まれ得る。

送入したい塩素はまずＥＤＣに溶解される。そのために、生成ＥＤＣの分流１１が脱気容器１から抜き取られ、不連続的な排出流であってもよいＥＤＣ流１２と、溶液流１３とに分割される。溶液流１３は引き続いてポンプ１４により冷却器１５に圧送され、次いで塩素混入部１６に圧送される。塩素混入部１６で、ガス状の塩素１７が供給される。塩素溶液１８は制御下で塩素添加箇所１９，２０および２１に分配され、ノズルによりループ２内に噴射される。その際、できるだけ大きな渦流が形成される。

塩素添加箇所１９，２０および２１の上側には反応区間２２，２３および２４が接続されている。反応区間２２，２３および２４内で反応１が純粋な液相で起こる。混合を改善するために、反応区間２２，２３および２４内には、静止型の混合器２５，２６および２７が組み込まれている。

ループ２の上側の領域で反応区間２４に沸騰領域２８が接続されている。このことは気泡形成により図１に示されている。蒸気状のＥＤＣは脱気容器１の蒸気室２９内に抜け、蒸気状のＥＤＣ生成物３０として導出される。

本発明について以下に１つの算出例をもとに詳説する。反応器ループ２内を、８０００ｔ／ｈの液状のＥＤＣ３が、９０℃〜１３５℃の温度で循環する。添加箇所５を介して、３１７ｋｍｏｌ／ｈに相当する８８９２ｋｇ／ｈの量のガス状のエチレンが供給される。このガス状のエチレンは流動区間８に沿って循環ＥＤＣ３に溶解する。

脱気容器１から、１１４０ｔ／ｈの量の液状のＥＤＣ（流１３）が取り出され、ポンプ１４により熱交換器１５を通して圧送され、そこで３０℃〜６０℃の温度に冷却される。塩素混入部１６で、冷却されたＥＤＣ流に、８６４ｋｍｏｌ／ｈに相当する６１２６０ｋｇ／ｈの量のガス状または液状の塩素が混合される。そうして得られた塩素溶液１８は、それぞれ３８０ｔ／ｈのＥＤＣと２８８ｋｍｏｌ／ｈに相当する２０４２０ｋｇ／ｈの塩素とから成る３つの等しい分流に分割される。これらの３つの分流は添加箇所１９，２０および２１を介して反応器ループ２内に供給される。

択一的には（図１には示されていないものの）、１１４０ｔ／ｈのＥＤＣから成る冷却されたＥＤＣ流がまず、それぞれ３８０ｔ／ｈのＥＤＣから成る３つの等しい分流に分割され、これらの３つのＥＤＣ分流のそれぞれに、別個の塩素混入部を介して、２８８ｋｍｏｌ／ｈに相当する２０４２０ｋｇ／ｈの量のガス状または液状の塩素が混合されるようにしてもよい。この場合も、ＥＤＣに塩素を溶解した溶液の、それぞれ３８０ｔ／ｈのＥＤＣと２０４２０ｋｇ／ｈの塩素とから成る３つの分流が得られ、添加箇所１９，２０および２１を介して反応器ループ２内に供給される。

反応器ループの上昇管において下から上に見て先頭の、区間８に沿って循環ＥＤＣ流３に溶解したエチレン流５は、ＥＤＣに塩素を溶解した溶液の分流１９と混合される。反応物としての塩素およびエチレンは液相で反応区間２２に沿って反応し、ＥＤＣを生成する。溶解されたエチレンが１０％のモル過剰で存在しているので、溶解された塩素の反応は、反応物が等モル状態にあるか、またはエチレンが僅かな過剰状態にあるにすぎない場合に比べて明らかに急速に行われる。反応熱は循環ＥＤＣ３の加熱に至る。混合される塩素溶液が循環ＥＤＣ３よりも明らかに低い温度を有しているので、反応熱の一部は反応器内容物の温度レベルへの塩素溶液の加熱により導出される。それにより、ならびに反応器圧力の適当な調節により、下側の反応域での沸騰、ひいては副生物生成の強化は抑制される。

溶解された塩素の反応後、次に反応器ループの上昇管において下から数えて２番目のエチレン溶解区間９内に進入する循環ＥＤＣ３は、既に溶解されたエチレンを有している。エチレン溶解区間９内に、ＥＤＣ３と共に、２９ｋｍｏｌ／ｈに相当する８１４ｋｇ／ｈの量の溶解されたエチレンが搬送される。そこで、エチレン添加箇所６を介して、２８８ｋｍｏｌ／ｈに相当する８０７８ｋｇ／ｈの量のガス状のエチレンが供給される。このエチレンはエチレン溶解区間９に沿って循環ＥＤＣ３に溶解する。エチレン溶解区間９の通走後、再び、３１７ｋｍｏｌ／ｈに相当する８８９２ｋｇ／ｈの溶解されたエチレンがＥＤＣ３内に存在する。

同様に次に、ＥＤＣに溶解された塩素の分流２０の添加と、反応区間２３に沿ったＥＤＣの生成下での塩素およびエチレンの反応とが行われる。ここでも、冷却された塩素溶液流の冷却作用ならびに反応器圧力の適当な調節により、反応混合物の沸騰は抑制される。エチレンの１０％のモル過剰により、ここでも塩素の迅速な反応が行われる。

エチレン損失と、生成ＥＤＣにおける溶解されたエチレンの過度に高い割合とは、経済的に不都合であるもしくは後続のプロセスステップにおいて望ましくないので、反応器ループの上昇管における最後尾の、最も高い位置に配置された反応区間は、僅かばかりのエチレン過剰でもって運転される。

第１の反応区間後と同様に、２９ｋｍｏｌ／ｈに相当する８１４ｋｇ／ｈの溶解されたエチレン量がエチレン溶解区間１０内に搬送される。エチレン供給部７を介して、２６０ｋｍｏｌ／ｈに相当する７２８９ｋｇ／ｈの量のガス状のエチレンが供給される。このエチレンはエチレン溶解区間１０に沿って循環ＥＤＣに溶解する。

その後、ＥＤＣに溶解された塩素の分流２１が添加される。その際、エチレンは０．３５％のモル過剰で存在しているにすぎない。それにより、反応区間２４は反応区間２２および２３に対して明らかに延長される。反応区間２４の通走後、静水圧は、反応混合物が沸騰を開始し、反応生成物がガス状に脱気容器１から抜き取られることができるまで低下する。

直接塩素化反応器を示す図である。

符号の説明

１ 脱気容器
２ ループ
３ 液状のＥＤＣ
４ エチレン
５ エチレン添加箇所
６ エチレン添加箇所
７ エチレン添加箇所
８ 溶解区間
９ 溶解区間
１０ 溶解区間
１１ 分流
１２ ＥＤＣ流
１３ 溶液流
１４ ポンプ
１５ 冷却器
１６ 塩素混入部
１７ ガス状の塩素
１８ 塩素溶液
１９ 塩素添加箇所
２０ 塩素添加箇所
２１ 塩素添加箇所
２２ 反応区間
２３ 反応区間
２４ 反応区間
２５ 静止型の混合器
２６ 静止型の混合器
２７ 静止型の混合器
２８ 沸騰領域
２９ 蒸気室
３０ 蒸気状のＥＤＣ生成物
３１ 静止型の混合器
３２ 静止型の混合器
３３ 静止型の混合器

Claims (5)

1. ほぼ１，２−ジクロロエタンおよび触媒から成り、鉛直に配置されループとして形成された少なくとも１つの反応区間を通走する循環案内される液状の反応媒体の使用下で、互いに接触させられる溶解された塩素および溶解されたエチレンから、高純度の１，２−ジクロロエタンを製造する方法であって、前記ループの両辺が、上側に配置された脱気容器に接続されており、該脱気容器から、反応生成物がガス状または液状で排出されるか、またはガス状でも液状でも排出されるようになっている方法において、
   少なくとも３つの複数の添加区分を、ループの、液体が上昇する辺内に配置し、
   前記添加区分がそれぞれ、溶解されたまたはガス状のエチレンの、上流側に置かれた供給部と、溶解された塩素の、下流側に置かれた供給部とから成る
   ことを特徴とする、直接塩素化により１，２−ジクロロエタンを製造する方法。
2. 前記添加区分がそれぞれ、さらに静止型の混合装置を備えていることを特徴とする、請求項１記載の方法。
3. 下流側の最後尾の添加区分を除くすべてのエチレン添加箇所で、その都度化学量論的に著しく過剰なエチレン量を供給する、請求項１または２記載の方法。
4. 請求項１記載の方法を実施するためのループ型反応器において、
   鉛直に配置されループとして形成された反応区間が設けられており、
   前記ループの両辺が、上側に配置された脱気容器に接続されており、該脱気容器から、反応生成物がガス状または液状で排出されるか、またはガス状でも液状でも排出されることができ、
   前記ループの、液体が上昇する辺内に配置されている少なくとも３つの添加区分が設けられており、
   前記添加区分がそれぞれ、溶解されたまたはガス状のエチレンの、上流側に置かれた供給部と、溶解された塩素の、下流側に置かれた供給部とから成っている
   ことを特徴とする、請求項１記載の方法を実施するためのループ型反応器。
5. 前記添加区分がそれぞれ、さらに静止型の混合装置を備えていることを特徴とする、請求項４記載のループ型反応器。

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