JP5412528B2 - 検査方法、検査システム、基板、およびマスク - Google Patents
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Description
本願は、2008年12月30日に出願された米国仮特許出願第61/141,410号の利益を主張するものであり、参照により、この特許出願の全体を本明細書に組み込む。
特許請求の範囲を解釈するのに、発明の概要の節および要約の節ではなく、発明を実施するための形態の節が用いられるように意図されていることを理解されたい。発明の概要の節および要約の節は、本発明者によって企図された1つまたは複数の本発明の例示的実施形態を説明することができるが、すべての例示的実施形態を説明するものではなく、したがって、これらの節は、決して本発明および添付の特許請求の範囲を限定するようには意図されていない。
Claims (24)
- 露光装置の焦点関連の特性を測定する方法であって、
i)測定されるべき前記露光装置および、ii)プリントパターンを生成するためのパターンを含むパターニングデバイスを使用して基板表面上にパターンをプリントする工程であって、前記パターニングデバイスのパターンが、前記露光装置の焦点関連の特性の変化と共に変化するプリントパターンを生じさせるように設計される、工程と、
前記基板表面上の前記プリントパターン上に放射ビームを投影する工程と、
前記基板表面上の前記プリントパターンから反射された放射を検出する工程と、
前記検出された放射を用いて前記プリントパターン内の非対称性を測定する工程と、
前記非対称性から前記露光装置の前記焦点関連の特性を求める工程とを含み、
前記プリントパターンが1つまたは複数の構造体を備え、前記露光装置の前記焦点関連の特性の変化が、前記1つまたは複数の構造体の前記非対称性の変化から求められる方法。 - 前記非対称性が、前記プリントパターン内の構造体の側壁角度の測定値の差を含む請求項1に記載の方法。
- 前記パターニングデバイスのパターンが、2次元でx方向およびy方向に繰り返される請求項1に記載の方法。
- 前記プリントパターンの内部に構造体のプロファイルを生成する工程をさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記測定する工程が、前記プロファイルを用いて前記プリントパターン内部の前記構造体の2つの面の側壁角度を比較する工程を含む請求項4に記載の方法。
- 前記検出する工程が、ディテクタの瞳面で行われる請求項1に記載の方法。
- 前記プリントパターンの反対向きの非対称性を生じさせる2つのパターニング手段のパターンを使用することにより、前記検出する工程で用いられるディテクタの非対称性を求める工程をさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記パターニング手段のパターンが、前記露光装置によって分解することができないサブ分解能構造体を、前記パターンの内部に、前記サブ分解能構造体が前記基板表面上のプリントパターンでは分解されないように備える請求項1に記載の方法。
- 前記プリントする工程が、前記基板表面上にパターン付き放射ビームを向ける工程を含み、前記求める工程が、前記パターニングデバイスのパターン内の前記サブ分解能構造体によってもたらされた前記プリントパターンの前記構造体の変位を測定する工程と、焦点はずれと前記サブ分解能構造体によるプリントされたラインの前記変位との所定の関係を参照することにより、前記パターン付き放射ビームの焦点はずれの大きさを求める工程とを含む請求項8に記載の方法。
- 露光装置で使用するマスクであって、基板上にパターンをプリントするためのパターンを備えており、前記プリントパターンが前記露光装置の焦点関連の特性の変化と共に変化する側壁角度測定値を有する1つまたは複数の構造体を含むように、前記マスクパターンが構成されており、
前記1つまたは複数の構造体のうち1つが、前記露光装置からの露光放射の焦点はずれが増加するのにつれて増加する非対称性を有する2つの反対向きの側壁角度を含むマスク。 - 前記マスクパターンが、前記露光装置によって分解できないために前記プリントパターン内では分解されない構造体を備える請求項10に記載のマスク。
- 前記マスクパターンが周期的なデュアルライン母集団を備える請求項10に記載のマスク。
- 前記マスクパターンが、前記プリントパターンに1次元構造体を生じさせる2次元構造体を備える請求項10に記載のマスク。
- その表面上にプリントされたパターンを備える基板であって、前記プリントパターンが、前記パターンをプリントするのに使用された露光装置の焦点関連の特性の変化と共に変化する側壁角度測定値を有する1つまたは複数の構造体を含み、
前記1つまたは複数の構造体が、2つの側壁を備え、これらの側壁のそれぞれの角度間の非対称性が、前記パターンをプリントするのに用いられる露光放射の焦点はずれの増加と共に増加する基板。 - 露光装置の焦点関連の特性を測定するための検査システムであって、
測定されるべき前記露光装置を使用して基板上にプリントするためのパターンを含むパターニングデバイスであって、前記プリントパターンが前記露光装置の焦点関連の特性の変化と共に変化するパターニングデバイスと、
前記基板上の前記プリントパターン上に放射ビームを投影し、
前記基板上の前記プリントパターンから反射される放射を検出し、
前記検出された放射を用いて前記プリントパターン内の非対称性を測定して、
前記パターンの非対称性から前記露光装置の前記焦点関連の特性を求めるように構成された検査装置とを備え、
前記プリントパターンが1つまたは複数の構造体を備え、前記検査装置が、前記露光装置の前記焦点関連の特性の変化を、前記1つまたは複数の構造体の前記非対称性の変化から求めるように構成されている検査システム。 - 前記非対称性が、前記1つまたは複数の構造体の側壁角度の測定値の差を含む請求項15に記載の検査システム。
- 測定されるべき露光装置およびプリントされるべきパターンを含むパターニングデバイスを使用して基板表面上にパターンをプリントする工程であって、前記パターニングデバイスのパターンが、前記露光装置の焦点関連の特性の変化と共に変化するプリントパターンを生成するように構成されている、工程と、
前記基板表面上の前記プリントパターン上に放射ビームを投影する工程と、
前記基板表面上の前記プリントパターンから反射された放射を検出する工程と、
前記検出された放射を用いて前記プリントパターン内の非対称性を測定する工程と、
前記非対称性から前記露光装置の焦点関連の特性を求める工程とを含み、
前記プリントパターンが1つまたは複数の構造体を備え、前記露光装置の前記焦点関連の特性の変化が、前記1つまたは複数の構造体の前記非対称性の変化から求められる方法。 - 前記非対称性が、前記1つまたは複数の構造体の側壁角度の測定値の差を含む請求項17に記載の方法。
- 前記パターニングデバイスのパターンが、2次元でx方向およびy方向に繰り返される請求項17に記載の方法。
- 前記プリントパターンの内部に構造体のプロファイルを生成する工程をさらに含む請求項17に記載の方法。
- 前記検出する工程が、ディテクタの瞳面で行われる請求項17に記載の方法。
- 前記プリントパターンの反対向きの非対称性を生じさせる2つのパターニングデバイスのパターンを使用することにより、前記検出する工程で用いられるディテクタの非対称性を求める工程をさらに含む請求項17に記載の方法。
- 前記露光装置によって分解することができないサブ分解能構造体を前記パターンの内部に備える前記パターニングデバイスのパターンを、前記サブ分解能構造体が前記基板表面上のプリントパターンでは分解されないように使用する工程をさらに含む請求項22に記載の方法。
- 前記プリントする工程が、前記基板表面上にパターン付き放射ビームを向ける工程を含み、
前記求める工程が、前記パターニングデバイスのパターン内の前記サブ分解能構造体によってもたらされた前記プリントパターンの構造体の変位を測定する工程と、焦点はずれと前記サブ分解能構造体によるプリントされたラインの前記変位との所定の関係に基づいて、前記パターン付き放射ビームの焦点はずれの大きさを求める工程とを含む請求項23に記載の方法。
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