JP5398696B2 - ウェットエッチング装置 - Google Patents
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Description
実施の形態1にかかるウェットエッチング装置100について図1を用いて説明する。図1は、実施の形態1にかかるウェットエッチング装置100の構成を示す模式図である。
次に、実施の形態2にかかるウェットエッチング装置200について図4〜図6を用いて説明する。図4は、実施の形態2にかかるウェットエッチング装置200の構成を示す模式図である。図5は、エッチング槽203における隔離板211を斜め方向から透視した斜視透視図である。図6は、隔離板211における開口部の断面形状を示す図である。以下では、実施の形態1と異なる部分を中心に説明する。
3、3i、203、203i エッチング槽
3a、203a エッチング部
3b 沈殿部
6、206 循環路
6a 排出路
6b、206b 供給路
6c 連絡路
7 循環ポンプ
8 反応生成物除去部
9 太陽電池セル(基板)
10 キャリア
11、11i、211、211i 隔離板
11a−1等、11ai−1等、211a−1等、211ai−1等 開口部
12 ケイ酸ナトリウム(反応性生物)
100、100i、200、200i ウェットエッチング装置
Claims (4)
- エッチング液を収容するエッチング槽を備え、
前記エッチング槽は、
基板がエッチング液中に浸漬され前記基板のエッチング処理が行われるエッチング部と、
前記エッチング槽における前記エッチング部より底面側に配された沈殿部と、
前記エッチング部と前記沈殿部とを隔てるとともに、前記エッチング部と前記沈殿部とをそれぞれ連通する複数の開口部を有する隔離板と、
前記沈殿部に連通され、前記沈殿部におけるエッチング液を排出する排出路と、
前記排出路により排出されたエッチング液に含まれる反応生成物を除去して供給路へ導く除去部と、
前記除去部により導かれたエッチング液を前記エッチング部へ再び供給する前記供給路と、
を有し、
前記沈殿部には、前記エッチング処理における反応生成物が沈殿し、
前記排出路は、前記反応生成物を含めて前記沈殿部におけるエッチング液を排出する
ことを特徴とするウェットエッチング装置。 - 前記供給路は、前記エッチング部に連通され、前記除去部により導かれたエッチング液を前記隔離板の上面に沿った方向から前記エッチング部へ供給する
ことを特徴とする請求項1に記載のウェットエッチング装置。 - 前記隔離板は、前記エッチング液を加熱できる
ことを特徴とする請求項1または2に記載のウェットエッチング装置。 - 前記複数の開口部のそれぞれは、前記エッチング部に近い部分の幅が前記沈殿部に近い部分の幅より大きい
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のウェットエッチング装置。
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